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公开(公告)号：CN110055513B
公开(公告)日：2021-01-15
申请号：CN201910497164.2
申请日：2019-06-10
Applicant: 南开大学
IPC: C23C16/34 , C23C16/455 , C23C16/442
Abstract: 本发明属于原子层沉积领域，公开了一种粉末原子层沉积设备及其沉积方法与应用，粉末原子层沉积设备的可加热式主腔体通过轴承固定有机械传动轴，机械传动轴上卡接有粉末生长床，粉末生长床铺有粉末样品，机械传动轴上端设置有震动转动器；可加热式主腔体左端通过法兰固定有可加热式气体管道，可加热式气体管道与可加热式主腔体连接处设置有粉末过滤器；可加热式气体管道通过卡套与电磁阀连接，电磁阀通过可加热式气体管道与真空泵连接，电磁阀上端设置有剩余气体分析器。本发明的进源和抽气同端，薄膜生长效率高，并可实现不同薄膜材料的生长，生长的薄膜材料稳定性高；整体设备制作简单，提高了前驱体源的利用效率。
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公开(公告)号：CN109898101A
公开(公告)日：2019-06-18
申请号：CN201910358536.3
申请日：2019-04-30
Applicant: 南开大学
Inventor： 董红
Abstract: 本发明属于电解铝设备技术领域，公开了一种新型节能防腐电解铝用阳极钢爪及设计方法，利用计算机对半钢爪工作时设计承受的最大力为Fmax，安全系数为α，钢爪的有效横截面积为S0，材料的屈服强度为ReL，进行模拟计算，获取半钢爪材料的最优比例组份；利用计算机对半钢爪、半铝爪使用中的压降进行计算分析，获得最优复合爪压降数值。本发明通过采用半钢爪和半铝爪进行并联设计，减低阳极压降乃至节约电能；在整个阳极爪外部涂覆的石墨烯薄层能有效的防止电解液和腐蚀气氛对阳极爪的高温腐蚀，提高阳极爪的使用寿命，阳极爪不被腐蚀，导电横截面积得到有效保持也能使电能大大节约。
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公开(公告)号：CN104923261A
公开(公告)日：2015-09-23
申请号：CN201510246053.6
申请日：2015-05-14
Applicant: 南开大学
IPC: B01J27/04 , C01B3/04 , C02F1/30 , C02F101/30
CPC classification number: Y02E60/364 , Y02W10/37
Abstract: 本发明提供一种延长CdS纳米光催化剂寿命的方法，该方法的特征在于采用原子层沉积技术在水热合成的CdS纳米颗粒表面沉积了一层1-10A的保护层(TiO2、ZnO、Al2O3、AZO等)。在保证较高催化效率的前提下，有效的减少光腐蚀的发生，将CdS纳米颗粒的光催化寿命从1小时延长到18个小时以上。该制备方法有效的减少了光腐蚀对CdS纳米粒子的破坏，延长了CdS纳米粒子的催化寿命。
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公开(公告)号：CN120044760A
公开(公告)日：2025-05-27
申请号：CN202510188946.3
申请日：2025-02-20
Applicant: 南开大学
IPC: G03F7/09 , G03F7/11 , G03F7/20 , C23C16/455 , C23C16/40
Abstract: 一种多层EUV光刻胶的制备方法，涉及光刻胶技术领域，包括EUV光刻胶，及至少一层增透膜形成的覆盖结构或插层结构，所述的覆盖结构为一层或多层增透膜覆盖在EUV光刻胶上，形成单层或多层膜的覆盖结构；所述的插层结构为一层或多层增透膜插入EUV光刻胶中，形成增透膜层和光刻胶相互叠加的多层膜结构。本发明的技术效果是，本发明所得光刻胶对某一波长或者某一波段的极紫外光具有更高的曝光效率。并且具有更高的热稳定性、化学稳定性和机械稳定性：更加不易产生开裂和缺陷；更加抗热膨胀；更加不易与空气的水反应。
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公开(公告)号：CN117288796A
公开(公告)日：2023-12-26
申请号：CN202311241648.3
申请日：2023-09-25
Applicant: 南开大学
IPC: G01N23/2251
