一种高效率复合加工非球面光学元件的方法

    公开(公告)号:CN119658476A

    公开(公告)日:2025-03-21

    申请号:CN202411889936.4

    申请日:2024-12-20

    Abstract: 一种高效率复合加工非球面光学元件的方法,步骤:根据待加工光学元件形状制作工装夹具,将光学元件坯料下表面磨平抛光,固定在工装夹具上;通过粗磨+精磨对光学元件毛坯上表面进行非球面成型加工,得到非球面样件;采用轮廓仪测量非球面样件面形数据;将面形数据导入气囊抛光机床,计算得到补偿加工的NC代码,将工装夹具与非球面样件一同固定在抛光机床的过渡夹具上采用不同气囊抛光头对非球面样件的上表面进行粗抛和精抛;加工完成后采用轮廓仪测量非球面样件面形数据,合格后将非球面样件及工装夹具浸泡在丙酮溶液中,取出样件。本发明工艺科学合理,能实现对元件面形的快速测量,减少装夹误差,提高加工质量和加工效率,降低生产成本。

    一种射频离子源离子束稳定性判断方法

    公开(公告)号:CN114188200A

    公开(公告)日:2022-03-15

    申请号:CN202111368757.2

    申请日:2021-11-18

    Abstract: 本发明涉及一种射频离子源离子束稳定性判断方法,包括,S1,射频离子源开启时间t满足条件ta≤t≤tb时,每间隔时间△t对离子束进行法拉第扫描并获取对应时刻ti的束流度实际测量数值Ii和峰值束流密度Jmaxi;S2,计算时刻ti的束流分布特征量Hi及体积去除率Vmi;S3,判断束流度实际测量数值Ii、峰值束流密度Jmaxi、束流分布特征量Hi及体积去除率Vmi的偏差是否均满足对应设定范围,若是,则判断为射频离子源离子束稳定性好,否则,稳定性不好。该方法通过对离子束稳定性进行检测,在离子束稳定性不好时,可以调整工艺参数来提高其稳定性,避免采用稳定性不好的离子束进行产品加工,有利于提高产品加工质量,减少次品,从而节约生产成本。

    一种可实现间歇刻蚀的离子源装置

    公开(公告)号:CN117116735A

    公开(公告)日:2023-11-24

    申请号:CN202311149316.2

    申请日:2023-09-07

    Abstract: 一种可实现间歇刻蚀的离子源装置,包括放电室、离子源光学系统、冷却装置,冷却装置中设有中和器、放电室的上部设有离子源光学系统,放电室的顶部固定有冷却装置,其特征在于所述冷却装置的一侧设有直流电机,冷却装置的中间设有离子源通孔,并且冷却装置的顶部与底部分别设有顶部隔离金属板与底部隔离金属板,对应的,顶部隔离金属板与底部隔离金属板也分别设有离子源出孔和进孔,顶部隔离金属板的上端设有阻挡机构,底部隔离金属板的底部与放电室相连接。它能对光学元件表面的精确修形,能够根据具体需要,通过驱动阻挡机构,限制离子束对光学零件的刻蚀,结构简单,成本低,冷却快速,减少温度对零件的影响。

    一种聚合物微结构的超精密制造方法

    公开(公告)号:CN114804011A

    公开(公告)日:2022-07-29

    申请号:CN202210476300.1

    申请日:2022-04-29

    Abstract: 本发明涉及一种聚合物微结构的超精密制造方法,步骤S1、采用金刚石铣削接触式工艺对聚合物表面进行加工,以实现对微结构的毫微级控形;步骤S2、对步骤S1得到的聚合物微结构采用激光束非接触式工艺,实现微米级调形;步骤S3、在步骤S2得到的聚合物外设置导电层,导电层具有使聚合物的微结构外露的镂空部,然后采用非接触式离子束加工,离子束直接对聚合物微结构进行纳米级精调。最终产品可以达到需要的精度要求及表面质量要求,并且加工效率较高。

    一种光学元件表面缺陷识别方法
    5.
    发明公开

    公开(公告)号:CN114742767A

    公开(公告)日:2022-07-12

    申请号:CN202210267849.X

    申请日:2022-03-17

    Abstract: 本发明涉及一种光学元件表面缺陷识别方法,包括以下步骤:步骤1、图像采集;步骤2、对所有光学元件的子孔径缺陷图像进行拼接,得到光学元件完整的全口径缺陷图像;步骤3、采用全局阈值对光学元件完整的全口径缺陷图像进行预处理分割,使灰度图像背景与缺陷分割开;步骤4、对缺陷灰度图进行预处理,并对缺陷的特征和形态参数进行提取;步骤5、对根据缺陷的特征和形态参数进行分类,得到缺陷分类结果。本发明的优点在于:通过全局阈值对光学元件完整的全口径缺陷图像进行预处理分割,使灰度图像背景与缺陷分割开,因此该方法无需人为识别缺陷,通过灰度将背景和缺陷分割开来,提高了缺陷识别的准确率,且通过自动化操作,提高了缺陷识别速度。

