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公开(公告)号：CN1295026C
公开(公告)日：2007-01-17
申请号：CN200410028733.2
申请日：2004-03-12
Applicant: 大日本屏影象制造株式会社
Abstract: 提供一种不产生颗粒，将处理液高精度地送液的装置。在将抗蚀剂液(处理液)向狭缝喷嘴(41)送液的送液机构(80)中设有抗蚀剂液泵(81)和驱动机构(82)。此外，在抗蚀剂液泵(81)上设有小直径的第1波纹管、大直径的第2波纹管、第1波纹管与第2波纹管的结合部件及构成抗蚀剂液的流路的管。通过驱动机构(82)向图3中下方向移动结合部件，管的内部容积减少，管内的抗蚀剂液被向狭缝喷嘴(41)送液。此外，通过驱动机构(82)向图3中下方向移动结合部件，管的内部容积增加，将抗蚀剂液向抗蚀剂液泵(81)吸引。
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公开(公告)号：CN1497659A
公开(公告)日：2004-05-19
申请号：CN03132661.7
申请日：2003-09-30
Applicant: 大日本屏影象制造株式会社
IPC: H01L21/00 , H01L21/302 , B08B3/02 , B05C5/00
Abstract: 本发明的目的在于提供一种喷嘴清扫装置以及具备该喷嘴清扫装置的基板处理装置，可降低擦拭部件的消耗量，并可靠地对处理液供应喷嘴进行清扫。喷嘴清扫装置(18)包括：擦拭部(45)和使擦拭部(45)在处理液供应喷嘴(14)上的排出口长度方向往复移动的移动机构，所述擦拭部具备卷绕有长条的擦拭部件(52)的送出辊(53)，卷取擦拭部件(52)的卷取辊(54)，使擦拭部件(52)抵接在处理液供应喷嘴(14)上的第一清扫机构(57)，以及使在第一清扫机构(57)的作用下用于处理液供应喷嘴(14)的清扫后的擦拭部件(52)抵接在处理液供应喷嘴(14)上的第二清扫机构(58)。
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公开(公告)号：CN1252798C
公开(公告)日：2006-04-19
申请号：CN03132661.7
申请日：2003-09-30
Applicant: 大日本屏影象制造株式会社
IPC: H01L21/00 , H01L21/302 , B08B3/02 , B05C5/00
Abstract: 本发明的目的在于提供一种喷嘴清扫装置以及具备该喷嘴清扫装置的基板处理装置，可降低擦拭部件的消耗量，并可靠地对处理液供应喷嘴进行清扫。喷嘴清扫装置(18)包括：擦拭部(45)和使擦拭部(45)在处理液供应喷嘴(14)上的排出口长度方向往复移动的移动机构，所述擦拭部具备卷绕有长条的擦拭部件(52)的送出辊(53)，卷取擦拭部件(52)的卷取辊(54)，使擦拭部件(52)抵接在处理液供应喷嘴(14)上的第一清扫机构(57)，以及使在第一清扫机构(57)的作用下用于处理液供应喷嘴(14)的清扫后的擦拭部件(52)抵接在处理液供应喷嘴(14)上的第二清扫机构(58)。
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公开(公告)号：CN1530176A
公开(公告)日：2004-09-22
申请号：CN200410028733.2
申请日：2004-03-12
Applicant: 大日本屏影象制造株式会社
Abstract: 提供一种不产生颗粒，将处理液高精度地送液的装置。在将抗蚀剂液(处理液)向狭缝喷嘴(41)送液的送液机构(80)中设有抗蚀剂液泵(81)和驱动机构(82)。此外，在抗蚀剂液泵(81)上设有小直径的第1波纹管、大直径的第2波纹管、第1波纹管与第2波纹管的结合部件及构成抗蚀剂液的流路的管。通过驱动机构(82)向图3中下方向移动结合部件，管的内部容积减少，管内的抗蚀剂液被向狭缝喷嘴(41)送液。此外，通过驱动机构(82)向图3中下方向移动结合部件，管的内部容积增加，将抗蚀剂液向抗蚀剂液泵(81)吸引。
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