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公开(公告)号：CN110610853A
公开(公告)日：2019-12-24
申请号：CN201910509871.9
申请日：2019-06-13
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/027 , H01L21/67 , H01L21/677
Abstract: 本发明提供一种能够提高显影的均匀性的技术。实施方式的基片处理装置包括输送机构、显影液槽和供给嘴。输送机构平流地输送在表面形成有被曝光了的光致抗蚀剂膜的基片。显影液槽将由输送机构输送的基片浸渍在显影液中。供给嘴将显影液供给到被从显影液槽内的显影液中输送至外部的基片。
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公开(公告)号：CN110544752A
公开(公告)日：2019-12-06
申请号：CN201910830977.9
申请日：2016-10-09
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供一种检查装置、减压干燥装置和减压干燥装置的控制方法，能够在早期检测基板中涂敷有有机材料的涂敷区域的干燥状态。一种实施方式的检查装置包括拍摄部和干燥状态检测部。拍摄部对基板中涂敷有有机材料的涂敷区域进行拍摄。干燥状态检测部基于由拍摄部所拍摄的涂敷区域的色浓度来检测涂敷区域的干燥状态。
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公开(公告)号：CN106935734B
公开(公告)日：2019-10-11
申请号：CN201610881393.0
申请日：2016-10-09
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供一种检查装置、减压干燥装置和减压干燥装置的控制方法，能够在早期检测基板中涂敷有有机材料的涂敷区域的干燥状态。一种实施方式的检查装置包括拍摄部和干燥状态检测部。拍摄部对基板中涂敷有有机材料的涂敷区域进行拍摄。干燥状态检测部基于由拍摄部所拍摄的涂敷区域的色浓度来检测涂敷区域的干燥状态。
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公开(公告)号：CN104043573B
公开(公告)日：2018-01-16
申请号：CN201410096586.6
申请日：2014-03-14
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: B05D3/04
Abstract: 本发明提供能够高效地且在短时间内除去被涂敷在基板上的有机材料膜中的溶剂、并且能够在基板的面内进行均匀的干燥处理的干燥装置及干燥处理方法。干燥装置（100）包括能够抽成真空的处理容器（1）、用于在处理容器（1）内支承基板（S）的作为支承构件的载置台（3）、用于朝向支承在载置台（3）的基板（S）上的有机材料膜喷射气体的气体喷射装置（5）、以及控制部（6）。干燥装置（100）还包括用于调节处理容器（1）内的压力的压力控制机构。多个喷嘴（51）构成为能够针对每个喷嘴（51）独立调节气体的喷射流量、气体的种类。
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公开(公告)号：CN106935734A
公开(公告)日：2017-07-07
申请号：CN201610881393.0
申请日：2016-10-09
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供一种检查装置、减压干燥装置和减压干燥装置的控制方法，能够在早期检测基板中涂敷有有机材料的涂敷区域的干燥状态。一种实施方式的检查装置包括拍摄部和干燥状态检测部。拍摄部对基板中涂敷有有机材料的涂敷区域进行拍摄。干燥状态检测部基于由拍摄部所拍摄的涂敷区域的色浓度来检测涂敷区域的干燥状态。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101814424B
公开(公告)日：2012-01-25
申请号：CN201010119645.9
申请日：2010-02-23
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/00
Abstract: 本发明提供能高效顺畅地进行分别回收在平流的输送流水线上供给到被处理基板的第1处理液而替换为第2处理液的动作、抑制产生显影斑的基板处理装置及基板处理方法。包括：基板输送路径，以平流输送被处理基板；第1处理液供给部件，向在基板输送路径中输送的被处理基板供给第1处理液；气体供给部件，朝向铅垂方向至输送方向下游侧中的任一方向向在基板输送路径中输送的、被供给第1处理液后的被处理基板吹规定的气流；第1冲洗液供给部件，以规定的流速向在基板输送路径中输送的、被气体供给部件吹过的气流后的被处理基板的基板表面供给第2处理液；第2冲洗液供给部件，以比第1冲洗液供给部件高的流速向被供给第2处理液后的、在基板输送路径中输送的被处理基板供给第2处理液。
