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公开(公告)号：CN117116735A
公开(公告)日：2023-11-24
申请号：CN202311149316.2
申请日：2023-09-07
Applicant: 中国兵器科学研究院宁波分院
IPC: H01J37/32
Abstract: 一种可实现间歇刻蚀的离子源装置，包括放电室、离子源光学系统、冷却装置，冷却装置中设有中和器、放电室的上部设有离子源光学系统，放电室的顶部固定有冷却装置，其特征在于所述冷却装置的一侧设有直流电机，冷却装置的中间设有离子源通孔，并且冷却装置的顶部与底部分别设有顶部隔离金属板与底部隔离金属板，对应的，顶部隔离金属板与底部隔离金属板也分别设有离子源出孔和进孔，顶部隔离金属板的上端设有阻挡机构，底部隔离金属板的底部与放电室相连接。它能对光学元件表面的精确修形，能够根据具体需要，通过驱动阻挡机构，限制离子束对光学零件的刻蚀，结构简单，成本低，冷却快速，减少温度对零件的影响。
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公开(公告)号：CN114851023A
公开(公告)日：2022-08-05
申请号：CN202210471182.5
申请日：2022-04-28
Applicant: 中国兵器科学研究院宁波分院
Abstract: 本发明涉及一种用于大尺寸非球面光学元件研抛机床的在位检测方法，包括：步骤1、获取待研抛元件的初始面形；步骤2、根据待研抛元件的初始面形生成加工代码；步骤3、对待研抛元件进行初定位：步骤4、使用第一传感器对初定位的待研抛元件进行基准在位检测，获得待研抛元件的实际位置；步骤5、对待研抛元件进行一次研抛；步骤6、对研抛后的元件进行面形在位检测，获得元件研抛后的面形数据；步骤7、判断步骤6中获取的元件研抛后的面形数据是否合格，如是，则进入终检，结束；如否，则转入到步骤5。本方法不仅操作方便，而且精度高、加工效率高，应用于大尺寸非球面光学元小磨头数控研抛机床的在位检测。
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公开(公告)号：CN114742767A
公开(公告)日：2022-07-12
申请号：CN202210267849.X
申请日：2022-03-17
Applicant: 中国兵器科学研究院宁波分院
Abstract: 本发明涉及一种光学元件表面缺陷识别方法，包括以下步骤：步骤1、图像采集；步骤2、对所有光学元件的子孔径缺陷图像进行拼接，得到光学元件完整的全口径缺陷图像；步骤3、采用全局阈值对光学元件完整的全口径缺陷图像进行预处理分割，使灰度图像背景与缺陷分割开；步骤4、对缺陷灰度图进行预处理，并对缺陷的特征和形态参数进行提取；步骤5、对根据缺陷的特征和形态参数进行分类，得到缺陷分类结果。本发明的优点在于：通过全局阈值对光学元件完整的全口径缺陷图像进行预处理分割，使灰度图像背景与缺陷分割开，因此该方法无需人为识别缺陷，通过灰度将背景和缺陷分割开来，提高了缺陷识别的准确率，且通过自动化操作，提高了缺陷识别速度。
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公开(公告)号：CN110216548B
公开(公告)日：2021-06-01
申请号：CN201910444411.2
申请日：2019-05-27
Applicant: 中国兵器科学研究院宁波分院
IPC: B24B13/00 , B24B13/005 , B24B1/00 , B24B41/00
Abstract: 一种用于离子束加工的多品种大口径光学元件复合装置，包括基体、用于输送光学元件的输送夹紧装置以及提升定位装置，其中提升定位装置可上下移动地设置在基体上，基体的底部左右两侧设有滑轨，输送夹紧装置可前后滑动地设置在滑轨上，滑轨上设有用于定位输送夹紧装置的定位块，基体上设有定位套，输送夹紧装置的上端设有对应的定位销，当输送夹紧装置沿滑轨移动到定位块时，输送夹紧装置正好位于提升定位装置的正下方，输送夹紧装置通过提升定位装置的提升向上移动与基体定位。本发明结构简单合理紧凑，不仅可实现多品种光学元件的装夹，且定位精确，同时方便与外部运输装置对接。
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公开(公告)号：CN108051184A
公开(公告)日：2018-05-18
申请号：CN201711242519.0
申请日：2017-11-30
Applicant: 中国兵器科学研究院宁波分院
IPC: G01M11/00
CPC classification number: G01M11/00
Abstract: 本发明公开了一种扩束准直光检测方法，涉及图像处理技术领域。包括：通过剪切干涉方法获取干涉图像，对所述干涉条纹进行空间滤波得到滤波干涉条纹；将所述滤波干涉条纹通过傅里叶变化获取所述滤波干涉条纹的频谱图；通过设置的滤波窗口对所述频谱图进行频域滤波处理，得到滤波频谱图；对所述滤波频谱图进行反傅里叶变化，得到所述干涉图像的包裹相位，采用最小二乘法对所述包裹相位进行解包得到所述干涉图像的相位解包图；所述相位解包图通过整面消倾斜得到通过所述剪切干涉得到的所述干涉图像的真实相位；对所述真实相位采用Zernike波前重构处理，得到所述涉图像的波面信息。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN106392881A
