扫描探针针尖的制备方法

    公开(公告)号:CN110967526B

    公开(公告)日:2022-09-09

    申请号:CN201811161139.9

    申请日:2018-09-30

    Abstract: 本申请提供一种扫描探针针尖的制备方法,将探针前驱体以倾斜角度浸入电腐蚀液中,并可依据针尖面型需求驱动探针前驱体在电腐蚀液中做不同方向纳米级移动。在电腐蚀液中静态腐蚀探针前驱体,并实时监测腐蚀时的电解电流,直至腐蚀电流响应跳变,将腐蚀后的探针前躯体以一定倾斜角度移出电腐蚀液。通过扫描探针针尖的制备方法制备扫描探针方便快捷、成本低,特征尺寸及探针针尖几何面型可控。通过实时监测腐蚀时的电解电流是否发生突变,可以更加精准的获得所需纳米功能化的扫描探针,重现性好。

    纳米颗粒粒径测量系统
    2.
    发明授权

    公开(公告)号:CN108287126B

    公开(公告)日:2021-07-09

    申请号:CN201810243972.1

    申请日:2018-03-23

    Abstract: 本申请提供一种纳米颗粒粒径测量系统,激光光源将激光从入射装置中发出,入射光通过入射光通孔射入散射发生装置。散射发生装置设置有多个入射光通孔与多个出射光通孔。多个入射光通孔与多个所述出射光通孔设置于同一水平面。每个信号探测接收器对应一个所述出射光通孔,用于接收出射光通孔发出的出射光。纳米颗粒粒径测量系统在多个角度上对待测纳米颗粒的同一散射中心进行同时测量,能获得散射中心纳米颗粒的更多有效信息,尤其对于双峰分布的颗粒体系,测量更加准确。此外,纳米颗粒粒径测量系统内设置有偏振光路,通过测量偏振入射光经过散射体后偏振方向的改变,实现对棒状纳米颗粒的长径比的测量求解。

    一种表面微观形貌测量传感器
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN111351451A

    公开(公告)日:2020-06-30

    申请号:CN202010298447.7

    申请日:2020-04-16

    Abstract: 本发明公开一种表面微观形貌测量传感器,用于测量待测工件表面的形貌,包括:触针,用于测量微观形貌;触针轴,一端与所述触针连接,用于在所述触针测量微观形貌时跟随所述触针进行上下移动;磁恒力模块,与所述触针轴的另一端连接,用于调节所述触针与待测工件之间的测量力;触针轴气浮模块,环绕在所述触针轴外围,用于使所述触针轴悬浮;位移测量模块,设置在所述触针轴的正上方,用于测量所述触针轴在垂直方向上的位移。本发明通过触针轴气浮模块在触针轴外表面形成气隙,保证触针轴悬浮且摩擦最小,提高了触针测量的精度。通过磁恒力模块可调整触针与待测工件之间的测量力,以使触针将工件表面形貌更真实的传递给传感器。

    一种旋转平台及多倍程平面干涉角度测量系统

    公开(公告)号:CN108917655A

    公开(公告)日:2018-11-30

    申请号:CN201810818139.5

    申请日:2018-07-24

    Abstract: 本发明公开一种旋转平台,包括固定基座、转台和两个驱动器,固定基座的上表面开设有与转台形状相匹配的凹槽,转台可转动嵌置安装在凹槽内;转台包括中心圆形转子,中心圆形转子的两侧对称设置有两个旋转臂,两个驱动器以中心圆形转子的圆心为中心呈中心对称分布,两个驱动器用于同时驱动两个旋转臂同向旋转;该旋转平台在转动时可避免中心产生平移。本发明还提供一种结构紧凑、受环境影响小、角度分辨率高的多倍程平面干涉角度测量系统,包括上述旋转平台、被测平面镜和测角干涉仪,被测平面镜放置在中心圆形转子的上表面,测角干涉仪设置在旋转平台的一侧。

    一种光学检测系统及装置

    公开(公告)号:CN103383247B

    公开(公告)日:2016-08-10

    申请号:CN201310323229.4

    申请日:2013-07-30

    Abstract: 本发明公开了一种光学检测系统及装置,所述系统包括由上至下依次排列的激光器、非偏振分光镜、偏振分光镜、透反镜及测量透镜;非偏振分光镜位置水平对应光电接收器A,透反镜与测量透镜之间固定有λ/4波片,偏振分光镜位置水平对应光电接收器B。本发明设计的光学检测系统及装置解决了现有用于表面形貌测量的光学检测装置及非接触式显微测头,抗干扰能力不强、分辨力有限等问题。

