垂直式表面粗糙度测头及表面粗糙度仪

    公开(公告)号:CN111366108A

    公开(公告)日:2020-07-03

    申请号:CN202010298483.3

    申请日:2020-04-16

    Abstract: 本发明公开了一种垂直式表面粗糙度测头及表面粗糙度仪,垂直式表面粗糙度测头包括固定架、移动架、位移测量模块、针杆、触针和导向装置,移动架竖向滑动连接于固定架上,移动架上设置针杆,移动架的底板上设有导向装置,导向装置能够用于对针杆进行竖向导向以防止针杆摆动,针杆的底端固定设置有触针,针杆穿过导向装置,触针贯穿移动架的底板,位移测量模块用于测量针杆竖直方向上的移动距离;表面粗糙度仪包括架体、移动装置和上述的垂直式表面粗糙度测头。本发明中,触针与针杆在导向装置的作用下,测量过程中始终与工件表面垂直,操作简便、测量精准程度高。

    一种旋转平台及多倍程平面干涉角度测量系统

    公开(公告)号:CN108917655B

    公开(公告)日:2020-04-17

    申请号:CN201810818139.5

    申请日:2018-07-24

    Abstract: 本发明公开一种旋转平台,包括固定基座、转台和两个驱动器,固定基座的上表面开设有与转台形状相匹配的凹槽,转台可转动嵌置安装在凹槽内;转台包括中心圆形转子,中心圆形转子的两侧对称设置有两个旋转臂,两个驱动器以中心圆形转子的圆心为中心呈中心对称分布,两个驱动器用于同时驱动两个旋转臂同向旋转;该旋转平台在转动时可避免中心产生平移。本发明还提供一种结构紧凑、受环境影响小、角度分辨率高的多倍程平面干涉角度测量系统,包括上述旋转平台、被测平面镜和测角干涉仪,被测平面镜放置在中心圆形转子的上表面,测角干涉仪设置在旋转平台的一侧。

    一种翼型光学结构的精密位移传感器

    公开(公告)号:CN117629078B

    公开(公告)日:2025-03-25

    申请号:CN202311625089.6

    申请日:2023-11-30

    Abstract: 本发明公开一种翼型光学结构的精密位移传感器,涉及精密位移测量领域,包括:第一折光装置和第二折光装置分别位于第一偏振分光镜的第一侧面、第二侧面、第三侧面和第四侧面;激光被第一偏振分光镜分为第一偏振光和第二偏振光;第一偏振光经过第一折光装置入射双凸透镜,经双凸透镜汇聚入射光栅,得到的+1级衍射光束经第一折光装置和第一偏振分光镜后得到第一反射光;第一反射光入射至探测器装置;第二偏振光经第二折光装置入射双凸透镜,经双凸透镜汇聚入射光栅,得到的‑1级衍射光束经第二折光装置和第一偏振分光镜后得到第二反射光;第二反射光入射至探测器装置;探测器装置实现位移测量。本发明提高了光路结构抗环境干扰的能力。

    一种用于探测亚表面深度的标定板及其制备方法

    公开(公告)号:CN118225795B

    公开(公告)日:2024-07-23

    申请号:CN202410649644.7

    申请日:2024-05-24

    Abstract: 本发明公开一种用于探测亚表面深度的标定板及其制备方法,涉及光学标定领域,该标定板包括:楔形玻璃、样品颗粒和固定装置;其中,楔形玻璃包括相互平行的第一侧面和第二侧面,相互垂直的第一平面和第二平面,以及一个斜面;第一侧面和第二侧面分别与第一平面、第二平面和斜面连接;斜面分别与第一平面和第二平面连接;第二平面与固定装置固定连接;第一平面与水平面平行;样品颗粒均匀附着在斜面上;样品颗粒为微球颗粒。本发明能够提高对光学元件亚表面探测深度标定的可靠性。

    一种精准控制的纳米颗粒分离沉积方法

    公开(公告)号:CN118329557A

    公开(公告)日:2024-07-12

    申请号:CN202410434607.4

    申请日:2024-04-11

    Abstract: 本发明公开了一种精准控制的纳米颗粒分离沉积方法,涉及颗粒分离技术领域。分离沉积方法包括以下步骤:选取已知颗粒数量浓度的纳米颗粒溶液,对纳米颗粒溶液进行预沉积,生成单分散液滴;分析多个生成的单分散液滴体积,计算体积平均值#imgabs0#计算单分散液滴内包含纳米颗粒数量的期望值;稀释纳米颗粒溶液,调整颗粒浓度直至单分散液滴内包含颗粒数量的期望值#imgabs1#为0.9‑1;将上述调整好颗粒浓度的纳米颗粒溶液生成单分散液滴分别沉积在基底的不同位置;待基底上单分散液滴中溶剂完全蒸发后,实现纳米颗粒的分离沉积。该方法可以用于对纳米颗粒材料进行显微镜观察之前的样品处理,有效避免材料团聚,确保直接观察到材料本身形貌。

