公开(公告)号：CN101133297B

公开(公告)日：2012-07-18

申请号：CN200680005427.4

申请日：2006-02-06

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 威·翁格 ,  鲍君威 ,  乔格·比斯彻夫

IPC: G01B3/22

CPC classification number: G01N21/4788 ,  G01B11/24 ,  G03F7/70625

Abstract: 表征晶片中的重复结构的顶视图轮廓，并选择参数来代表重复结构的顶视图轮廓的变化。开发包括重复结构的选定的顶视图轮廓参数的光测量模型。使用优化的光测量模型来生成仿真衍射信号以便与测得衍射信号进行比较。

公开(公告)号：CN101133297A

公开(公告)日：2008-02-27

申请号：CN200680005427.4

申请日：2006-02-06

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 威·翁格 ,  鲍君威 ,  乔格·比斯彻夫

IPC: G01B3/22

CPC classification number: G01N21/4788 ,  G01B11/24 ,  G03F7/70625

Abstract: 表征晶片中的重复结构的顶视图轮廓，并选择参数来代表重复结构的顶视图轮廓的变化。开发包括重复结构的选定的顶视图轮廓参数的光测量模型。使用优化的光测量模型来生成仿真衍射信号以便与测得衍射信号进行比较。