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公开(公告)号：CN117821943A
公开(公告)日：2024-04-05
申请号：CN202410182620.5
申请日：2024-02-19
Applicant: 南开大学
IPC: C23C16/455 , C23C16/458
Abstract: 一种表面原子层沉积镀膜装置，涉及到薄膜沉积技术领域。包括镀膜腔室和样品腔室，样品腔室上设有样品腔室进气口和样品腔室口，将需镀膜样在样品腔室内品堆叠放置分成腔室内部分和腔室外部分，腔室外部分样品需镀膜面对齐形成待镀膜平面，在镀膜腔室中进行表面镀膜，镀膜腔室内设有旋转机械臂，镀膜模块与旋转机械臂相连接，旋转机械臂电动机械臂相连接，通过机械臂转动和上下往复运动带动镀膜腔室实现样品单面镀膜。本发明的分体式设计还可拓展为同时为样品的双面或多个面同时镀膜，大大提升了样品工件的镀膜效率。并可通过改变镀膜模块气路顺序实现ALD模式与CVD模式的切换。
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