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公开(公告)号:CN119658476A
公开(公告)日:2025-03-21
申请号:CN202411889936.4
申请日:2024-12-20
Applicant: 中国兵器科学研究院宁波分院
IPC: B24B1/00 , B24B13/02 , B24B49/00 , B24B13/01 , B24B13/005
Abstract: 一种高效率复合加工非球面光学元件的方法,步骤:根据待加工光学元件形状制作工装夹具,将光学元件坯料下表面磨平抛光,固定在工装夹具上;通过粗磨+精磨对光学元件毛坯上表面进行非球面成型加工,得到非球面样件;采用轮廓仪测量非球面样件面形数据;将面形数据导入气囊抛光机床,计算得到补偿加工的NC代码,将工装夹具与非球面样件一同固定在抛光机床的过渡夹具上采用不同气囊抛光头对非球面样件的上表面进行粗抛和精抛;加工完成后采用轮廓仪测量非球面样件面形数据,合格后将非球面样件及工装夹具浸泡在丙酮溶液中,取出样件。本发明工艺科学合理,能实现对元件面形的快速测量,减少装夹误差,提高加工质量和加工效率,降低生产成本。
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公开(公告)号:CN117116735A
公开(公告)日:2023-11-24
申请号:CN202311149316.2
申请日:2023-09-07
Applicant: 中国兵器科学研究院宁波分院
IPC: H01J37/32
Abstract: 一种可实现间歇刻蚀的离子源装置,包括放电室、离子源光学系统、冷却装置,冷却装置中设有中和器、放电室的上部设有离子源光学系统,放电室的顶部固定有冷却装置,其特征在于所述冷却装置的一侧设有直流电机,冷却装置的中间设有离子源通孔,并且冷却装置的顶部与底部分别设有顶部隔离金属板与底部隔离金属板,对应的,顶部隔离金属板与底部隔离金属板也分别设有离子源出孔和进孔,顶部隔离金属板的上端设有阻挡机构,底部隔离金属板的底部与放电室相连接。它能对光学元件表面的精确修形,能够根据具体需要,通过驱动阻挡机构,限制离子束对光学零件的刻蚀,结构简单,成本低,冷却快速,减少温度对零件的影响。
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公开(公告)号:CN114851023A
公开(公告)日:2022-08-05
申请号:CN202210471182.5
申请日:2022-04-28
Applicant: 中国兵器科学研究院宁波分院
Abstract: 本发明涉及一种用于大尺寸非球面光学元件研抛机床的在位检测方法,包括:步骤1、获取待研抛元件的初始面形;步骤2、根据待研抛元件的初始面形生成加工代码;步骤3、对待研抛元件进行初定位:步骤4、使用第一传感器对初定位的待研抛元件进行基准在位检测,获得待研抛元件的实际位置;步骤5、对待研抛元件进行一次研抛;步骤6、对研抛后的元件进行面形在位检测,获得元件研抛后的面形数据;步骤7、判断步骤6中获取的元件研抛后的面形数据是否合格,如是,则进入终检,结束;如否,则转入到步骤5。本方法不仅操作方便,而且精度高、加工效率高,应用于大尺寸非球面光学元小磨头数控研抛机床的在位检测。
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公开(公告)号:CN114742767A
公开(公告)日:2022-07-12
申请号:CN202210267849.X
申请日:2022-03-17
Applicant: 中国兵器科学研究院宁波分院
Abstract: 本发明涉及一种光学元件表面缺陷识别方法,包括以下步骤:步骤1、图像采集;步骤2、对所有光学元件的子孔径缺陷图像进行拼接,得到光学元件完整的全口径缺陷图像;步骤3、采用全局阈值对光学元件完整的全口径缺陷图像进行预处理分割,使灰度图像背景与缺陷分割开;步骤4、对缺陷灰度图进行预处理,并对缺陷的特征和形态参数进行提取;步骤5、对根据缺陷的特征和形态参数进行分类,得到缺陷分类结果。本发明的优点在于:通过全局阈值对光学元件完整的全口径缺陷图像进行预处理分割,使灰度图像背景与缺陷分割开,因此该方法无需人为识别缺陷,通过灰度将背景和缺陷分割开来,提高了缺陷识别的准确率,且通过自动化操作,提高了缺陷识别速度。
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公开(公告)号:CN120055994A
公开(公告)日:2025-05-30
申请号:CN202510310426.5
申请日:2025-03-17
Applicant: 中国兵器科学研究院宁波分院
Abstract: 一种抛光压力可调节的上抛光盘装置,包括有:基座和抛光组件,抛光组件包括有旋转杆、抛光盘安装组件及抛光盘,旋转杆的下端通过抛光盘安装组件连接有抛光盘;移动组件包括有气缸,气缸活动端的下端通过可旋转连接结构连接旋转杆;其特征在于移动组件包括有压力调节装置,平衡缸的活塞杆下端连接可旋转连接结构,承担抛光盘和可旋转连接结构的重力;压力缸的活塞杆下端连接可旋转连接结构,推动抛光盘上下升降并施加抛光压力;压力传感器设在活塞杆下端和可旋转连接结构之间,用于测量抛光压力并输出压力信号;控制器的信号输入端接收输出压力信号,对应地,压力缸和平衡缸所对应电控阀门,结构简单、成本低、操作方便而且抛光压力测量准确。
