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公开(公告)号：CN101359611A
公开(公告)日：2009-02-04
申请号：CN200710135857.4
申请日：2007-07-30
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 对光学计量系统的选定变量进行优化的系统包括第一制造集群、计量集群、光学计量模型优化器和实时轮廓评估器。第一制造集群处理具有第一图案结构的晶片。第一图案结构具有下覆膜厚度、临界尺寸和轮廓。计量集群包括连接到第一制造集群的光学计量设备。光学计量模型优化器连接到计量集群。计量模型优化器使用离开第一图案结构的测量衍射信号并浮动轮廓参数、材料折射参数和计量设备参数来优化光学计量模型。实时轮廓评估器连接到光学模型优化器和计量集群。实时轮廓评估器使用优化光学计量模型、测量衍射信号和材料折射参数和计量设备参数中至少一个参数的值域内的固定值。实时轮廓评估器产生包括第一图案结构的下覆膜厚度、临界尺寸和轮廓的输出。
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公开(公告)号：CN104736744B
公开(公告)日：2017-06-06
申请号：CN201380054482.2
申请日：2013-10-17
Applicant: 东京毅力科创株式会社
CPC classification number: H01L22/26 , G06F17/16 , H01J37/32963 , H01L21/3065 , H01L21/67069
Abstract: 公开了一种用于使用光学发射光谱(OES)数据作为输入确定蚀刻过程的终点的方法。由附接至等离子体蚀刻处理工具的光谱仪获得光学发射光谱(OES)数据。首先将获得的时间演变光谱数据过滤和去均值，之后使用诸如主成分分析的多变量分析，将获得的时间演变光谱数据变换成变换后的光谱数据或趋势，在主成分分析中先前计算的主成分权重用来实现该变换。包含多个趋势的函数形式可以用于更精确地确定蚀刻过程的终点。公开了用于在实际蚀刻之前基于从先前蚀刻处理收集的OES数据计算主成分权重的方法，该方法有助于趋势和包含多个趋势的函数形式的快速计算，用于蚀刻过程终点的有效和准确的在线确定。
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公开(公告)号：CN101542280B
公开(公告)日：2012-12-12
申请号：CN200780004926.6
申请日：2007-01-30
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: G01N31/00
CPC classification number: G01N21/4788 , G01N21/211 , G01N2021/215
Abstract: 本发明公开了用多元分析对来自半导体处理系统的计量数据进行变形。来自半导体处理系统的计量数据被利用多元分析进行变形。具体地，获得对用处理系统处理的一个或多个衬底测量或模拟的计量数据组。用多元分析对所获得的计量数据组确定一个或多个关键变量。获得对使用处理系统处理的一个或多个衬底测量或模拟的第一计量数据。第一计量数据不是早先获得的计量数据组中的计量数据之一。用所确定的一个或多个关键变量将第一计量数据变形为第二计量数据。
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公开(公告)号：CN101359611B
公开(公告)日：2011-11-09
申请号：CN200710135857.4
申请日：2007-07-30
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 对光学计量系统的选定变量进行优化的系统包括第一制造集群、计量集群、光学计量模型优化器和实时轮廓评估器。第一制造集群处理具有第一图案结构的晶片。第一图案结构具有下覆膜厚度、临界尺寸和轮廓。计量集群包括连接到第一制造集群的光学计量设备。光学计量模型优化器连接到计量集群。计量模型优化器使用离开第一图案结构的测量衍射信号并浮动轮廓参数、材料折射参数和计量设备参数来优化光学计量模型。实时轮廓评估器连接到光学模型优化器和计量集群。实时轮廓评估器使用优化光学计量模型、测量衍射信号和材料折射参数和计量设备参数中至少一个参数的值域内的固定值。实时轮廓评估器产生包括第一图案结构的下覆膜厚度、临界尺寸和轮廓的输出。
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公开(公告)号：CN101359612A
公开(公告)日：2009-02-04
申请号：CN200710135858.9
申请日：2007-07-30
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Inventor： 曼纽尔·B·玛德瑞加 , 维·翁 , 鲍君威
Abstract: 管理和使用用于处理和设备控制的计量数据的装置包括制造系统和计量处理器。制造系统包括制造集群、计量集群、计量模型优化器和实时轮廓评估器。制造集群对具有图案结构和不带图案结构的晶片进行处理。计量集群测量离开图案结构和不带图案结构的衍射信号。计量模型优化器使用测量衍射信号并浮动轮廓参数、材料折射参数和计量设备参数来优化光学计量模型。实时轮廓评估器使用经优化光学计量模型、测量衍射信号和材料折射参数和计量设备参数中至少一个参数的值域内的固定值。实时轮廓评估器产生包括下覆膜厚度、临界尺寸和轮廓的输出。计量数据处理器对来自材料折射参数和计量设备参数中至少一个参数的值域内的固定值进行接收、处理、储存和传送。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104736744A
