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公开(公告)号：CN1498698A
公开(公告)日：2004-05-26
申请号：CN200310104328.X
申请日：2003-10-24
Applicant: 大日本屏影象制造株式会社
Inventor： 芳谷光明
IPC: B08B5/00
Abstract: 提供一种在收存器内的氛围气体中存在空气流时、能不受空气流的影响而使整个基板的处理结果均匀的基板处理装置。在实施边通过搬运辊(15)移动基板(W)边从喷出喷嘴(20)向基板(W)喷出等离子气体而去除附着在基板(W)上的有机物的处理时，在喷出喷嘴(20)的正下方附近的与基板(W)的行进方向平行的位置处配置2枚侧面整流板(30)，并在喷出喷嘴(20)的下方配置下部整流板(31)。这样，由于通过设置侧面整流板(30)和下部整流板(31)，能够对处理室(10)内的空气流(FL12)进行整流，并能够使等离子气体的气体流(FL11)在基板(W)的端缘部和中央部均匀，所以能够在整个基板(W)上使有机物的去除处理结果均匀。
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公开(公告)号：CN1490092A
公开(公告)日：2004-04-21
申请号：CN03158477.2
申请日：2003-09-11
Applicant: 大日本屏影象制造株式会社
Inventor： 中泽喜之
CPC classification number: H01L21/6838
Abstract: 一种衬底处理设备中的衬底保持装置，包括固定台，它具有一抽吸管和供气管；以及具有用来真空保持衬底的大气流通道的保持元件。保持元件被安置在固定台上。抽吸管通过一管子与压缩机相连，供气管通过管子和电磁线与气体供气部件相连。当衬底保持装置保持住衬底时，压缩机通过抽吸管抽吸大气，使保持元件真空保持住该衬底。当衬底保持装置释放衬底时，在通过抽吸管继续抽吸大气的同时，打开电磁阀通过供气管从气体供气部件供应一种气体。该衬底保持装置和衬底处理设备可抑制颗粒淀积在衬底上。
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公开(公告)号：CN1467793A
公开(公告)日：2004-01-14
申请号：CN03120119.9
申请日：2003-03-07
Applicant: 大日本屏影象制造株式会社
CPC classification number: H01L21/6715 , G03F7/162
Abstract: 执行基片旋转步骤以便使基片以100rpm至500rpm的第一旋转速度在平行于其主平面的平面中旋转。然后，执行第一施用步骤以便通过在从喷嘴输送处理溶液的同时使喷嘴从与旋转中的基片的一个边缘相对的位置移至与基片的旋转中心相对的位置而向基片表面供应处理溶液。接着，执行第二施用步骤以便通过在从喷嘴输送处理溶液的同时使喷嘴停止于与旋转中的基片的旋转中心相对的位置上而向基片表面供应处理溶液。最后，执行薄膜厚度调整步骤以便停止从喷嘴输送处理溶液，并使基片以比第一旋转速度更快的第二旋转速度在平行于其主平面的平面中旋转。
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公开(公告)号：CN1448994A
公开(公告)日：2003-10-15
申请号：CN03107991.1
申请日：2003-03-28
Applicant: 大日本屏影象制造株式会社
IPC: H01L21/304 , H01L21/306 , H01L21/027 , G02F1/13 , B08B3/00
Abstract: 提供这样一种装置，即，在处理槽内边传送基板边向基板供给处理液而对基板进行处理的场合，能够防止含有固化成分的处理液对传送辊和处理槽的内壁面等造成污染。在与基板(1)的下表面接触而对基板进行支持并传送的传送辊(10)的正下方，配置有储液桶(12)，向储液桶内供给显影液使得储液桶内始终充满显影液(14)，传送辊的部分外周面浸在充满储液桶的显影液中。
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公开(公告)号：CN1447187A
公开(公告)日：2003-10-08
申请号：CN03108534.2
申请日：2003-03-26
Applicant: 大日本屏影象制造株式会社
Abstract: 一种外鼓型的图象记录器，该记录器包括一个位于转鼓上方并且具有上料盘和下料盘的进料/卸料装置。该上料盘这样倾斜，使得其在图象记录器主体的正面上的边缘是向下的或者处于较低的高度。为了把一个印片放在上料盘上，该印片通过该料盘的下边缘送到该料盘上。该上料盘具有一个用来提升印片的可移动的抽吸垫。该外鼓型的图象记录器可以方便地把一个大尺寸的图象记录材料或印片通过该倾斜的料盘的上边缘送到该料盘上。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1295026C
公开(公告)日：2007-01-17
申请号：CN200410028733.2
申请日：2004-03-12
