-
公开(公告)号:CN1497659A
公开(公告)日:2004-05-19
申请号:CN03132661.7
申请日:2003-09-30
Applicant: 大日本屏影象制造株式会社
IPC: H01L21/00 , H01L21/302 , B08B3/02 , B05C5/00
Abstract: 本发明的目的在于提供一种喷嘴清扫装置以及具备该喷嘴清扫装置的基板处理装置,可降低擦拭部件的消耗量,并可靠地对处理液供应喷嘴进行清扫。喷嘴清扫装置(18)包括:擦拭部(45)和使擦拭部(45)在处理液供应喷嘴(14)上的排出口长度方向往复移动的移动机构,所述擦拭部具备卷绕有长条的擦拭部件(52)的送出辊(53),卷取擦拭部件(52)的卷取辊(54),使擦拭部件(52)抵接在处理液供应喷嘴(14)上的第一清扫机构(57),以及使在第一清扫机构(57)的作用下用于处理液供应喷嘴(14)的清扫后的擦拭部件(52)抵接在处理液供应喷嘴(14)上的第二清扫机构(58)。
-
公开(公告)号:CN1252798C
公开(公告)日:2006-04-19
申请号:CN03132661.7
申请日:2003-09-30
Applicant: 大日本屏影象制造株式会社
IPC: H01L21/00 , H01L21/302 , B08B3/02 , B05C5/00
Abstract: 本发明的目的在于提供一种喷嘴清扫装置以及具备该喷嘴清扫装置的基板处理装置,可降低擦拭部件的消耗量,并可靠地对处理液供应喷嘴进行清扫。喷嘴清扫装置(18)包括:擦拭部(45)和使擦拭部(45)在处理液供应喷嘴(14)上的排出口长度方向往复移动的移动机构,所述擦拭部具备卷绕有长条的擦拭部件(52)的送出辊(53),卷取擦拭部件(52)的卷取辊(54),使擦拭部件(52)抵接在处理液供应喷嘴(14)上的第一清扫机构(57),以及使在第一清扫机构(57)的作用下用于处理液供应喷嘴(14)的清扫后的擦拭部件(52)抵接在处理液供应喷嘴(14)上的第二清扫机构(58)。
-