公开(公告)号：CN106502049A

公开(公告)日：2017-03-15

申请号：CN201610800081.2

申请日：2016-08-31

Applicant: 株式会社东进世美肯

Inventor： 金奉珍 ,  金东敏 ,  李原荣 ,  诸葛银 ,  金升起 ,  李斗渊 ,  金京浩 ,  李镕湖 ,  朴柱京 ,  金相暎 ,  李盛根 ,  李成焕 ,  沈载珉 ,  李廷珍

IPC: G03F7/008 ,  G03F7/004

Abstract: 本发明涉及一种用于铜膜的光刻胶组合物，其包含：酚醛清漆树脂5重量％至30重量％；二叠氮类感光性化合物2重量％至10重量％；由以下化学式1表示的噻二唑类化合物0.005重量％至0.8重量％；以及余量有机溶剂，在所述化学式1中，R1和R2分别独立地表示氢、具有1至20个碳原子的烷基、氨基或巯基，此时上述R1和R2中的一个是巯基。根据本发明的光刻胶组合物，其在铜膜基板上提高蚀刻性能，使得与基板的附着力及电路线宽均匀性皆优秀。因此，在工业现场将铜膜基板上的蚀刻偏差(etch bias)降到最低，从而容易实现信号传递特性及布线宽度减小、高分辨率等。[化学式1]

公开(公告)号：CN107728426B

公开(公告)日：2022-11-04

申请号：CN201710680289.X

申请日：2017-08-10

Applicant: 三星显示有限公司 ,  株式会社东进世美肯

Inventor： 金贞元 ,  朴光雨 ,  周振豪 ,  郑炳和 ,  金京浩 ,  金东敏 ,  金奉珍 ,  金昇起

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/008

Abstract: 本发明公开一种述光刻胶组合物，包括：酚醛清漆系树脂、二叠氮化物系感光性化合物、噻二唑系化合物、第一溶剂以及第二溶剂，其中，所述噻二唑系化合物选自用以下化学式1表示的化合物，所述第一溶剂的沸点为110℃至190℃，所述第二溶剂的沸点为200℃至400℃。 在所述化学式1中，对X1、X2以及R3的说明请参照本说明书的记载。

公开(公告)号：CN106502049B

公开(公告)日：2021-06-15

申请号：CN201610800081.2

申请日：2016-08-31

Applicant: 株式会社东进世美肯

Inventor： 金奉珍 ,  金东敏 ,  李原荣 ,  诸葛银 ,  金升起 ,  李斗渊 ,  金京浩 ,  李镕湖 ,  朴柱京 ,  金相暎 ,  李盛根 ,  李成焕 ,  沈载珉 ,  李廷珍

IPC: G03F7/008 ,  G03F7/004

Abstract: 本发明涉及一种用于铜膜的光刻胶组合物，其包含：酚醛清漆树脂5重量％至30重量％；二叠氮类感光性化合物2重量％至10重量％；由以下化学式1表示的噻二唑类化合物0.005重量％至0.8重量％；以及余量有机溶剂，在所述化学式1中，R1和R2分别独立地表示氢、具有1至20个碳原子的烷基、氨基或巯基，此时上述R1和R2中的一个是巯基。根据本发明的光刻胶组合物，其在铜膜基板上提高蚀刻性能，使得与基板的附着力及电路线宽均匀性皆优秀。因此，在工业现场将铜膜基板上的蚀刻偏差(etch bias)降到最低，从而容易实现信号传递特性及布线宽度减小、高分辨率等。[化学式1]

公开(公告)号：CN107728426A

公开(公告)日：2018-02-23

申请号：CN201710680289.X

申请日：2017-08-10

Applicant: 三星显示有限公司 ,  株式会社东进世美肯

Inventor： 金贞元 ,  朴光雨 ,  周振豪 ,  郑炳和 ,  金京浩 ,  金东敏 ,  金奉珍 ,  金昇起

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/008

CPC classification number: G03F7/004 ,  G03F7/0085

Abstract: 本发明公开一种述光刻胶组合物，包括：酚醛清漆系树脂、二叠氮化物系感光性化合物、噻二唑系化合物、第一溶剂以及第二溶剂，其中，所述噻二唑系化合物选自用以下化学式1表示的化合物，所述第一溶剂的沸点为110℃至190℃，所述第二溶剂的沸点为200℃至400℃。 在所述化学式1中，对X1、X2以及R3的说明请参照本说明书的记载。