    248nm深紫外高数值孔径科勒照明聚束镜

    公开(公告)号:CN104865689A

    公开(公告)日:2015-08-26

    申请号:CN201510159373.8

    申请日:2015-04-07

    CPC classification number: G02B21/08

    Abstract: 一种248nm深紫外高数值孔径科勒照明聚束镜,包括设在同一光轴的前部中继镜组及后部成像镜组,该前部中继镜组由前后依次设置的第一至第三透镜组成;该后部成像镜组由前后依次设置的第四至第十二透镜组成,其中第十二透镜为平行平板镜片,在透射深紫外光线的同时用于支撑被测样品;该两个镜组安装在恒温密封套筒内,每一透镜安装在对应的透镜框内。本发明采用高数值孔径的科勒式照明设计,具有亮度均匀、不引入光源伪像、优化像差、抑制杂散光的优点,高数值孔径保证了很高的分辨力。实验证明紫外显微镜下本装置能对100nm线宽产生清晰轮廓像,适用于集成电路光刻掩模版、纳米几何结构栅格和MEMS/NEMS器件关键尺寸的检测照明。

    一种稀疏散射缺陷的标准晶圆片的制造方法

    公开(公告)号:CN119618772A

    公开(公告)日:2025-03-14

    申请号:CN202411810046.X

    申请日:2024-12-10

    Abstract: 一种稀疏散射缺陷的标准晶圆片的制造方法,包括以下步骤:步骤一、确定预设的缺陷参数;步骤二、根据预设的缺陷参数,生成在缺陷区域内位置坐标随机排布的凸起或凹坑构成的缺陷图形,将缺陷图形设计为标准样板结构版图,并按照标准样板结构版图制作目标掩模版;通过热氧化工艺得到目标晶圆片;步骤三、利用光刻工艺,将目标掩模板上的图形转移到目标晶圆片上;采用刻蚀工艺对目标晶圆片进行刻蚀,得到标准晶圆片。本发明提供一种稀疏散射缺陷的标准晶圆片的制造方法,所制备的标准晶圆片具有可控的缺陷数目和缺陷直径,该晶圆可以清洗,具有更长的寿命。缺陷的分布区域、尺寸以及数量参数均为可控生成,能够满足不同类型检测设备的需要。

    用于共聚焦显微镜探测针孔的纳米级微位移调节装置

    公开(公告)号:CN110208936B

    公开(公告)日:2024-09-13

    申请号:CN201910468723.7

    申请日:2019-05-31

    Abstract: 本发明公开一种用于共聚焦显微镜探测针孔的纳米级微位移调节装置,由设置在下基座上的驱动器支撑上基座并对其进行快速、大行程的一级调节,由安装在上基座上的三维精密微位移平台对针孔盘进行三维方向的精密二级调节,通过上述双级调节可有效消除传统手动调节方式所带来的不确定性和不稳定性,以及现有光路调整机构可调行程小和应用范围受限的缺陷,并且上述一级大行程快速调节部分和二级精密微调部分可单独使用,以应用于相应需求场合。本发明通过控制器控制其进行纳米微位移调节,可使装置在工作过程中运行稳定、重复性好,从而使调节精度得到保障,实用性强。

    一种纳米步进样品扫描计量型扫描电子显微镜

    公开(公告)号:CN105353170B

    公开(公告)日:2023-06-13

    申请号:CN201510873126.4

    申请日:2015-12-04

    Abstract: 本发明涉及一种纳米步进样品扫描计量型扫描电子显微镜,二维激光干涉仪包括两个干涉仪,干涉仪分别位于测量样品在X方向和Y方向的位置,干涉仪的光源通过光纤从激光器引入,穿过玻璃窗的真空窗口片,在电镜内分成两束,分别入射到两个干涉镜;超声电机粗调位移台做扫描运动时,一个出射干涉光经真空窗入射到光电探测器作为位移台X轴位移数据信号;另一束干涉光经平面反射镜反射后入射靠近舱门的干涉仪,出射干涉光由另一个探测器接收作为位移台Y轴位移数据信号;所述X、Y轴位移数据配合电镜采集样品表面由电子束激发的二次电子信号,得到经过激光干涉仪溯源的测量数据。提供一种能够将其测量值直接溯源到米定义国家基准的标准的电子显微镜。

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