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公开(公告)号:CN118635958A
公开(公告)日:2024-09-13
申请号:CN202410670497.1
申请日:2024-05-28
Applicant: 中国兵器科学研究院宁波分院
IPC: B23Q11/08
Abstract: 本发明公开一种等离子体加工机床运动系统的防护装置,包括内伸缩罩,能伸缩地罩设于运动系统的导向件/传动件外,伸缩方向与导向件/传动件的导向/传动方向相一致,内伸缩罩在运动系统的运动件处避位,内伸缩罩开有气孔,内伸缩罩内为内部空间;外伸缩罩,能伸缩地罩设于内伸缩罩外,伸缩方向与导向件/传动件的导向/传动方向相一致,外伸缩罩在运动系统的运动件处设有第二开口,第二开口的边沿与运动件的侧面相连接并使运动件的顶面外露于外伸缩罩,外伸缩罩与内伸缩罩之间为中部空间,外伸缩罩外为外部空间,中部空间通过内伸缩罩的气孔与内部空间相连通;气源,与中部空间相连通,并向中部空间供给气体,气体通过气孔进入内部空间使内部空间的气压始终高于外部空间。
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公开(公告)号:CN114564688A
公开(公告)日:2022-05-31
申请号:CN202210107456.2
申请日:2022-01-28
Applicant: 中国兵器科学研究院宁波分院
Abstract: 本发明涉及一种基于PB神经网络确定离子束抛光去除函数的方法,通过有限次的法拉第扫描和线扫描实验建立数据库,确定离子束电流密度和去除函数分布系数之间的关系,根据法拉第扫描结果,通过线性公式计算去除函数峰值去除率,通过BP神经网络预测去除函数分布系数。本方法得到的去除函数信息与通过实验方法得到的去除函数信息基本相同,却极大的缩短了确定去除函数的时间;同时基于法拉第扫描结果确定去除函数,无需在元件表面进行去除函数实验,从而节约了成本;且本发明通过线性公式和BP神经网络来确定去除函数的分布信息,这种方法对于所有可用于离子束加工的材料均适用,不受材料特性的限制,可用于所有的离子束加工过程。
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公开(公告)号:CN120055991A
公开(公告)日:2025-05-30
申请号:CN202510208637.8
申请日:2025-02-25
Applicant: 中国兵器科学研究院宁波分院
IPC: B24B41/00 , B24B13/00 , B24B13/005
Abstract: 本发明公开了一种用于离子束抛光设备的光学元件上下料装置,包括有移动平台(1)以及安装在移动平台(1)上的底座(2),其特征在于:还包括有第一翻转机构(4),包括有铰接在底座(2)上的第一翻转架(41)以及用于驱动第一翻转架(41)翻转90°的第一旋转机构(42);第二翻转机构(5),包括有铰接在第一翻转架(41)上的第二翻转架(51)以及用于驱动第二翻转架(51)翻转90°的第二旋转机构(52);锁定机构(6),用于对第一翻转架(41)和第二翻转架(51)进行锁定和解锁;元件夹具(7),能左右滑移地安装在第二翻转架(51)上;以及平移机构(8),用于驱动元件夹具(7)沿左右方向平移。
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公开(公告)号:CN119952539A
公开(公告)日:2025-05-09
申请号:CN202510208634.4
申请日:2025-02-25
Applicant: 中国兵器科学研究院宁波分院
Abstract: 本发明公开了一种非球面光学元件加工方法,其特征在于包括有以下步骤:步骤一、建立加工表面质量与加工时间数据库;步骤二、开始光学元件加工,当工件Ⅰ完成磨削及检测后等待抛光或完成一轮抛光及检测后等待补偿抛光时,判断抛光机床加工状态;步骤三(a)、各工位最佳时间匹配:步骤三(b)、各工位最短时间匹配:步骤四、调整工件Ⅲ磨削阶段的目标表面质量等级再进行后续加工。与现有技术相比,本发明的非球面光学元件加工方法能够提高整体加工效率。
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公开(公告)号:CN114564688B
公开(公告)日:2024-12-24
申请号:CN202210107456.2
申请日:2022-01-28
Applicant: 中国兵器科学研究院宁波分院
IPC: G06F17/15 , G06N3/0499 , G06N3/084 , B24B1/00
Abstract: 本发明涉及一种基于BP神经网络确定离子束抛光去除函数的方法,通过有限次的法拉第扫描和线扫描实验建立数据库,确定离子束电流密度和去除函数分布系数之间的关系,根据法拉第扫描结果,通过线性公式计算去除函数峰值去除率,通过BP神经网络预测去除函数分布系数。本方法得到的去除函数信息与通过实验方法得到的去除函数信息基本相同,却极大的缩短了确定去除函数的时间;同时基于法拉第扫描结果确定去除函数,无需在元件表面进行去除函数实验,从而节约了成本;且本发明通过线性公式和BP神经网络来确定去除函数的分布信息,这种方法对于所有可用于离子束加工的材料均适用,不受材料特性的限制,可用于所有的离子束加工过程。
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