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公开(公告)号：CN1447395A
公开(公告)日：2003-10-08
申请号：CN03107541.X
申请日：2003-03-27
Applicant: 大日本屏影象制造株式会社
IPC: H01L21/304 , H01L21/306 , B08B3/02 , G02F1/13
Abstract: 本发明公开了一种基板处理装置，能够降低处理液的使用量，减少废液量，维持高的处理效率，将液体循环路径中部件的污染抑制在最小限度。将基板(1)以在与传送方向垂直的方向上相对于水平面倾斜的姿势传送，在水洗处理槽(10)的内底面上的、基板的较低一侧的边缘处的正下方位置附近，沿着基板传送方向立设分隔板(20)，由分隔板分隔水洗处理槽的内底部，将其区分成回收从纯水排出喷嘴(14)喷出的、未经由基板面而流下的纯水的回收槽部(24)，和接收从纯水排出喷嘴喷出的、在基板上向较低一侧流动、从边缘处流下的使用后的纯水的排液槽部(26)，将回收到回收槽部内的纯水循环使用，排出流到排液槽部内的使用后的纯水。
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公开(公告)号：CN1250346C
公开(公告)日：2006-04-12
申请号：CN03154801.6
申请日：2003-08-19
Applicant: 大日本屏影象制造株式会社
Inventor： 芳谷光明
Abstract: 目的在于提供可有效防止从基板上剥离的污染物再次附着到基板上，同时可切实除去附着在基板端部的污染物，可望提高清洗效果的基板处理装置以及基板清洗设备。在该基板处理装置(1)上，一边倾斜传送基板W一边进行清洗处理，从传送方向A上游侧依次设置低压喷出纯水的喷射部(33)、(35)、(37)、(41)、(43)、高压喷出纯水的喷射部(47)、(49)、(55)、喷出纯水与空气的雾状混合流体的喷射部(53)。在各清洗部(7)、(9)、(11)、(13)之间设置作为管状喷嘴等的水流形成部(19)、(21)、(23)，在清洗部(7)的前段以及清洗部(13)的后段，设置液体幕状等的水流形成部(17)、(25)。在水流形成部(25)的后段，设置从装置(1)外的供给线(63)提供未使用过的纯水的喷射部(59)、(61)。
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公开(公告)号：CN1485150A
公开(公告)日：2004-03-31
申请号：CN03154801.6
申请日：2003-08-19
Applicant: 大日本屏影象制造株式会社
Inventor： 芳谷光明
Abstract: 目的在于提供可有效防止从基板上剥离的污染物再次附着到基板上，同时可切实除去附着在基板端部的污染物，可望提高清洗效果的基板处理装置以及基板清洗设备。在该基板处理装置(1)上，一边倾斜传送基板W一边进行清洗处理，从传送方向A上游侧依次设置低压喷出纯水的喷射部(33)、(35)、(37)、(41)、(43)、高压喷出纯水的喷射部(47)、(49)、(55)、喷出纯水与空气的雾状混合流体的喷射部(53)。在各清洗部(7)、(9)、(11)、(13)之间设置作为管状喷嘴等的水流形成部(19)、(21)、(23)，在清洗部(7)的前段以及清洗部(13)的后段，设置液体幕状等的水流形成部(17)、(25)。在水流形成部(25)的后段，设置从装置(1)外的供给线(63)提供未使用过的纯水的喷射部(59)、(61)。
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公开(公告)号：CN1448994B
公开(公告)日：2013-06-19
申请号：CN03107991.1
申请日：2003-03-28
Applicant: 大日本屏影象制造株式会社
IPC: H01L21/304 , H01L21/306 , H01L21/027 , G02F1/13
Abstract: 本发明提供这样一种装置，即，在处理槽内边传送基板边向基板供给处理液而对基板进行处理的场合，能够防止含有固化成分的处理液对传送辊和处理槽的内壁面等造成污染。在与基板(1)的下表面接触而对基板进行支持并传送的传送辊(10)的正下方，配置有储液桶(12)，向储液桶内供给显影液使得储液桶内始终充满显影液(14)，传送辊的部分外周面浸在充满储液桶的显影液中。
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公开(公告)号：CN1470337A
公开(公告)日：2004-01-28
申请号：CN03148098.5
申请日：2003-06-27
Applicant: 大日本屏影象制造株式会社
Inventor： 芳谷光明
IPC: B08B3/02 , B05B7/04 , H01L21/304
Abstract: 提供不产生颗粒等再附着的利用高压流体喷出进行的基板清洗装置。将进行清洗处理的处理容器设计为高压喷出清洗流体(11)、(12)进行清洗处理的第1收容容器(3)和其外侧的第2收容容器(4)的双层构造。并且，利用管喷射器(7)向基板W的传送通道上的第1收容容器(3)的开口部(3a)、(3b)与基板W之间形成的间隙喷出纯水，在该间隙上形成水封(13)，抑制清洗流体(11)、(12)的漏出。清洗流体(11)、(12)的气体介质，因为即使从第1收容容器(3)漏出也可从第(2)收容容器(4)排出，所以气体介质中含有的颗粒等不会再附着到基板等上。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1240488C
