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公开(公告)号：CN101401080A
公开(公告)日：2009-04-01
申请号：CN200780008294.0
申请日：2007-03-05
Applicant: 东京毅力科创株式会社
CPC classification number: G01B11/24
Abstract: 本发明涉及在光学计量中增强测量衍射信号的权重函数。获得权重函数以使光学计量中所用的测得衍射信号增强。为了获得权重函数，获得测得衍射信号。测得衍射信号是用光计量装置从晶片上的位置测量的。根据测得衍射信号中存在的噪声来定义第一权重函数。根据测得衍射信号的精度来定义第二权重函数。根据测得衍射信号的灵敏度来定义第三权重函数。根据第一权重函数、第二权重函数和第三权重函数中的一个或多个来定义第四权重函数。
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公开(公告)号：CN101115969A
公开(公告)日：2008-01-30
申请号：CN200680004509.7
申请日：2006-02-06
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: G01B11/02
CPC classification number: G01N21/95607 , G01B11/22 , G01B11/24 , G01N21/4788 , H01L22/12
Abstract: 可通过将入射脉冲导向形成在晶片上的结构来检查该结构，其中入射脉冲是亚皮秒光脉冲。测量由于入射脉冲因该结构而衍射导致的衍射脉冲。然后基于测得的衍射脉冲确定该结构的轮廓的特性。
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公开(公告)号：CN101133297B
公开(公告)日：2012-07-18
申请号：CN200680005427.4
申请日：2006-02-06
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: G01B3/22
CPC classification number: G01N21/4788 , G01B11/24 , G03F7/70625
Abstract: 表征晶片中的重复结构的顶视图轮廓，并选择参数来代表重复结构的顶视图轮廓的变化。开发包括重复结构的选定的顶视图轮廓参数的光测量模型。使用优化的光测量模型来生成仿真衍射信号以便与测得衍射信号进行比较。
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公开(公告)号：CN101285677B
公开(公告)日：2011-03-23
申请号：CN200810090440.5
申请日：2008-04-14
Applicant: 东京毅力科创株式会社
CPC classification number: G01B11/24 , G03F7/70625
Abstract: 本发明公开了利用具有仿真衍射信号输入的支持向量机的光学计量。可以利用支持向量机来检查在半导体晶片上形成的结构。获得结构的轮廓模型。该轮廓模型由表征结构的几何形状的轮廓参数定义。获得一组轮廓参数值。利用该组轮廓参数值生成一组仿真衍射信号，每个仿真衍射信号表征从所述结构衍射的光的行为。利用该组仿真衍射信号作为对支持向量机的输入并且利用该组轮廓参数值作为支持向量机的期望输出，对该支持向量机进行训练。获得离开结构的测得衍射信号。将测得衍射信号输入到经训练的支持向量机。获得结构的轮廓参数值作为经训练的支持向量机的输出。
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公开(公告)号：CN101331378B
公开(公告)日：2010-11-10
申请号：CN200680041259.4
申请日：2006-09-05
Applicant: 东京毅力科创株式会社
CPC classification number: G01B11/24 , G01N21/4788
Abstract: 为了在光学计量中选择重复结构的单位元配置，为重复结构定义多个单位元配置。每个单位元配置由一个或多个单位元参数来定义。所述多个单位元配置中的各个单位元在至少一个单位元参数方面彼此不同。使用一个或多个选择标准来选择所述多个单位元配置中的一个。然后可以利用所选择的单位元配置来表征重复结构的俯视图轮廓。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101286047B
公开(公告)日：2010-06-02
申请号：CN200810090441.X
申请日：2008-04-14
Applicant: 东京毅力科创株式会社
