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公开(公告)号：CN104793464A
公开(公告)日：2015-07-22
申请号：CN201410795461.2
申请日：2014-12-18
IPC: G03F7/004 , G03F7/075 , G03F7/20 , H01L21/336
Abstract: 本发明公开光刻胶组合物、形成图案的方法和制造薄膜晶体管衬底的方法，所述组合物包括溶剂、酚醛清漆树脂、重氮类光敏剂、由以下化学式1表示的丙烯酰基化合物，在化学式1中，R1为氢原子或甲基，R2为芳族基团或烷基，所述烷基具有1-1,000个碳原子且具有直链形状或支化形状，R3、R4和R5各自独立地为烷氧基，所述烷氧基具有1-1,000个碳原子且具有直链形状或支化形状，并且X、Y和Z各自独立地为1-100的整数。
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公开(公告)号：CN113039237A
公开(公告)日：2021-06-25
申请号：CN201980075413.7
申请日：2019-11-14
Applicant: 株式会社东进世美肯
Abstract: 提供一种高温尺寸变化较小的聚酰亚胺类薄膜、可以形成上述聚酰亚胺薄膜的聚酰亚胺类组合物、以及利用上述聚酰亚胺类组合物的薄膜制造方法。聚酰亚胺薄膜以厚度10μm为基准，其黄色指数为15以下，玻璃化转变温度为350℃以上，热膨胀系数为30ppm/℃以下，在50至350℃温度范围内的高温尺寸变化(Hysteresis Gap)为80μm以下。
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公开(公告)号：CN110872438A
公开(公告)日：2020-03-10
申请号：CN201910833532.6
申请日：2019-09-04
Applicant: 株式会社东进世美肯
Abstract: 本发明提供一种使聚酰胺酸部分酰亚胺化而成的聚酰胺酸-酰亚胺组合物、以及利用其的聚酰亚胺膜的制备方法以及聚酰亚胺膜，其中，所述聚酰胺酸-酰亚胺组合物包含：具备聚酰胺酸和聚酰亚胺结构的重复单元的聚合物、以及分散溶剂，其中所述聚酰胺酸和聚酰亚胺结构的重复单元的摩尔比为85:15至30:70，并且所述聚合物包含5至30摩尔％的不对称结构，所述不对称结构包含来自二酐的结构。
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公开(公告)号：CN105814644B
公开(公告)日：2018-08-24
申请号：CN201480067695.3
申请日：2014-11-12
Applicant: 株式会社东进世美肯
CPC classification number: G02F1/13439 , G02F2201/121 , G02F2202/22 , H01B1/124
Abstract: 本发明涉及液晶显示装置的背面电极形成用导电性组合物。具体地，本发明可提供一种向通过硅烷偶联剂的溶胶‑凝胶反应得到的组合物中添加导电性高分子及特定热产酸剂，藉以优化组合物中导电性高分子的分散性，从而在液晶显示装置中具有优秀的透光度和表面硬度，而且提高涂膜可靠性的防静电用背面电极。特别是，本发明能够确保可靠性，以提高硬度以及减少涂覆后随着时间而产生的表面电阻变化。
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公开(公告)号：CN106502049A
公开(公告)日：2017-03-15
申请号：CN201610800081.2
申请日：2016-08-31
Applicant: 株式会社东进世美肯
Abstract: 本发明涉及一种用于铜膜的光刻胶组合物，其包含：酚醛清漆树脂5重量％至30重量％；二叠氮类感光性化合物2重量％至10重量％；由以下化学式1表示的噻二唑类化合物0.005重量％至0.8重量％；以及余量有机溶剂，在所述化学式1中，R1和R2分别独立地表示氢、具有1至20个碳原子的烷基、氨基或巯基，此时上述R1和R2中的一个是巯基。根据本发明的光刻胶组合物，其在铜膜基板上提高蚀刻性能，使得与基板的附着力及电路线宽均匀性皆优秀。因此，在工业现场将铜膜基板上的蚀刻偏差(etch bias)降到最低，从而容易实现信号传递特性及布线宽度减小、高分辨率等。[化学式1]
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102566270A
公开(公告)日：2012-07-11
申请号：CN201110353244.4
申请日：2011-11-07
Applicant: 株式会社东进世美肯
Abstract: 本发明涉及一种光致抗蚀剂组合物，更具体地，涉及一种包含(a)5～30重量％的酚醛清漆树脂；(b)2～10重量％的二叠氮类感光性化合物；(c)1～70重量％的二烷基醚(dialkyl ether)类共溶剂；及(d)余量的有机溶剂的光致抗蚀剂组合物，其在真空干燥时不会形成倒锥形，具有优异的涂布均匀度，而且能够防止产生涂布斑点。
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公开(公告)号：CN101071267A
公开(公告)日：2007-11-14
申请号：CN200710096934.X
申请日：2007-04-19
Applicant: 株式会社东进世美肯
Abstract: 本发明涉及一种用于制造液晶显示装置的电路、半导体集成电路等微细电路的光致抗蚀剂组合物，具体地涉及一种包含(a)由下述化学式1表示的酚醛清漆树脂、(b)重氮类感光性化合物、(c)有机溶剂的光致抗蚀剂组合物。在化学式1中，R表示氢、羟基或甲基，n是3至20的整数。本发明所涉及的光致抗蚀剂组合物，由于加入了酚醛清漆树脂，因而具有可提高光致光致抗蚀剂的耐热性及图案均匀性的效果。所述酚醛清漆树脂由间甲酚、对甲酚、及邻羟苯甲醛缩聚合而成。
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公开(公告)号：CN113039237B
公开(公告)日：2023-12-15
申请号：CN201980075413.7
申请日：2019-11-14
Applicant: 株式会社东进世美肯
Abstract: 提供一种高温尺寸变化较小的聚酰亚胺类薄膜、可以形成上述聚酰亚胺薄膜的聚酰亚胺类组合物、以及利用上述聚酰亚胺类组合物的薄膜制造方法。聚酰亚胺薄膜以厚度10μm为基准，其黄色指数为15以下，玻璃化转变温度为350℃以上，热膨胀系数为30ppm/℃以下，在50至350℃温度范围内的高温尺寸变化(Hysteresis Gap)为80μm以下。
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公开(公告)号：CN110616036B
公开(公告)日：2023-09-22
申请号：CN201910531238.X
申请日：2019-06-19
Applicant: 株式会社东进世美肯
IPC: C09D179/08 , C08G73/10 , C08J5/18
Abstract: 本发明公开使用于显示器的聚酰亚胺清漆组合物及包含其的聚酰亚胺膜。含有包含由下述化学式1表示的重复单元的聚酰亚胺及有机溶剂的聚酰亚胺清漆组合物，在下述化学式1中，A为衍生自酸二酐且碳原子数为6至30的芳烃基，B为衍生自二胺且碳原子数为6至30的芳烃基，A及B中至少一者包含硫元素。化学式1：#imgabs0#
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公开(公告)号：CN107728426B
公开(公告)日：2022-11-04
申请号：CN201710680289.X
申请日：2017-08-10
Abstract: 本发明公开一种述光刻胶组合物，包括：酚醛清漆系树脂、二叠氮化物系感光性化合物、噻二唑系化合物、第一溶剂以及第二溶剂，其中，所述噻二唑系化合物选自用以下化学式1表示的化合物，所述第一溶剂的沸点为110℃至190℃，所述第二溶剂的沸点为200℃至400℃。 在所述化学式1中，对X1、X2以及R3的说明请参照本说明书的记载。
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