公开(公告)日：2006-02-08
申请号：CN03148098.5
申请日：2003-06-27
Applicant: 大日本屏影象制造株式会社
Inventor： 芳谷光明
IPC: B08B3/02 , B05B7/04 , H01L21/304
Abstract: 提供不产生颗粒等再附着的利用高压流体喷出进行的基板清洗装置。将进行清洗处理的处理容器设计为高压喷出清洗流体(11)、(12)进行清洗处理的第1收容容器(3)和其外侧的第2收容容器(4)的双层构造。并且，利用管喷射器(7)向基板W的传送通道上的第1收容容器(3)的开口部(3a)、(3b)与基板W之间形成的间隙喷出纯水，在该间隙上形成水封(13)，抑制清洗流体(11)、(12)的漏出。清洗流体(11)、(12)的气体介质，因为即使从第1收容容器(3)漏出也可从第(2)收容容器(4)排出，所以气体介质中含有的颗粒等不会再附着到基板等上。
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公开(公告)号：CN100341631C
公开(公告)日：2007-10-10
申请号：CN200310104328.X
申请日：2003-10-24
Applicant: 大日本屏影象制造株式会社
Inventor： 芳谷光明
IPC: B08B5/00 , H01L21/304
Abstract: 提供一种在收存器内的氛围气体中存在空气流时、能不受空气流的影响而使整个基板的处理结果均匀的基板处理装置。在实施边通过搬运辊(15)移动基板(W)边从喷出喷嘴(20)向基板(W)喷出等离子气体而去除附着在基板(W)上的有机物的处理时，在喷出喷嘴(20)的正下方附近的与基板(W)的行进方向平行的位置处配置2枚侧面整流板(30)，并在喷出喷嘴(20)的下方配置下部整流板(31)。这样，由于通过设置侧面整流板(30)和下部整流板(31)，能够对处理室(10)内的空气流(FL12)进行整流，并能够使等离子气体的气体流(FL11)在基板(W)的端缘部和中央部均匀，所以能够在整个基板(W)上使有机物的去除处理结果均匀。
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公开(公告)号：CN1280876C
公开(公告)日：2006-10-18
申请号：CN03107541.X
申请日：2003-03-27
Applicant: 大日本屏影象制造株式会社
IPC: H01L21/304 , H01L21/306 , B08B3/02 , G02F1/13
Abstract: 本发明公开了一种基板处理装置，能够降低处理液的使用量，减少废液量，维持高的处理效率，将液体循环路径中部件的污染抑制在最小限度。将基板(1)以在与传送方向垂直的方向上相对于水平面倾斜的姿势传送，在水洗处理槽(10)的内底面上的、基板的较低一侧的边缘处的正下方位置附近，沿着基板传送方向立设分隔板(20)，由分隔板分隔水洗处理槽的内底部，将其区分成回收从纯水排出喷嘴(14)喷出的、未经由基板面而流下的纯水的回收槽部(24)，和接收从纯水排出喷嘴喷出的、在基板上向较低一侧流动、从边缘处流下的使用后的纯水的排液槽部(26)，将回收到回收槽部内的纯水循环使用，排出流到排液槽部内的使用后的纯水。
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公开(公告)号：CN1498698A
公开(公告)日：2004-05-26
申请号：CN200310104328.X
申请日：2003-10-24
Applicant: 大日本屏影象制造株式会社
Inventor： 芳谷光明
IPC: B08B5/00
Abstract: 提供一种在收存器内的氛围气体中存在空气流时、能不受空气流的影响而使整个基板的处理结果均匀的基板处理装置。在实施边通过搬运辊(15)移动基板(W)边从喷出喷嘴(20)向基板(W)喷出等离子气体而去除附着在基板(W)上的有机物的处理时，在喷出喷嘴(20)的正下方附近的与基板(W)的行进方向平行的位置处配置2枚侧面整流板(30)，并在喷出喷嘴(20)的下方配置下部整流板(31)。这样，由于通过设置侧面整流板(30)和下部整流板(31)，能够对处理室(10)内的空气流(FL12)进行整流，并能够使等离子气体的气体流(FL11)在基板(W)的端缘部和中央部均匀，所以能够在整个基板(W)上使有机物的去除处理结果均匀。
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公开(公告)号：CN1448994A
公开(公告)日：2003-10-15
申请号：CN03107991.1
申请日：2003-03-28
Applicant: 大日本屏影象制造株式会社
IPC: H01L21/304 , H01L21/306 , H01L21/027 , G02F1/13 , B08B3/00
Abstract: 提供这样一种装置，即，在处理槽内边传送基板边向基板供给处理液而对基板进行处理的场合，能够防止含有固化成分的处理液对传送辊和处理槽的内壁面等造成污染。在与基板(1)的下表面接触而对基板进行支持并传送的传送辊(10)的正下方，配置有储液桶(12)，向储液桶内供给显影液使得储液桶内始终充满显影液(14)，传送辊的部分外周面浸在充满储液桶的显影液中。
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