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公开(公告)号:CN110156064A
公开(公告)日:2019-08-23
申请号:CN201910369714.2
申请日:2019-04-30
Applicant: 南开大学
IPC: C01G3/02
Abstract: 本发明提供一种低晶面指数Cu2O多面体颗粒的制备方法,该方法可以通过调节铜源的种类、加入碱溶液的量和反应时间来对Cu2O多面体形貌进行准确调控,制备出物相均匀、纯度高、单分散、低晶面指数暴露的Cu2O多面体颗粒;该方法操作步骤少,设备简单,工艺简便,制备所需的原料种类少,降低生产成本,减少环境污染;本发明原理可靠,不需要添加任何表面活性剂,避免表面活性剂残留在某些表面而改变催化反应时的活性中心,便于对Cu2O复合其它材料时的机理进行解释。
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公开(公告)号:CN106902852A
公开(公告)日:2017-06-30
申请号:CN201710152621.5
申请日:2017-03-15
Applicant: 南开大学
IPC: B01J27/138 , C02F1/30
CPC classification number: Y02W10/37 , B01J27/138 , B01J35/004 , C02F1/30 , C02F2305/10
Abstract: 本发明提供一种ZnFe2O4/AgBr/Ag复合光催化剂及其制备方法。该催化剂在制备过程中采用水热与光还原相结合的方法,该方法灵活简便、成本低。通过以ZnFe2O4纳米颗粒作为AgBr/Ag的载体,在提高复合光催化剂催化效率的同时,还能够提高光催化剂的光稳定性,克服了现有技术中一直难于解决的ZnFe2O4光催化性能较差及含AgBr的光催化剂稳定性较差的缺点。
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公开(公告)号:CN103990795B
公开(公告)日:2016-05-25
申请号:CN201410242512.9
申请日:2014-05-30
Applicant: 南开大学
Abstract: 本发明涉及一种Ni-Ni2O3纳米复合材料,特别是一种铁磁性的Ni-Ni2O3纳米复合材料及水热一步合成该材料的方法。其中Ni为纳米线形态,而Ni2O3为颗粒,通过二者的共同作用,使得材料在光学、光催化、磁性等方面的性能大幅提升。
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公开(公告)号:CN103302288A
公开(公告)日:2013-09-18
申请号:CN201310222260.9
申请日:2013-06-06
Applicant: 南开大学
Abstract: 一种绒毛状的Fe@α-Fe2O3核/壳结构纳米线及其制备方法,该方法先制备Fe纳米线,然后在所制备的Fe纳米线表面通过退火的方法包覆一层绒毛状的α-Fe2O3,形成新型的绒毛状的Fe@α-Fe2O3核/壳结构纳米线。该纳米线的Fe核的直径在30-250nm,表面α-Fe2O3绒毛层的厚度在30-200nm,纳米线的长度大于1μm。该方法制备的绒毛状的Fe@α-Fe2O3的核/壳结构纳米线有利于增加材料的比表面积,从而提高材料的吸附效率和光吸收效率等性能,在在光学、催化、材料、能源、传感器、电子信息、生物医药、环境科学等领域具有广阔应用前景。
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公开(公告)号:CN100401433C
公开(公告)日:2008-07-09
申请号:CN200610013054.7
申请日:2006-01-16
Applicant: 南开大学
Abstract: 本发明涉及多晶Fe3O4薄膜材料及其制备方法。它是在基片上形成多晶Fe3O4薄膜,Fe3O4晶粒粒径大小为13~19纳米,厚度200-500nm,该Fe3O4薄膜中的多晶颗粒随机取向,没有织构,室温磁电阻数值在10%~12%。本发明的多晶Fe3O4薄膜的制备方法是采用直流磁控溅射技术,在氩气和氧气的混合气氛中,通过控制氧气流量和铁靶的溅射功率沉积的。所用基片材料为玻璃、石英、聚酯、单晶硅、单晶砷化镓等,溅射时基片不加热。本方法制备温度低、制备工艺简单、适用于多种基片材料。
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公开(公告)号:CN100349308C
公开(公告)日:2007-11-14
申请号:CN200510122238.2
申请日:2005-12-08
Applicant: 南开大学
Abstract: 本发明涉及一种微型的霍尔元件,以通式为FexGe1-x的纳米晶铁锗颗粒薄膜磁敏材料作为活性层,其中x为铁金属颗粒所占的体积百分比,0.45<x<0.60,薄膜厚度为4~8纳米,采用“十”字形设计,活性层的线度在0.3~1微米。本发明的微型的霍尔元件的工作温度在-250℃到+200℃范围内,并具有125VA/T以上的霍尔电阻灵敏度,其线性度优于千分之三,热漂移小于140ppm/K,零磁场偏移量在千分之五以内。在航空、航天、军事等领域具有广阔的应用前景。
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公开(公告)号:CN1331975C
公开(公告)日:2007-08-15
申请号:CN200510122236.3
申请日:2005-12-08
Applicant: 南开大学
Abstract: 本发明涉及纳米晶铁锗颗粒薄膜磁敏材料,它是霍尔元件中作为活性层的磁敏材料。通式为FexGe1-x,其中x为铁的金属颗粒所占的体积百分比,0.45<x<0.60,薄膜厚度在4~8纳米。本发明纳米晶铁锗颗粒薄膜材料不同于传统半导体材料,同时也不同于非晶结构的纳米晶的铁—锗颗粒薄膜材料,其霍尔电阻灵敏度高达125V/AT,工作温度可以扩展到-250℃到+200℃,并且具有更小的热漂移、零磁场偏移。与传统的半导体材料相比,本发明的材料制备简单,成本低,灵敏度高、工作温度范围宽,器件尺寸小,因而在航空、航天、军事等领域具有广阔的应用前景。
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公开(公告)号:CN1805081A
公开(公告)日:2006-07-19
申请号:CN200610013056.6
申请日:2006-01-16
Applicant: 南开大学
Abstract: 本发明涉及反铁磁耦合的磁性颗粒薄膜材料及其制备和应用,组成为Fex(TiO2)1-x,其中x为铁的金属颗粒所占的体积百分比,0.40<x<0.76。本发明是采用直流磁控溅射技术,在氩气和氧气的混合气氛中,控制铁靶的溅射功率沉积。基片为玻璃、石英、聚酯、单晶硅、单晶砷化镓等,溅射时基片不加热。本发明的Fex(TiO2)1-x磁性颗粒薄膜的最大磁电阻数值为-29.3%,室温磁电阻数值大于-10%。本发明制备的Fex(TiO2)1-x磁性颗粒薄膜具有高磁电阻数值、制备工艺简单、成本低、适用于多种基片等优点,可用来制作计算机读出磁头、磁随机存储器、微弱磁场检测、位置检测等磁敏传感器件。
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