    一种射频离子源离子束束径约束器、束径控制装置及方法

    公开(公告)号:CN111403251A

    公开(公告)日:2020-07-10

    申请号:CN202010286352.3

    申请日:2020-04-13

    Abstract: 本发明涉及一种射频离子源离子束束径约束器,其特征在于:所述束径约束器包括具有可供离子束穿过的中空结构的底座、多个叶片及驱动机构;所述多个叶片设于底座一端并环绕中空结构呈圆周排布,多个叶片的尾端伸入中空结构所在区域以围合形成可供离子束穿过的光阑,所述驱动机构可驱动叶片的尾端相对叶片排布形成的圆周中心运动以调节光阑大小。本发明还涉及一种包括束径约束器的控制装置及对应的方法,采用该装置及方法进行离子束束径控制,操作方便,调节精度好,效率高,而且成本节约。

    一种射频离子源离子束束径约束器、束径控制装置及方法

    公开(公告)号:CN111403251B

    公开(公告)日:2025-02-21

    申请号:CN202010286352.3

    申请日:2020-04-13

    Abstract: 本发明涉及一种射频离子源离子束束径约束器,其特征在于:所述束径约束器包括具有可供离子束穿过的中空结构的底座、多个叶片及驱动机构;所述多个叶片设于底座一端并环绕中空结构呈圆周排布,多个叶片的尾端伸入中空结构所在区域以围合形成可供离子束穿过的光阑,所述驱动机构可驱动叶片的尾端相对叶片排布形成的圆周中心运动以调节光阑大小。本发明还涉及一种包括束径约束器的控制装置及对应的方法,采用该装置及方法进行离子束束径控制,操作方便,调节精度好,效率高,而且成本节约。

    一种等离子体加工机床运动系统的防护装置

    公开(公告)号:CN118635958A

    公开(公告)日:2024-09-13

    申请号:CN202410670497.1

    申请日:2024-05-28

    Abstract: 本发明公开一种等离子体加工机床运动系统的防护装置,包括内伸缩罩,能伸缩地罩设于运动系统的导向件/传动件外,伸缩方向与导向件/传动件的导向/传动方向相一致,内伸缩罩在运动系统的运动件处避位,内伸缩罩开有气孔,内伸缩罩内为内部空间;外伸缩罩,能伸缩地罩设于内伸缩罩外,伸缩方向与导向件/传动件的导向/传动方向相一致,外伸缩罩在运动系统的运动件处设有第二开口,第二开口的边沿与运动件的侧面相连接并使运动件的顶面外露于外伸缩罩,外伸缩罩与内伸缩罩之间为中部空间,外伸缩罩外为外部空间,中部空间通过内伸缩罩的气孔与内部空间相连通;气源,与中部空间相连通,并向中部空间供给气体,气体通过气孔进入内部空间使内部空间的气压始终高于外部空间。

    一种聚合物微结构的超精密制造方法

    公开(公告)号:CN114804011B

    公开(公告)日:2024-09-03

    申请号:CN202210476300.1

    申请日:2022-04-29

    Abstract: 本发明涉及一种聚合物微结构的超精密制造方法,步骤S1、采用金刚石铣削接触式工艺对聚合物表面进行加工,以实现对微结构的毫微级控形;步骤S2、对步骤S1得到的聚合物微结构采用激光束非接触式工艺,实现微米级调形;步骤S3、在步骤S2得到的聚合物外设置导电层,导电层具有使聚合物的微结构外露的镂空部,然后采用非接触式离子束加工,离子束直接对聚合物微结构进行纳米级精调。最终产品可以达到需要的精度要求及表面质量要求,并且加工效率较高。

    一种基于BP神经网络确定离子束抛光去除函数的方法

    公开(公告)号:CN114564688A

    公开(公告)日:2022-05-31

    申请号:CN202210107456.2

    申请日:2022-01-28

    Abstract: 本发明涉及一种基于PB神经网络确定离子束抛光去除函数的方法,通过有限次的法拉第扫描和线扫描实验建立数据库,确定离子束电流密度和去除函数分布系数之间的关系,根据法拉第扫描结果,通过线性公式计算去除函数峰值去除率,通过BP神经网络预测去除函数分布系数。本方法得到的去除函数信息与通过实验方法得到的去除函数信息基本相同,却极大的缩短了确定去除函数的时间;同时基于法拉第扫描结果确定去除函数,无需在元件表面进行去除函数实验,从而节约了成本;且本发明通过线性公式和BP神经网络来确定去除函数的分布信息,这种方法对于所有可用于离子束加工的材料均适用,不受材料特性的限制,可用于所有的离子束加工过程。

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