    一种用于探测亚表面深度的标定板及其制备方法

    公开(公告)号:CN118225795A

    公开(公告)日:2024-06-21

    申请号:CN202410649644.7

    申请日:2024-05-24

    Abstract: 本发明公开一种用于探测亚表面深度的标定板及其制备方法,涉及光学标定领域,该标定板包括:楔形玻璃、样品颗粒和固定装置;其中,楔形玻璃包括相互平行的第一侧面和第二侧面,相互垂直的第一平面和第二平面,以及一个斜面;第一侧面和第二侧面分别与第一平面、第二平面和斜面连接;斜面分别与第一平面和第二平面连接;第二平面与固定装置固定连接;第一平面与水平面平行;样品颗粒均匀附着在斜面上;样品颗粒为微球颗粒。本发明能够提高对光学元件亚表面探测深度标定的可靠性。

    一种自溯源干涉式位移传感器

    公开(公告)号:CN115574722B

    公开(公告)日:2024-03-29

    申请号:CN202211374220.1

    申请日:2022-11-04

    Inventor: 施玉书 张树 阎晗

    Abstract: 本发明涉及一种自溯源干涉式位移传感器,涉及位移传感器领域,包括:光源、第一分束器、反射模块、分析器、光电探测器和信号处理器;所述第一分束器用于将光源产生的光进行分束,得到第一衍射光和第二衍射光;所述反射模块设置在所述第一分束器和所述分析器之间;所述反射模块用于将所述第一衍射光和所述第二衍射光反射至所述分析器;所述第一分束器与所述分析器平行;待测物固定在所述分析器上;所述分析器用于将所述反射模块的反射光进行劳厄衍射,得到干涉光;所述光电探测器用于将所述分析器产生的干涉光转换为电信号;所述信号处理器与所述光电探测器连接;所述信号处理器用于根据所述电信号确定位移。本发明能够增大待测物的安装空间。

    一种激光干涉位移测量系统及方法

    公开(公告)号:CN114234818A

    公开(公告)日:2022-03-25

    申请号:CN202111552361.3

    申请日:2021-12-17

    Abstract: 本发明公开了一种激光干涉位移测量系统和方法,利用光纤跳线的出射端面和被测物表面构成开放式法布里珀罗腔,将激光光束在光纤跳线的出射端面与空气端面发生后向菲涅尔反射的部分作为参考光,将透射至被测物表面并反射耦合进光纤跳线的部分作为测量光,使参考光与测量光在光纤跳线内部发生干涉。当被测物发生位移时,法布里珀罗腔的腔长发生相应改变,相当于改变了测量光和参考光之间的光程差,从而导致测量光和参考光的相位差发生变化,最终影响二者的干涉信号,通过干涉信号调理模块和信号解调模块对干涉信号进行处理,计算得到被测物的位移量,从而实现了对位移的非接触、高精度测量。

    一种表面微观形貌测量传感器
    19.
    发明公开

    公开(公告)号:CN111351451A

    公开(公告)日:2020-06-30

    申请号:CN202010298447.7

    申请日:2020-04-16

    Abstract: 本发明公开一种表面微观形貌测量传感器,用于测量待测工件表面的形貌,包括:触针,用于测量微观形貌;触针轴,一端与所述触针连接,用于在所述触针测量微观形貌时跟随所述触针进行上下移动;磁恒力模块,与所述触针轴的另一端连接,用于调节所述触针与待测工件之间的测量力;触针轴气浮模块,环绕在所述触针轴外围,用于使所述触针轴悬浮;位移测量模块,设置在所述触针轴的正上方,用于测量所述触针轴在垂直方向上的位移。本发明通过触针轴气浮模块在触针轴外表面形成气隙,保证触针轴悬浮且摩擦最小,提高了触针测量的精度。通过磁恒力模块可调整触针与待测工件之间的测量力,以使触针将工件表面形貌更真实的传递给传感器。

    一种旋转平台及多倍程平面干涉角度测量系统

    公开(公告)号:CN108917655A

    公开(公告)日:2018-11-30

    申请号:CN201810818139.5

    申请日:2018-07-24

    Abstract: 本发明公开一种旋转平台,包括固定基座、转台和两个驱动器,固定基座的上表面开设有与转台形状相匹配的凹槽,转台可转动嵌置安装在凹槽内;转台包括中心圆形转子,中心圆形转子的两侧对称设置有两个旋转臂,两个驱动器以中心圆形转子的圆心为中心呈中心对称分布,两个驱动器用于同时驱动两个旋转臂同向旋转;该旋转平台在转动时可避免中心产生平移。本发明还提供一种结构紧凑、受环境影响小、角度分辨率高的多倍程平面干涉角度测量系统,包括上述旋转平台、被测平面镜和测角干涉仪,被测平面镜放置在中心圆形转子的上表面,测角干涉仪设置在旋转平台的一侧。

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