Applicant: 大日本屏影象制造株式会社
Abstract: 提供一种不产生颗粒，将处理液高精度地送液的装置。在将抗蚀剂液(处理液)向狭缝喷嘴(41)送液的送液机构(80)中设有抗蚀剂液泵(81)和驱动机构(82)。此外，在抗蚀剂液泵(81)上设有小直径的第1波纹管、大直径的第2波纹管、第1波纹管与第2波纹管的结合部件及构成抗蚀剂液的流路的管。通过驱动机构(82)向图3中下方向移动结合部件，管的内部容积减少，管内的抗蚀剂液被向狭缝喷嘴(41)送液。此外，通过驱动机构(82)向图3中下方向移动结合部件，管的内部容积增加，将抗蚀剂液向抗蚀剂液泵(81)吸引。
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公开(公告)号：CN1288718C
公开(公告)日：2006-12-06
申请号：CN200410031411.3
申请日：2004-03-29
Applicant: 大日本屏影象制造株式会社
Inventor： 光吉一郎
IPC: H01L21/00
CPC classification number: H01L21/67769 , Y10S414/14
Abstract: 当将前敞口单元化箱(80a，80b)分别安装到格架(111d，121c)上时，格架(121a，121b，121c)即分别由气缸(127a，127b，127c)驱动而沿垂直方向运动。前敞口单元化箱(80b)由此移动到前敞口单元化箱(80a)上而形成空间(129)，用以保证前敞口单元化箱(80a)的输送路径。前敞口单元化箱(80a)于是可输送到格架(141)上而不需将前敞口单元化箱(80b)移动到另一格架之上，这样就提高了基片的处理量。
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公开(公告)号：CN1250346C
公开(公告)日：2006-04-12
申请号：CN03154801.6
申请日：2003-08-19
Applicant: 大日本屏影象制造株式会社
Inventor： 芳谷光明
Abstract: 目的在于提供可有效防止从基板上剥离的污染物再次附着到基板上，同时可切实除去附着在基板端部的污染物，可望提高清洗效果的基板处理装置以及基板清洗设备。在该基板处理装置(1)上，一边倾斜传送基板W一边进行清洗处理，从传送方向A上游侧依次设置低压喷出纯水的喷射部(33)、(35)、(37)、(41)、(43)、高压喷出纯水的喷射部(47)、(49)、(55)、喷出纯水与空气的雾状混合流体的喷射部(53)。在各清洗部(7)、(9)、(11)、(13)之间设置作为管状喷嘴等的水流形成部(19)、(21)、(23)，在清洗部(7)的前段以及清洗部(13)的后段，设置液体幕状等的水流形成部(17)、(25)。在水流形成部(25)的后段，设置从装置(1)外的供给线(63)提供未使用过的纯水的喷射部(59)、(61)。
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公开(公告)号：CN1542907A
公开(公告)日：2004-11-03
申请号：CN200410006779.4
申请日：2004-02-26
Applicant: 大日本屏影象制造株式会社
CPC classification number: H01L21/67207 , H01L21/67028 , H01L21/6719 , H01L21/67757
Abstract: 根据本发明的基板处理装置被气密性部件包围，其内部空间进一步用气密性部件分割成水洗干燥处理室，第一药液处理室，第二药液处理室，基板搬运室。向各室运入运出基板用的开口部能够用备有密闭机构的开闭机构打开和关闭。因此，能够在与包含氧的外部气体隔离的环境中进行正在处理当中的基板的搬运，可以抑制搬运过程中的基板表面的不需要的氧化膜及水渍的发生。此外，可以减少为了不使含有药液的气氛向装置外部扩散用的排气量。
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公开(公告)号：CN1497659A
公开(公告)日：2004-05-19
申请号：CN03132661.7
申请日：2003-09-30
Applicant: 大日本屏影象制造株式会社
IPC: H01L21/00 , H01L21/302 , B08B3/02 , B05C5/00
Abstract: 本发明的目的在于提供一种喷嘴清扫装置以及具备该喷嘴清扫装置的基板处理装置，可降低擦拭部件的消耗量，并可靠地对处理液供应喷嘴进行清扫。喷嘴清扫装置(18)包括：擦拭部(45)和使擦拭部(45)在处理液供应喷嘴(14)上的排出口长度方向往复移动的移动机构，所述擦拭部具备卷绕有长条的擦拭部件(52)的送出辊(53)，卷取擦拭部件(52)的卷取辊(54)，使擦拭部件(52)抵接在处理液供应喷嘴(14)上的第一清扫机构(57)，以及使在第一清扫机构(57)的作用下用于处理液供应喷嘴(14)的清扫后的擦拭部件(52)抵接在处理液供应喷嘴(14)上的第二清扫机构(58)。
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