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公开(公告)号:CN110216548B
公开(公告)日:2021-06-01
申请号:CN201910444411.2
申请日:2019-05-27
Applicant: 中国兵器科学研究院宁波分院
IPC: B24B13/00 , B24B13/005 , B24B1/00 , B24B41/00
Abstract: 一种用于离子束加工的多品种大口径光学元件复合装置,包括基体、用于输送光学元件的输送夹紧装置以及提升定位装置,其中提升定位装置可上下移动地设置在基体上,基体的底部左右两侧设有滑轨,输送夹紧装置可前后滑动地设置在滑轨上,滑轨上设有用于定位输送夹紧装置的定位块,基体上设有定位套,输送夹紧装置的上端设有对应的定位销,当输送夹紧装置沿滑轨移动到定位块时,输送夹紧装置正好位于提升定位装置的正下方,输送夹紧装置通过提升定位装置的提升向上移动与基体定位。本发明结构简单合理紧凑,不仅可实现多品种光学元件的装夹,且定位精确,同时方便与外部运输装置对接。
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公开(公告)号:CN108051184A
公开(公告)日:2018-05-18
申请号:CN201711242519.0
申请日:2017-11-30
Applicant: 中国兵器科学研究院宁波分院
IPC: G01M11/00
CPC classification number: G01M11/00
Abstract: 本发明公开了一种扩束准直光检测方法,涉及图像处理技术领域。包括:通过剪切干涉方法获取干涉图像,对所述干涉条纹进行空间滤波得到滤波干涉条纹;将所述滤波干涉条纹通过傅里叶变化获取所述滤波干涉条纹的频谱图;通过设置的滤波窗口对所述频谱图进行频域滤波处理,得到滤波频谱图;对所述滤波频谱图进行反傅里叶变化,得到所述干涉图像的包裹相位,采用最小二乘法对所述包裹相位进行解包得到所述干涉图像的相位解包图;所述相位解包图通过整面消倾斜得到通过所述剪切干涉得到的所述干涉图像的真实相位;对所述真实相位采用Zernike波前重构处理,得到所述涉图像的波面信息。
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公开(公告)号:CN106392881A
公开(公告)日:2017-02-15
申请号:CN201610938494.7
申请日:2016-10-25
Applicant: 中国兵器科学研究院宁波分院
Abstract: 一种用于发动机一体式气门座圈巡边磨削加工的径向进给装置包括机体、推杆、滚轮及滑块,推杆在电机驱动下相对前述的机体能轴向移动;滚轮设于前述推杆的底端;滑块设于前述机体上并在滚轮的驱动下相对机体能径向移动,该滑块内设有变向滑轨,该变向滑轨上具有与前述滚轮配合从而带动滑块径向移动的斜导轨槽;所述的滑块上设有能消除滚轮与斜导轨槽间隙的间隙调整机构。与现有技术相比,本发明的优点在于:能够消除被磨削加工表面环形磨削痕迹,提高被磨削表面的表面质量;降低砂轮的磨损,从而达到提高磨削精度的目的。
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公开(公告)号:CN105328536A
公开(公告)日:2016-02-17
申请号:CN201510741315.6
申请日:2015-11-04
Applicant: 中国兵器科学研究院宁波分院
CPC classification number: B24B13/00 , B24B51/00 , H04L12/40006 , H04L2012/40221
Abstract: 本发明涉及一种真空离子束抛光机控制系统,包括有真空控制单元、离子源控制单元、离子源运动控制单元、PLC控制器、I/O扩展模块、上位机和人机交互屏。真空控制单元、离子源控制单元通过PLC控制器与上位机通讯连接,离子源运动控制单元与上位机之间通讯连接。本发明还涉及该真空离子束抛光机控制系统的通讯方法,在人机交互屏上利用人机界面构架添加各个控制单元的组态控制界面,在利用上位机获取的真空控制单元、离子源控制单元、离子源运动控制单元中的数据,实时更新真空离子束抛光机组态控制界面上的显示内容,从而实现真空离子束抛光机中各控制系统的同一监控和管理,信息量大、操作方便。
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公开(公告)号:CN109605168B
公开(公告)日:2021-09-14
申请号:CN201811451945.X
申请日:2018-11-30
Applicant: 中国兵器科学研究院宁波分院
IPC: B24B13/00 , B24B13/005 , B24B1/04 , B24B55/06 , B24B49/12
Abstract: 本发明提供一种大直径光学元件的加工系统,包括工作台、设于所述工作台主轴上的光学元件、用于对光学元件进行定位和检测表面粗糙度的定位及检测系统、用于对光学元件进行加工的旋转超声振动系统、控制系统、以及蠕动泵和冷却装置;旋转超声振动系统包括超声波发生器、驱动电机、旋转装置、超声波加工装置;超声波加工装置以一定的静压力压在光学元件上方并能相对于光学元件高速旋转,超声波加工装置和光学元件表面通过蠕动泵缓慢注入清洗液,用以加工过程中的清洗及冷却。相对于现有技术,本发明的加工系统能有效降低光学元件表面粗糙度,提高加工精度及表面光洁度,进而提高产品质量及生产效率。