公开(公告)日：2017-02-15
申请号：CN201610938494.7
申请日：2016-10-25
Applicant: 中国兵器科学研究院宁波分院
Abstract: 一种用于发动机一体式气门座圈巡边磨削加工的径向进给装置包括机体、推杆、滚轮及滑块，推杆在电机驱动下相对前述的机体能轴向移动；滚轮设于前述推杆的底端；滑块设于前述机体上并在滚轮的驱动下相对机体能径向移动，该滑块内设有变向滑轨，该变向滑轨上具有与前述滚轮配合从而带动滑块径向移动的斜导轨槽；所述的滑块上设有能消除滚轮与斜导轨槽间隙的间隙调整机构。与现有技术相比，本发明的优点在于：能够消除被磨削加工表面环形磨削痕迹，提高被磨削表面的表面质量；降低砂轮的磨损，从而达到提高磨削精度的目的。
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公开(公告)号：CN105328536A
公开(公告)日：2016-02-17
申请号：CN201510741315.6
申请日：2015-11-04
Applicant: 中国兵器科学研究院宁波分院
CPC classification number: B24B13/00 , B24B51/00 , H04L12/40006 , H04L2012/40221
Abstract: 本发明涉及一种真空离子束抛光机控制系统，包括有真空控制单元、离子源控制单元、离子源运动控制单元、PLC控制器、I/O扩展模块、上位机和人机交互屏。真空控制单元、离子源控制单元通过PLC控制器与上位机通讯连接，离子源运动控制单元与上位机之间通讯连接。本发明还涉及该真空离子束抛光机控制系统的通讯方法，在人机交互屏上利用人机界面构架添加各个控制单元的组态控制界面，在利用上位机获取的真空控制单元、离子源控制单元、离子源运动控制单元中的数据，实时更新真空离子束抛光机组态控制界面上的显示内容，从而实现真空离子束抛光机中各控制系统的同一监控和管理，信息量大、操作方便。
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公开(公告)号：CN120055994A
公开(公告)日：2025-05-30
申请号：CN202510310426.5
申请日：2025-03-17
Applicant: 中国兵器科学研究院宁波分院
Abstract: 一种抛光压力可调节的上抛光盘装置，包括有：基座和抛光组件，抛光组件包括有旋转杆、抛光盘安装组件及抛光盘，旋转杆的下端通过抛光盘安装组件连接有抛光盘；移动组件包括有气缸，气缸活动端的下端通过可旋转连接结构连接旋转杆；其特征在于移动组件包括有压力调节装置，平衡缸的活塞杆下端连接可旋转连接结构，承担抛光盘和可旋转连接结构的重力；压力缸的活塞杆下端连接可旋转连接结构，推动抛光盘上下升降并施加抛光压力；压力传感器设在活塞杆下端和可旋转连接结构之间，用于测量抛光压力并输出压力信号；控制器的信号输入端接收输出压力信号，对应地，压力缸和平衡缸所对应电控阀门，结构简单、成本低、操作方便而且抛光压力测量准确。
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公开(公告)号：CN118635958A
公开(公告)日：2024-09-13
申请号：CN202410670497.1
申请日：2024-05-28
Applicant: 中国兵器科学研究院宁波分院
IPC: B23Q11/08
Abstract: 本发明公开一种等离子体加工机床运动系统的防护装置，包括内伸缩罩，能伸缩地罩设于运动系统的导向件/传动件外，伸缩方向与导向件/传动件的导向/传动方向相一致，内伸缩罩在运动系统的运动件处避位，内伸缩罩开有气孔，内伸缩罩内为内部空间；外伸缩罩，能伸缩地罩设于内伸缩罩外，伸缩方向与导向件/传动件的导向/传动方向相一致，外伸缩罩在运动系统的运动件处设有第二开口，第二开口的边沿与运动件的侧面相连接并使运动件的顶面外露于外伸缩罩，外伸缩罩与内伸缩罩之间为中部空间，外伸缩罩外为外部空间，中部空间通过内伸缩罩的气孔与内部空间相连通；气源，与中部空间相连通，并向中部空间供给气体，气体通过气孔进入内部空间使内部空间的气压始终高于外部空间。
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公开(公告)号：CN114564688A
公开(公告)日：2022-05-31
申请号：CN202210107456.2
申请日：2022-01-28
Applicant: 中国兵器科学研究院宁波分院
Abstract: 本发明涉及一种基于PB神经网络确定离子束抛光去除函数的方法，通过有限次的法拉第扫描和线扫描实验建立数据库，确定离子束电流密度和去除函数分布系数之间的关系，根据法拉第扫描结果，通过线性公式计算去除函数峰值去除率，通过BP神经网络预测去除函数分布系数。本方法得到的去除函数信息与通过实验方法得到的去除函数信息基本相同，却极大的缩短了确定去除函数的时间；同时基于法拉第扫描结果确定去除函数，无需在元件表面进行去除函数实验，从而节约了成本；且本发明通过线性公式和BP神经网络来确定去除函数的分布信息，这种方法对于所有可用于离子束加工的材料均适用，不受材料特性的限制，可用于所有的离子束加工过程。
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