公开(公告)号：CN1490092A

公开(公告)日：2004-04-21

申请号：CN03158477.2

申请日：2003-09-11

Applicant: 大日本屏影象制造株式会社

Inventor： 中泽喜之

IPC: B08B11/00 ,  G01B5/00 ,  H01L21/00

CPC classification number: H01L21/6838

Abstract: 一种衬底处理设备中的衬底保持装置，包括固定台，它具有一抽吸管和供气管；以及具有用来真空保持衬底的大气流通道的保持元件。保持元件被安置在固定台上。抽吸管通过一管子与压缩机相连，供气管通过管子和电磁线与气体供气部件相连。当衬底保持装置保持住衬底时，压缩机通过抽吸管抽吸大气，使保持元件真空保持住该衬底。当衬底保持装置释放衬底时，在通过抽吸管继续抽吸大气的同时，打开电磁阀通过供气管从气体供气部件供应一种气体。该衬底保持装置和衬底处理设备可抑制颗粒淀积在衬底上。

公开(公告)号：CN1284220C

公开(公告)日：2006-11-08

申请号：CN03158477.2

申请日：2003-09-11

Applicant: 大日本屏影象制造株式会社

Inventor： 中泽喜之

IPC: H01L21/68 ,  B65G49/07

CPC classification number: H01L21/6838

Abstract: 一种衬底处理设备中的衬底保持装置，包括固定台，它具有一抽吸管和供气管；以及具有用来真空保持衬底的大气流通道的保持元件。保持元件被安置在固定台上。抽吸管通过一管子与压缩机相连，供气管通过管子和电磁线与气体供气部件相连。当衬底保持装置保持住衬底时，压缩机通过抽吸管抽吸大气，使保持元件真空保持住该衬底。当衬底保持装置释放衬底时，在通过抽吸管继续抽吸大气的同时，打开电磁阀通过供气管从气体供气部件供应一种气体。该衬底保持装置和衬底处理设备可抑制颗粒淀积在衬底上。