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公开(公告)号：CN101609789A
公开(公告)日：2009-12-23
申请号：CN200910149128.3
申请日：2009-06-17
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/00 , H01L21/677 , G03F7/26 , G02F1/13
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置和基板处理方法，能够在平流式的搬送线上顺畅有效地进行分别回收被供给至被处理基板上的第一处理液并置换为第二处理液的操作，抑制显影斑的产生。所述基板处理装置具备：包括第一搬送区间(M1)、第二搬送区间(M2)、第三搬送区间(M3)的平流式的搬送线(2)；驱动搬送体(6)的搬送驱动部；在第一搬送区间(M1)内向基板(G)上供给第一处理液(D)的第一处理液供给部(9)；在第三搬送区间(M3)内向基板(G)上供给第二处理液(W)的第二处理液供给部(13)；和升降单元，其在被处理基板(G)被载置在第二搬送区间(M2)的状态下使被铺设在该第二搬送区间(M2)的搬送体(6)进行上升移动，形成接着第一搬送区间(M1)的向上倾斜的搬送路径。
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公开(公告)号：CN100402163C
公开(公告)日：2008-07-16
申请号：CN02142802.6
申请日：2002-07-05
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: B05D1/00 , H01L21/027
Abstract: 提供一种不增大印刷台面(footprint)，即便是大型衬底也可在整个衬底上进行均匀的液体处理的液体处理装置。显影处理单元(DEV)(24)具有按大致水平状态在一个方向上运送LCD衬底G的滚动运送机构(14)；向LCD衬底G上喷出显影液的主显影液喷嘴(51a)和副显影液喷嘴(51b)；使主显影液喷嘴51a和副显影液喷嘴(51b)扫描过LCD衬底G的喷嘴移动机构60a。通过边驱动喷嘴移动机构(60a)使主显影液喷嘴(51a)和副显影液喷嘴(51b)扫描过LCD衬底G边从主显影液喷嘴(51a)和副显影液喷嘴(51b)向LCD衬底G喷出显影液，缩短显影液的液体盛装时间，在整个LCD衬底G上进行均匀的显影处理。
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公开(公告)号：CN1392454A
公开(公告)日：2003-01-22
申请号：CN02141002.X
申请日：2002-06-19
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: G03F7/26 , G02F1/1333 , H01L21/027
Abstract: 目的在于在传输路径上以单位时间高效地从基片上去除处理液。当基片(G)偏离规定位置时，停止旋转传输滚轴(138)，使基片(G)静止。之后，操作驱动部(188)使升降轴(186)上升。此时，(基板)182和起模顶杆(184)也上升，起模顶杆(184)从下突起，向传输路径(108)的上方抬起基片(G)。接着，以传输路径(108)的宽度方向上延伸的轴(196)为中心向后仅旋转基板(182)规定角度。此时，起模顶杆(192)、止动部件(194)、基片(G)也在传输路径(108)上向后方仅倾斜相同角度。基片(G)止动于止动部件(194)上，基片(G)上的液体(Q)由于重力而在基片倾斜面上向后方滑落，落到基片的外部。从基片(G)落下的液体(Q)收集在盘(130)中。
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公开(公告)号：CN210156353U
公开(公告)日：2020-03-17
申请号：CN201920746442.9
申请日：2019-05-23
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本实用新型提供一种容易地测量基片温度的基片处理装置，其包括热处理部和温度测量部。热处理部对被平流地输送的基片进行热处理。温度测量部具有测量基片的温度的辐射温度计，并且能够相对于热处理部拆装。另外，温度测量部包括能够相对于上述热处理部拆装的安装部，该安装部与辐射温度计隔开间隔且具有透射红外线的透射窗。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
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