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公开(公告)号：CN108441838A
公开(公告)日：2018-08-24
申请号：CN201810234663.8
申请日：2018-03-21
Applicant: 中国兵器科学研究院宁波分院
Abstract: 本发明涉及一种中大口径光学元件表面离子束溅射沉积薄膜的方法，该方法采用在光学元件的沉积面上选取中心区域以及多个边缘区域，各边缘区域沿沉积面的周向间隔布置，在沉积镀膜的过程中，光学元件转动，同时，离子源与靶材在光学元件沉积面的下方作曲线往复运动，从而完成镀膜，这样的镀膜方法使得中大口径光学元件表面沉积稳定且沉积薄膜的厚度均匀，并对光学元件沉积面上的中心与边缘的驻留时间比工艺参数进行修正，使得获得的沉积面上中心区域与各边缘区域的膜厚度更加均匀，提高了镀膜质量，更能满足需求，实用性强。
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公开(公告)号：CN108127560A
公开(公告)日：2018-06-08
申请号：CN201711296522.0
申请日：2017-12-08
Applicant: 中国兵器科学研究院宁波分院
IPC: B24B49/00
CPC classification number: B24B49/00
Abstract: 本发明公开了一种用于方形光学元件双面快速抛光的控制系统，包括控制器和液压传动组件，其特征在于：还包括作为液压传动组件驱动源的电动伺服组件，以及用于检测液压传动组件的压力、从而反馈给控制器以便控制电动伺服组件的压力反馈组件。通过利用伺服电机作为驱动源，因此在整个控制过程中，尤其是在补油阶段，不需要频繁的开启和关闭小泵，也不需要频繁的控制阀门，很好地改善在方形光学元件双面快速抛光过程中的补压阶段由于不断补油而造成的压力脉动和波动；利用三通道压力调整控制，既能降低成本，又便于快速地达到所需的控制压力。
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公开(公告)号：CN114851023A
公开(公告)日：2022-08-05
申请号：CN202210471182.5
申请日：2022-04-28
Applicant: 中国兵器科学研究院宁波分院
Abstract: 本发明涉及一种用于大尺寸非球面光学元件研抛机床的在位检测方法，包括：步骤1、获取待研抛元件的初始面形；步骤2、根据待研抛元件的初始面形生成加工代码；步骤3、对待研抛元件进行初定位：步骤4、使用第一传感器对初定位的待研抛元件进行基准在位检测，获得待研抛元件的实际位置；步骤5、对待研抛元件进行一次研抛；步骤6、对研抛后的元件进行面形在位检测，获得元件研抛后的面形数据；步骤7、判断步骤6中获取的元件研抛后的面形数据是否合格，如是，则进入终检，结束；如否，则转入到步骤5。本方法不仅操作方便，而且精度高、加工效率高，应用于大尺寸非球面光学元小磨头数控研抛机床的在位检测。
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公开(公告)号：CN114804011A
公开(公告)日：2022-07-29
申请号：CN202210476300.1
申请日：2022-04-29
Applicant: 中国兵器科学研究院宁波分院
IPC: B81C1/00
Abstract: 本发明涉及一种聚合物微结构的超精密制造方法，步骤S1、采用金刚石铣削接触式工艺对聚合物表面进行加工，以实现对微结构的毫微级控形；步骤S2、对步骤S1得到的聚合物微结构采用激光束非接触式工艺，实现微米级调形；步骤S3、在步骤S2得到的聚合物外设置导电层，导电层具有使聚合物的微结构外露的镂空部，然后采用非接触式离子束加工，离子束直接对聚合物微结构进行纳米级精调。最终产品可以达到需要的精度要求及表面质量要求，并且加工效率较高。
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公开(公告)号：CN114742767A
公开(公告)日：2022-07-12
申请号：CN202210267849.X
申请日：2022-03-17
Applicant: 中国兵器科学研究院宁波分院
Abstract: 本发明涉及一种光学元件表面缺陷识别方法，包括以下步骤：步骤1、图像采集；步骤2、对所有光学元件的子孔径缺陷图像进行拼接，得到光学元件完整的全口径缺陷图像；步骤3、采用全局阈值对光学元件完整的全口径缺陷图像进行预处理分割，使灰度图像背景与缺陷分割开；步骤4、对缺陷灰度图进行预处理，并对缺陷的特征和形态参数进行提取；步骤5、对根据缺陷的特征和形态参数进行分类，得到缺陷分类结果。本发明的优点在于：通过全局阈值对光学元件完整的全口径缺陷图像进行预处理分割，使灰度图像背景与缺陷分割开，因此该方法无需人为识别缺陷，通过灰度将背景和缺陷分割开来，提高了缺陷识别的准确率，且通过自动化操作，提高了缺陷识别速度。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN110216548B
公开(公告)日：2021-06-01