公开(公告)日：2015-06-24
申请号：CN201380054482.2
申请日：2013-10-17
Applicant: 东京毅力科创株式会社
CPC classification number: H01L22/26 , G06F17/16 , H01J37/32963 , H01L21/3065 , H01L21/67069
Abstract: 公开了一种用于使用光学发射光谱(OES)数据作为输入确定蚀刻过程的终点的方法。由附接至等离子体蚀刻处理工具的光谱仪获得光学发射光谱(OES)数据。首先将获得的时间演变光谱数据过滤和去均值，之后使用诸如主成分分析的多变量分析，将获得的时间演变光谱数据变换成变换后的光谱数据或趋势，在主成分分析中先前计算的主成分权重用来实现该变换。包含多个趋势的函数形式可以用于更精确地确定蚀刻过程的终点。公开了用于在实际蚀刻之前基于从先前蚀刻处理收集的OES数据计算主成分权重的方法，该方法有助于趋势和包含多个趋势的函数形式的快速计算，用于蚀刻过程终点的有效和准确的在线确定。
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公开(公告)号：CN101359612B
公开(公告)日：2012-07-04
申请号：CN200710135858.9
申请日：2007-07-30
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Inventor： 曼纽尔·B·玛德瑞加 , 维·翁 , 鲍君威
Abstract: 管理和使用用于处理和设备控制的计量数据的装置包括制造系统和计量处理器。制造系统包括制造集群、计量集群、计量模型优化器和实时轮廓评估器。制造集群对具有图案结构和不带图案结构的晶片进行处理。计量集群测量离开图案结构和不带图案结构的衍射信号。计量模型优化器使用测量衍射信号并浮动轮廓参数、材料折射参数和计量设备参数来优化光学计量模型。实时轮廓评估器使用经优化光学计量模型、测量衍射信号和材料折射参数和计量设备参数中至少一个参数的值域内的固定值。实时轮廓评估器产生包括下覆膜厚度、临界尺寸和轮廓的输出。计量数据处理器对来自材料折射参数和计量设备参数中至少一个参数的值域内的固定值进行接收、处理、储存和传送。
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公开(公告)号：CN101542280A
公开(公告)日：2009-09-23
申请号：CN200780004926.6
申请日：2007-01-30
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: G01N31/00
CPC classification number: G01N21/4788 , G01N21/211 , G01N2021/215
Abstract: 本发明公开了用多元分析对来自半导体处理系统的计量数据进行变形。来自半导体处理系统的计量数据被利用多元分析进行变形。具体地，获得对用处理系统处理的一个或多个衬底测量或模拟的计量数据组。用多元分析对所获得的计量数据组确定一个或多个关键变量。获得对使用处理系统处理的一个或多个衬底测量或模拟的第一计量数据。第一计量数据不是早先获得的计量数据组中的计量数据之一。用所确定的一个或多个关键变量将第一计量数据变形为第二计量数据。
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公开(公告)号：CN101401080A
公开(公告)日：2009-04-01
申请号：CN200780008294.0
申请日：2007-03-05
Applicant: 东京毅力科创株式会社
CPC classification number: G01B11/24
Abstract: 本发明涉及在光学计量中增强测量衍射信号的权重函数。获得权重函数以使光学计量中所用的测得衍射信号增强。为了获得权重函数，获得测得衍射信号。测得衍射信号是用光计量装置从晶片上的位置测量的。根据测得衍射信号中存在的噪声来定义第一权重函数。根据测得衍射信号的精度来定义第二权重函数。根据测得衍射信号的灵敏度来定义第三权重函数。根据第一权重函数、第二权重函数和第三权重函数中的一个或多个来定义第四权重函数。
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公开(公告)号：CN114270472A
公开(公告)日：2022-04-01
申请号：CN202080058806.X
申请日：2020-08-18
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01J37/32 , H01L21/3065 , H01L21/67 , G06F17/16
Abstract: 描述了一种用于使用光发射光谱法(OES)数据作为输入来确定刻蚀工艺端点的方法。OES数据由等离子体刻蚀加工室中的光谱仪获取。首先对获取的随时间演变的光谱数据进行过滤和去平均，并且随后使用诸如主分量分析等多变量分析将该数据变换为经变换的光谱数据或趋势，在该多变量分析中，使用先前计算的主分量权重来完成该变换。通过将主分量权重分组为与正自然波长和负自然波长相对应的两个单独的组，来创建单独的有符号趋势(合成波长)。
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