Abstract: 本发明属于表面分析仪器技术领域，公开了一种线形高通量分析量测仪器、方法，配备有线状射线源，样品台系统，曲面型能量分析器，线状电子收集器，数据采集系统，实时监测装置、快速进样室、传输装置、超高真空和高真空系统、加热装置、及预留法兰接口。本发明通过线形分析器与射线源组合构型实现线形高通量检测，通过与线状电子源组合，可实现线性俄歇能谱的表征；通过与线状离子源组合，可实现低能离子散射谱的表征；通过线状射线源，曲面型能量分析器及线状电子收集器组合，可实现晶圆的线性XPS等表面分析。本发明与传统XPS等表面表征相比，可大幅缩短晶圆的检测时间，提升检测效率。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN115791862A
公开(公告)日：2023-03-14
申请号：CN202211656214.5
申请日：2022-12-22
Applicant: 南开大学
IPC: G01N23/2273
Abstract: 本发明属于XPS设备技术领域，公开了一种晶圆表面量测设备、检测方法及应用，包括：X射线源；环形能量分析器模块数据处理模块；实时监测模块；快速进样模块；传输模块；真空模块；加热模块；样品台模块。本发明通过提高光电子的收集立体角，大幅增加通过环形能量分析器的光电子的数量，可大幅提升设备对光电子信号的收集效率，避免多次重复扫描带来的时间消耗；可同时进行不同光谱、能谱分析、微区扫描，极大减少了检样时的步骤及时耗。本发明通过XPS检测通量的颠覆性提高，其可实现与光学方法接近量测速度，从而可以实现多重技术同步量测，大幅提高晶圆检测或量测的效率；极大提升了光电子的收集效率，可大幅缩减单个样品的检测时间。
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公开(公告)号：CN115763311A
公开(公告)日：2023-03-07
申请号：CN202211474117.4
申请日：2022-11-22
Applicant: 南开大学
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明属于集成电路领域，公开了面向集成电路先进制程中晶圆处理的超临界干燥/清洗设备，其特征在于，该设备包括外腔体、外腔体顶盖、内胆、内胆提拉装置、手套箱、烘箱、地线；所述外腔体与外腔体顶盖使用机械密封，如螺丝、机械锁扣等；所述内胆在外腔体内部，承载待处理的晶圆；所述内胆提拉装置顶部设有牵引环；所述手套箱包含烘箱；所述内胆提拉装置、外腔体、手套箱都通过地线接地。本发明利用超临界流体几乎为零的表面张力、极强的溶剂化能力和类似气体的扩散性，可以在集成电路加工制造过程中实现对湿法清洗残留物的干燥/清洗，克服流体的表面张力对器件或芯片的破坏等问题。
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公开(公告)号：CN109898101B
公开(公告)日：2021-02-23
申请号：CN201910358536.3
申请日：2019-04-30
Applicant: 南开大学
Inventor： 董红
Abstract: 本发明属于电解铝设备技术领域，公开了一种新型节能防腐电解铝用阳极钢爪及设计方法，利用计算机对半钢爪工作时设计承受的最大力为Fmax，安全系数为α，钢爪的有效横截面积为S0，材料的屈服强度为ReL，进行模拟计算，获取半钢爪材料的最优比例组份；利用计算机对半钢爪、半铝爪使用中的压降进行计算分析，获得最优复合爪压降数值。本发明通过采用半钢爪和半铝爪进行并联设计，减低阳极压降乃至节约电能；在整个阳极爪外部涂覆的石墨烯薄层能有效的防止电解液和腐蚀气氛对阳极爪的高温腐蚀，提高阳极爪的使用寿命，阳极爪不被腐蚀，导电横截面积得到有效保持也能使电能大大节约。
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公开(公告)号：CN117821943A
公开(公告)日：2024-04-05
申请号：CN202410182620.5
申请日：2024-02-19
Applicant: 南开大学
IPC: C23C16/455 , C23C16/458
Abstract: 一种表面原子层沉积镀膜装置，涉及到薄膜沉积技术领域。包括镀膜腔室和样品腔室，样品腔室上设有样品腔室进气口和样品腔室口，将需镀膜样在样品腔室内品堆叠放置分成腔室内部分和腔室外部分，腔室外部分样品需镀膜面对齐形成待镀膜平面，在镀膜腔室中进行表面镀膜，镀膜腔室内设有旋转机械臂，镀膜模块与旋转机械臂相连接，旋转机械臂电动机械臂相连接，通过机械臂转动和上下往复运动带动镀膜腔室实现样品单面镀膜。本发明的分体式设计还可拓展为同时为样品的双面或多个面同时镀膜，大大提升了样品工件的镀膜效率。并可通过改变镀膜模块气路顺序实现ALD模式与CVD模式的切换。
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