申请号：CN201910444411.2
申请日：2019-05-27
Applicant: 中国兵器科学研究院宁波分院
IPC: B24B13/00 , B24B13/005 , B24B1/00 , B24B41/00
Abstract: 一种用于离子束加工的多品种大口径光学元件复合装置，包括基体、用于输送光学元件的输送夹紧装置以及提升定位装置，其中提升定位装置可上下移动地设置在基体上，基体的底部左右两侧设有滑轨，输送夹紧装置可前后滑动地设置在滑轨上，滑轨上设有用于定位输送夹紧装置的定位块，基体上设有定位套，输送夹紧装置的上端设有对应的定位销，当输送夹紧装置沿滑轨移动到定位块时，输送夹紧装置正好位于提升定位装置的正下方，输送夹紧装置通过提升定位装置的提升向上移动与基体定位。本发明结构简单合理紧凑，不仅可实现多品种光学元件的装夹，且定位精确，同时方便与外部运输装置对接。
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公开(公告)号：CN111403251A
公开(公告)日：2020-07-10
申请号：CN202010286352.3
申请日：2020-04-13
Applicant: 中国兵器科学研究院宁波分院
Abstract: 本发明涉及一种射频离子源离子束束径约束器，其特征在于：所述束径约束器包括具有可供离子束穿过的中空结构的底座、多个叶片及驱动机构；所述多个叶片设于底座一端并环绕中空结构呈圆周排布，多个叶片的尾端伸入中空结构所在区域以围合形成可供离子束穿过的光阑，所述驱动机构可驱动叶片的尾端相对叶片排布形成的圆周中心运动以调节光阑大小。本发明还涉及一种包括束径约束器的控制装置及对应的方法，采用该装置及方法进行离子束束径控制，操作方便，调节精度好，效率高，而且成本节约。
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公开(公告)号：CN108051184A
公开(公告)日：2018-05-18
申请号：CN201711242519.0
申请日：2017-11-30
Applicant: 中国兵器科学研究院宁波分院
IPC: G01M11/00
CPC classification number: G01M11/00
Abstract: 本发明公开了一种扩束准直光检测方法，涉及图像处理技术领域。包括：通过剪切干涉方法获取干涉图像，对所述干涉条纹进行空间滤波得到滤波干涉条纹；将所述滤波干涉条纹通过傅里叶变化获取所述滤波干涉条纹的频谱图；通过设置的滤波窗口对所述频谱图进行频域滤波处理，得到滤波频谱图；对所述滤波频谱图进行反傅里叶变化，得到所述干涉图像的包裹相位，采用最小二乘法对所述包裹相位进行解包得到所述干涉图像的相位解包图；所述相位解包图通过整面消倾斜得到通过所述剪切干涉得到的所述干涉图像的真实相位；对所述真实相位采用Zernike波前重构处理，得到所述涉图像的波面信息。
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公开(公告)号：CN106392881A
公开(公告)日：2017-02-15
申请号：CN201610938494.7
申请日：2016-10-25
Applicant: 中国兵器科学研究院宁波分院
Abstract: 一种用于发动机一体式气门座圈巡边磨削加工的径向进给装置包括机体、推杆、滚轮及滑块，推杆在电机驱动下相对前述的机体能轴向移动；滚轮设于前述推杆的底端；滑块设于前述机体上并在滚轮的驱动下相对机体能径向移动，该滑块内设有变向滑轨，该变向滑轨上具有与前述滚轮配合从而带动滑块径向移动的斜导轨槽；所述的滑块上设有能消除滚轮与斜导轨槽间隙的间隙调整机构。与现有技术相比，本发明的优点在于：能够消除被磨削加工表面环形磨削痕迹，提高被磨削表面的表面质量；降低砂轮的磨损，从而达到提高磨削精度的目的。
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公开(公告)号：CN105328536A
公开(公告)日：2016-02-17
申请号：CN201510741315.6
申请日：2015-11-04
Applicant: 中国兵器科学研究院宁波分院
CPC classification number: B24B13/00 , B24B51/00 , H04L12/40006 , H04L2012/40221
Abstract: 本发明涉及一种真空离子束抛光机控制系统，包括有真空控制单元、离子源控制单元、离子源运动控制单元、PLC控制器、I/O扩展模块、上位机和人机交互屏。真空控制单元、离子源控制单元通过PLC控制器与上位机通讯连接，离子源运动控制单元与上位机之间通讯连接。本发明还涉及该真空离子束抛光机控制系统的通讯方法，在人机交互屏上利用人机界面构架添加各个控制单元的组态控制界面，在利用上位机获取的真空控制单元、离子源控制单元、离子源运动控制单元中的数据，实时更新真空离子束抛光机组态控制界面上的显示内容，从而实现真空离子束抛光机中各控制系统的同一监控和管理，信息量大、操作方便。
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