双向阻断型浪涌保护器件
    31.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101702508A

    公开(公告)日:2010-05-05

    申请号:CN200910199068.6

    申请日:2009-11-19

    Abstract: 本发明涉及一种新型的双向阻断型浪涌保护器件,由耗尽型场效应晶体管和电阻构成,第一、第二耗尽型场效应晶体管的源极分别与第三耗尽型场效应晶体管的源极和漏极相串联,第一耗尽型场效应晶体管的漏极与模块输入端相连,栅极与第二耗尽型场效应晶体管的源极相连;第二耗尽型场效应晶体管的漏极与模块输出端相连,栅极与第一耗尽型场效应晶体管的源极相连;第三耗尽型场效应晶体管的栅极与第一、第二电阻均相连,第一电阻的另一端与模块输入端相连,第二电阻的另一端与模块输出端相连。本发明形成类似可重置保险丝的可变电阻电路,可无限次重复阻断复位,双向阻断型浪涌保护器件还可实现正反向浪涌的阻断,提升阻断型浪涌保护器件的性能。

    一种新型降低正向残压的单向保护器件

    公开(公告)号:CN110600469A

    公开(公告)日:2019-12-20

    申请号:CN201910966061.6

    申请日:2019-10-12

    Abstract: 本发明公开了一种新型的降低正向残压的单向保护器件,其特征在于,包括N型衬底硅片,在N型衬底片正面有推结较深的P型扩散区和推结较深的N型扩散区,在推结较深的P型扩散区有推结较浅的N型杂质扩散区和P型杂质扩散区,推结较深的N型扩散区通过金属与P型杂质扩散区相连,N型杂质扩散区通过氧化层开孔蒸发金属作为整个器件阴极引出;器件背面有推结较深的N型扩散区和推结较浅的P型杂质扩散区,两个扩区通过金属相连形成器件阳极引出。本发明通过在单向负阻结构中增加PNPN器件,并且将PNPN器件的门极通过电阻短路到阳极,从而实现了一种新型的降低正向残压的单向保护器件。

    基于SOI基底的低漏电低电容TVS阵列及其制备方法

    公开(公告)号:CN105489612B

    公开(公告)日:2019-07-23

    申请号:CN201510886621.9

    申请日:2015-12-07

    Abstract: 本发明涉及一种基于SOI基底的低漏电低电容TVS阵列及其制备方法,基于SOI基底的低漏电低电容TVS阵列包括:n型的SOI基底、p+区、n+区、p区、氮化硅隔离、电极,所述的n型SOI基底由Si衬底、SiO2层和n型Si三层结构构成,在P型和/或N型Si衬底上通过扩散或离子注入形成高掺杂PN结,形成PN结区域和中央的TVS区域。本发明所述基于SOI基底的低漏电低电容TVS阵列和现有技术中的TVS器件相比有效的降低了器件的寄生电容和漏电流,降低了器件的功耗,进一步提高了器件的性能。

    一种高功率密度TVS器件及其制造方法

    公开(公告)号:CN108878270A

    公开(公告)日:2018-11-23

    申请号:CN201711108346.3

    申请日:2017-11-09

    CPC classification number: H01L21/187

    Abstract: 本发明公开了一种小型化高功率密度TVS器件及其制造方法,其包括:所述器件包括两个完全相同的TVS芯片,且该两个芯片按照轴对称且晶向对准的方式键合在一起,键合后芯片上下两面金属化且通过锡焊连接固定框架。本发明两个芯片通过Bonding设备实现预键合,高温N2氛围下退火,进一步强化键合强度,从而实现小型化大功率密度TVS器件,满足户外更高浪涌能量的冲击要求。改善现有双芯片叠片工艺的低良率、芯片偏移、倾斜、电压单边不良、漏电流偏大、锡珠等异常。

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