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公开(公告)号:CN113172459A
公开(公告)日:2021-07-27
申请号:CN202110370874.6
申请日:2021-04-07
Applicant: 中国兵器科学研究院宁波分院
IPC: B23Q3/12
Abstract: 本发明涉及一种光学元件的车削定心装置,其特征在于:包括活动基座,用于安装在机床上;依次重叠的多个叶片,各叶片可摆动地设于所述活动基座上,多个叶片的内壁能够围合成供光学元件穿设的通孔,且所述活动基座安装于机床状态下,所述通孔的中心线与机床主轴的轴线同轴;驱动结构,用于驱动各叶片摆动以无极调节所述通孔的孔径;锁定结构,用于锁定所述通孔的孔径。本发明涉及的一种光学元件的车削定心装置,更易操作、工作效率高,而且,定心操作对操作者要求较低,定心精度高且定心稳定性更好,适用范围广。
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公开(公告)号:CN109581609B
公开(公告)日:2021-06-08
申请号:CN201811556828.X
申请日:2018-12-19
Applicant: 中国兵器科学研究院宁波分院
Abstract: 本发明涉及一种用于光学元件面形检测的立式干涉仪标准镜装夹装置和方法,立式干涉仪标准镜装夹装置包括调平机构、辅助支撑件和用于放置标准镜的托盘,所述调平机构的数量至少为三个,并沿托盘的周向方向均匀分布,各所述调平机构包括驱动系统和用于支撑托盘的支承块,所述驱动系统能够驱动支承块沿高度方向移动,支承块能到达的高度最低值记为Hmin,最高值记为Hmax,所述辅助支撑件包括支架和安装在支架上的缓冲垫,该缓冲垫用于支撑托盘,其高度记为h,Hmin、Hmax和h的关系满足:Hmin<h<Hmax。与现有技术相比,本发明的优点在于:能够精密调整标准镜的水平度。
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公开(公告)号:CN108441838B
公开(公告)日:2020-04-17
申请号:CN201810234663.8
申请日:2018-03-21
Applicant: 中国兵器科学研究院宁波分院
Abstract: 本发明涉及一种中大口径光学元件表面离子束溅射沉积薄膜的方法,该方法采用在光学元件的沉积面上选取中心区域以及多个边缘区域,各边缘区域沿沉积面的周向间隔布置,在沉积镀膜的过程中,光学元件转动,同时,离子源与靶材在光学元件沉积面的下方作曲线往复运动,从而完成镀膜,这样的镀膜方法使得中大口径光学元件表面沉积稳定且沉积薄膜的厚度均匀,并对光学元件沉积面上的中心与边缘的驻留时间比工艺参数进行修正,使得获得的沉积面上中心区域与各边缘区域的膜厚度更加均匀,提高了镀膜质量,更能满足需求,实用性强。
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公开(公告)号:CN110666596A
公开(公告)日:2020-01-10
申请号:CN201910822123.6
申请日:2019-09-02
Applicant: 中国兵器科学研究院宁波分院
IPC: B24B1/00 , B24B13/005 , B24B41/00
Abstract: 一种用于光学元件的定位及姿态调整装置,包括基板、初步定位机构、终定位机构和姿态调整结构,基板为左右平行设置二条,基板上设有导轨,基板上从下往上依次设有移动顶板、夹具顶板和顶板,移动顶板通过导轮可沿导轨自由移动;初步定位机构包括元件吊钩、套筒和螺母,夹具顶板通过定位销定位于移动顶板的上方,元件通过元件吊钩挂置在移动顶板的下方,通过套筒和螺母与移动顶板夹紧定位;终定位机构包括左侧顶轴和右侧顶轴;姿态调整结构包括调整丝套和锁紧螺母,调整丝套拧入顶板中,顶板通过螺钉固定于架体顶板上,通过微调调整丝套实现元件与X-Y平面的平行度。本发明不仅结构简单、成本低、操作方便,而且定位精度高、成本低、易于加工制造。
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公开(公告)号:CN110625448A
公开(公告)日:2019-12-31
申请号:CN201910822126.X
申请日:2019-09-02
Applicant: 中国兵器科学研究院宁波分院
Abstract: 一种小工具辅助大气等离子体复合抛光头,包括底座、力矩伺服电机、连接板、等离子体抛光头和小工具抛光头,底座上设有直线导轨,连接板设在力矩伺服电机前端与转子相连接,力矩伺服电机的定子固定在基板上并通过驱动机构沿直线导轨作竖直滑动,等离子体抛光头安装在连接板前端上部,小工具抛光头对应安装在连接板前端下部,等离子体抛光头和小工具抛光头在力矩伺服电机驱动下实现抛光时的摆动和转换。增设小工具抛光头,通过小工具抛光头辅助等离子体抛光有效减轻二次吸附物对光学元件表面影响,提高抛光质量;通过力矩伺服电机实现小工具抛光头与等离子体抛光头转换,工作效率高,精度高;配合其他数控轴运动,可用于大尺寸非球面光学元件加工。
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