基板处理装置及送液装置

    公开(公告)号:CN1295026C

    公开(公告)日:2007-01-17

    申请号:CN200410028733.2

    申请日:2004-03-12

    Abstract: 提供一种不产生颗粒,将处理液高精度地送液的装置。在将抗蚀剂液(处理液)向狭缝喷嘴(41)送液的送液机构(80)中设有抗蚀剂液泵(81)和驱动机构(82)。此外,在抗蚀剂液泵(81)上设有小直径的第1波纹管、大直径的第2波纹管、第1波纹管与第2波纹管的结合部件及构成抗蚀剂液的流路的管。通过驱动机构(82)向图3中下方向移动结合部件,管的内部容积减少,管内的抗蚀剂液被向狭缝喷嘴(41)送液。此外,通过驱动机构(82)向图3中下方向移动结合部件,管的内部容积增加,将抗蚀剂液向抗蚀剂液泵(81)吸引。

    基板处理装置及送液装置

    公开(公告)号:CN1530176A

    公开(公告)日:2004-09-22

    申请号:CN200410028733.2

    申请日:2004-03-12

    Abstract: 提供一种不产生颗粒,将处理液高精度地送液的装置。在将抗蚀剂液(处理液)向狭缝喷嘴(41)送液的送液机构(80)中设有抗蚀剂液泵(81)和驱动机构(82)。此外,在抗蚀剂液泵(81)上设有小直径的第1波纹管、大直径的第2波纹管、第1波纹管与第2波纹管的结合部件及构成抗蚀剂液的流路的管。通过驱动机构(82)向图3中下方向移动结合部件,管的内部容积减少,管内的抗蚀剂液被向狭缝喷嘴(41)送液。此外,通过驱动机构(82)向图3中下方向移动结合部件,管的内部容积增加,将抗蚀剂液向抗蚀剂液泵(81)吸引。

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