CPC classification number: G03F7/70616 , G03F7/70491
Abstract: 本发明公开了利用支持向量机控制制造工具。获得结构的轮廓模型。该轮廓模型由表征结构的几何形状的轮廓参数定义。获得一组轮廓参数值。利用该组轮廓参数值生成一组仿真衍射信号，每个仿真衍射信号表征从所述结构衍射的光的行为。利用该组仿真衍射信号作为对支持向量机的输入并且利用该组轮廓参数值作为支持向量机的期望输出，对该支持向量机进行训练。在训练了支持向量机之后，利用制造工具执行在晶片上制造结构的制造过程。获得离开结构的测得衍射信号。将测得衍射信号输入到经训练的支持向量机。获得作为经训练的支持向量机的输出的结构的轮廓参数值。基于所获得的轮廓参数值，对制造工具的一个或多个工艺参数或设备设置进行调节。
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公开(公告)号：CN101359611A
公开(公告)日：2009-02-04
申请号：CN200710135857.4
申请日：2007-07-30
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 对光学计量系统的选定变量进行优化的系统包括第一制造集群、计量集群、光学计量模型优化器和实时轮廓评估器。第一制造集群处理具有第一图案结构的晶片。第一图案结构具有下覆膜厚度、临界尺寸和轮廓。计量集群包括连接到第一制造集群的光学计量设备。光学计量模型优化器连接到计量集群。计量模型优化器使用离开第一图案结构的测量衍射信号并浮动轮廓参数、材料折射参数和计量设备参数来优化光学计量模型。实时轮廓评估器连接到光学模型优化器和计量集群。实时轮廓评估器使用优化光学计量模型、测量衍射信号和材料折射参数和计量设备参数中至少一个参数的值域内的固定值。实时轮廓评估器产生包括第一图案结构的下覆膜厚度、临界尺寸和轮廓的输出。
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公开(公告)号：CN101331378A
公开(公告)日：2008-12-24
申请号：CN200680041259.4
申请日：2006-09-05
Applicant: 东京毅力科创株式会社
CPC classification number: G01B11/24 , G01N21/4788
Abstract: 为了在光学计量中选择重复结构的单位元配置，为重复结构定义多个单位元配置。每个单位元配置由一个或多个单位元参数来定义。所述多个单位元配置中的各个单位元在至少一个单位元参数方面彼此不同。使用一个或多个选择标准来选择所述多个单位元配置中的一个。然后可以利用所选择的单位元配置来表征重复结构的俯视图轮廓。
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公开(公告)号：CN101286047A
公开(公告)日：2008-10-15
申请号：CN200810090441.X
申请日：2008-04-14
Applicant: 东京毅力科创株式会社
CPC classification number: G03F7/70616 , G03F7/70491
Abstract: 本发明公开了利用支持向量机控制制造工具。获得结构的轮廓模型。该轮廓模型由表征结构的几何形状的轮廓参数定义。获得一组轮廓参数值。利用该组轮廓参数值生成一组仿真衍射信号，每个仿真衍射信号表征从所述结构衍射的光的行为。利用该组仿真衍射信号作为对支持向量机的输入并且利用该组轮廓参数值作为支持向量机的期望输出，对该支持向量机进行训练。在训练了支持向量机之后，利用制造工具执行在晶片上制造结构的制造过程。获得离开结构的测得衍射信号。将测得衍射信号输入到经训练的支持向量机。获得作为经训练的支持向量机的输出的结构的轮廓参数值。基于所获得的轮廓参数值，对制造工具的一个或多个工艺参数或设备设置进行调节。
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公开(公告)号：CN101133297A
公开(公告)日：2008-02-27
申请号：CN200680005427.4
申请日：2006-02-06
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: G01B3/22
CPC classification number: G01N21/4788 , G01B11/24 , G03F7/70625
Abstract: 表征晶片中的重复结构的顶视图轮廓，并选择参数来代表重复结构的顶视图轮廓的变化。开发包括重复结构的选定的顶视图轮廓参数的光测量模型。使用优化的光测量模型来生成仿真衍射信号以便与测得衍射信号进行比较。
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