公开(公告)号：CN1447395A

公开(公告)日：2003-10-08

申请号：CN03107541.X

申请日：2003-03-27

Applicant: 大日本屏影象制造株式会社

Inventor： 芳谷光明 ,  柳泽畅生 ,  丰田浩司 ,  山下永二 ,  铃木聪

IPC: H01L21/304 ,  H01L21/306 ,  B08B3/02 ,  G02F1/13

Abstract: 本发明公开了一种基板处理装置，能够降低处理液的使用量，减少废液量，维持高的处理效率，将液体循环路径中部件的污染抑制在最小限度。将基板(1)以在与传送方向垂直的方向上相对于水平面倾斜的姿势传送，在水洗处理槽(10)的内底面上的、基板的较低一侧的边缘处的正下方位置附近，沿着基板传送方向立设分隔板(20)，由分隔板分隔水洗处理槽的内底部，将其区分成回收从纯水排出喷嘴(14)喷出的、未经由基板面而流下的纯水的回收槽部(24)，和接收从纯水排出喷嘴喷出的、在基板上向较低一侧流动、从边缘处流下的使用后的纯水的排液槽部(26)，将回收到回收槽部内的纯水循环使用，排出流到排液槽部内的使用后的纯水。

公开(公告)号：CN1448994B

公开(公告)日：2013-06-19

申请号：CN03107991.1

申请日：2003-03-28

Applicant: 大日本屏影象制造株式会社

Inventor： 芳谷光明 ,  柳泽畅生 ,  丰田浩司

IPC: H01L21/304 ,  H01L21/306 ,  H01L21/027 ,  G02F1/13

Abstract: 本发明提供这样一种装置，即，在处理槽内边传送基板边向基板供给处理液而对基板进行处理的场合，能够防止含有固化成分的处理液对传送辊和处理槽的内壁面等造成污染。在与基板(1)的下表面接触而对基板进行支持并传送的传送辊(10)的正下方，配置有储液桶(12)，向储液桶内供给显影液使得储液桶内始终充满显影液(14)，传送辊的部分外周面浸在充满储液桶的显影液中。

公开(公告)号：CN1280876C

公开(公告)日：2006-10-18

申请号：CN03107541.X

申请日：2003-03-27

Applicant: 大日本屏影象制造株式会社

Inventor： 芳谷光明 ,  柳泽畅生 ,  丰田浩司 ,  山下永二 ,  铃木聪

IPC: H01L21/304 ,  H01L21/306 ,  B08B3/02 ,  G02F1/13

Abstract: 本发明公开了一种基板处理装置，能够降低处理液的使用量，减少废液量，维持高的处理效率，将液体循环路径中部件的污染抑制在最小限度。将基板(1)以在与传送方向垂直的方向上相对于水平面倾斜的姿势传送，在水洗处理槽(10)的内底面上的、基板的较低一侧的边缘处的正下方位置附近，沿着基板传送方向立设分隔板(20)，由分隔板分隔水洗处理槽的内底部，将其区分成回收从纯水排出喷嘴(14)喷出的、未经由基板面而流下的纯水的回收槽部(24)，和接收从纯水排出喷嘴喷出的、在基板上向较低一侧流动、从边缘处流下的使用后的纯水的排液槽部(26)，将回收到回收槽部内的纯水循环使用，排出流到排液槽部内的使用后的纯水。

公开(公告)号：CN1448994A

公开(公告)日：2003-10-15

申请号：CN03107991.1

申请日：2003-03-28

Applicant: 大日本屏影象制造株式会社

Inventor： 芳谷光明 ,  柳泽畅生 ,  丰田浩司

IPC: H01L21/304 ,  H01L21/306 ,  H01L21/027 ,  G02F1/13 ,  B08B3/00

Abstract: 提供这样一种装置，即，在处理槽内边传送基板边向基板供给处理液而对基板进行处理的场合，能够防止含有固化成分的处理液对传送辊和处理槽的内壁面等造成污染。在与基板(1)的下表面接触而对基板进行支持并传送的传送辊(10)的正下方，配置有储液桶(12)，向储液桶内供给显影液使得储液桶内始终充满显影液(14)，传送辊的部分外周面浸在充满储液桶的显影液中。