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公开(公告)号：CN101128835B
公开(公告)日：2012-06-20
申请号：CN200580019937.2
申请日：2005-05-12
Applicant: 东京毅力科创株式会社
CPC classification number: G01B11/24
Abstract: 通过定义结构的初始模型而产生模拟衍射信号，所述模拟衍射信号用于使用光学计量对晶片上形成的结构的形状粗糙度进行测量。定义了形状粗糙度的统计函数。根据统计函数导出统计微扰并叠加在结构的初始模型上以定义结构的修改模型。根据结构的修改模型产生模拟衍射信号。
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公开(公告)号：CN101115969B
公开(公告)日：2010-12-08
申请号：CN200680004509.7
申请日：2006-02-06
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: G01B11/02
CPC classification number: G01N21/95607 , G01B11/22 , G01B11/24 , G01N21/4788 , H01L22/12
Abstract: 可通过将入射脉冲导向形成在晶片上的结构来检查该结构，其中入射脉冲是亚皮秒光脉冲。测量由于入射脉冲因该结构而衍射导致的衍射脉冲。然后基于测得的衍射脉冲确定该结构的轮廓的特性。
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公开(公告)号：CN101855715A
公开(公告)日：2010-10-06
申请号：CN200880115157.1
申请日：2008-10-30
Applicant: 东京毅力科创株式会社
CPC classification number: G01N21/95607 , G01N21/4788 , G01N2021/213 , H01L22/20 , H01L2924/0002 , H01L2924/00
Abstract: 此处大致描述了使用等密度偏差控制制造处理的实施例。可以描述和主张其他实施例。
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公开(公告)号：CN101115969A
公开(公告)日：2008-01-30
申请号：CN200680004509.7
申请日：2006-02-06
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: G01B11/02
CPC classification number: G01N21/95607 , G01B11/22 , G01B11/24 , G01N21/4788 , H01L22/12
Abstract: 可通过将入射脉冲导向形成在晶片上的结构来检查该结构，其中入射脉冲是亚皮秒光脉冲。测量由于入射脉冲因该结构而衍射导致的衍射脉冲。然后基于测得的衍射脉冲确定该结构的轮廓的特性。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101133297B
公开(公告)日：2012-07-18
申请号：CN200680005427.4
申请日：2006-02-06
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: G01B3/22
CPC classification number: G01N21/4788 , G01B11/24 , G03F7/70625
Abstract: 表征晶片中的重复结构的顶视图轮廓，并选择参数来代表重复结构的顶视图轮廓的变化。开发包括重复结构的选定的顶视图轮廓参数的光测量模型。使用优化的光测量模型来生成仿真衍射信号以便与测得衍射信号进行比较。
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公开(公告)号：CN101331378B
公开(公告)日：2010-11-10
申请号：CN200680041259.4
申请日：2006-09-05
Applicant: 东京毅力科创株式会社
CPC classification number: G01B11/24 , G01N21/4788
Abstract: 为了在光学计量中选择重复结构的单位元配置，为重复结构定义多个单位元配置。每个单位元配置由一个或多个单位元参数来定义。所述多个单位元配置中的各个单位元在至少一个单位元参数方面彼此不同。使用一个或多个选择标准来选择所述多个单位元配置中的一个。然后可以利用所选择的单位元配置来表征重复结构的俯视图轮廓。
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公开(公告)号：CN101331378A
公开(公告)日：2008-12-24
申请号：CN200680041259.4
申请日：2006-09-05
Applicant: 东京毅力科创株式会社
CPC classification number: G01B11/24 , G01N21/4788
Abstract: 为了在光学计量中选择重复结构的单位元配置，为重复结构定义多个单位元配置。每个单位元配置由一个或多个单位元参数来定义。所述多个单位元配置中的各个单位元在至少一个单位元参数方面彼此不同。使用一个或多个选择标准来选择所述多个单位元配置中的一个。然后可以利用所选择的单位元配置来表征重复结构的俯视图轮廓。
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公开(公告)号：CN101133297A
公开(公告)日：2008-02-27
申请号：CN200680005427.4
申请日：2006-02-06
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: G01B3/22
CPC classification number: G01N21/4788 , G01B11/24 , G03F7/70625
Abstract: 表征晶片中的重复结构的顶视图轮廓，并选择参数来代表重复结构的顶视图轮廓的变化。开发包括重复结构的选定的顶视图轮廓参数的光测量模型。使用优化的光测量模型来生成仿真衍射信号以便与测得衍射信号进行比较。
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公开(公告)号：CN101128835A
公开(公告)日：2008-02-20
申请号：CN200580019937.2
申请日：2005-05-12
Applicant: 东京毅力科创株式会社
CPC classification number: G01B11/24
Abstract: 通过定义结构的初始模型而产生模拟衍射信号，所述模拟衍射信号用于使用光学计量对晶片上形成的结构的形状粗糙度进行测量。定义了形状粗糙度的统计函数。根据统计函数导出统计微扰并叠加在结构的初始模型上以定义结构的修改模型。根据结构的修改模型产生模拟衍射信号。
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