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公开(公告)号:CN119255467A
公开(公告)日:2025-01-03
申请号:CN202411519066.1
申请日:2024-10-29
Applicant: 季华实验室
IPC: H05H1/46
Abstract: 本申请属于等离子产成设备技术领域,公开了一种远程等离子源腔体,包括环形真空腔、进气口、出气口、磁芯组件和点火线圈;所述环形真空腔包括多个依次首尾连接形成闭环流道的直线腔道,至少一个所述直线腔道上缠绕有所述磁芯组件,所述进气口和所述出气口分别连接在两个不同的所述直线腔道上;任意相邻的两个所述直线腔道的连接处均设置有调节电极对,所述调节电极对用于产生偏转电场,以驱使气流中的带电粒子转向以避免所述带电粒子与所述环形真空腔的周向侧壁接触;能够延长腔体使用寿命、提高等离子体纯度、改善等离子体均匀性和稳定性。
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公开(公告)号:CN119165748A
公开(公告)日:2024-12-20
申请号:CN202411453522.7
申请日:2024-10-17
Applicant: 季华实验室
Abstract: 本发明公开了一种加热固化装置、加热固化设备和加热固化方法,涉及液晶面板光刻胶加热固化技术领域,其中,加热固化装置包括加热仓、加热装置和支撑组件,加热仓内形成有加热腔,加热仓的外壁设置有与加热腔连通的开口;加热装置位于加热腔中,加热装置包括均热板组件和温控组件,均热板组件包括多个复合板,加热腔包括多个加热空间,各加热空间均有至少一复合板对应设置,各复合板均有至少一温控组件对应设置。温控组件用于根据加热空间的温度调节对应的复合板的温度,以使各加热空间的温度在预设温度范围;使得物料上各区域的光刻胶的挥发速度基本趋于一致,提升了光刻胶薄膜的均匀性,进而提升了OLED显示屏的亮度的均匀性。
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公开(公告)号:CN115637490B
公开(公告)日:2024-11-12
申请号:CN202211378289.1
申请日:2022-11-04
Applicant: 季华实验室
Abstract: 本发明涉及外延生长技术领域,具体公开了一种集成式分子束外延坩埚制作方法、外延坩埚及分子束源炉,其中,制作方法包括步骤:S1、准备石墨材质的芯轴组件;S2、在芯轴组件外周外延沉积生成第一热解氮化硼层;S3、在第一热解氮化硼层外周折弯缠绕加热丝,使加热丝紧贴固定在第一热解氮化硼层表面;S4、在第一热解氮化硼层外周外延沉积生成第二热解氮化硼层,第二热解氮化硼层完全覆盖加热丝;S5、氧化消除芯轴组件;该制作方法在无需增加额外工艺手段的前提下能制作出结构简单、制作成本低、制作效率高、热效率高、热场分布均匀且保温效果出众的集成式分子束外延坩埚。
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公开(公告)号:CN114935976B
公开(公告)日:2024-08-09
申请号:CN202210711264.2
申请日:2022-06-22
Applicant: 季华实验室
Abstract: 本申请涉及屏幕显示技术领域,具体提供了一种分区显示方法、系统、电子设备及存储介质,应用在分区显示系统中,分区显示系统包括视觉相机和显示屏,视觉相机用于生成采集显示屏前的图像信息,分区显示方法包括以下步骤:根据图像信息获取任一人眼的第一人眼尺寸信息;根据第一人眼尺寸信息获取人眼到显示屏的第一距离信息;根据图像信息获取第一人眼尺寸信息对应人眼的第一偏移信息和瞳孔在该人眼中的第二偏移信息;根据第一距离信息、第一偏移信息和第二偏移信息获取对应人眼在显示屏上的注视区域;控制显示屏在注视区域内显示高刷新率画面信息;该分区显示方法使显示屏能够同时实现高刷新率显示和降低功耗。
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公开(公告)号:CN111884607B
公开(公告)日:2024-06-18
申请号:CN202010597111.0
申请日:2020-06-28
Applicant: 季华实验室
Abstract: 本发明公开全桥D类放大电路、级联功率模块及大功率射频电源。该全桥D类放大电路包括:左侧半桥,包括左上MOS管和左下MOS管,其具有居中点,其两端分别与电源节点和地节点耦合;右侧半桥,包括右上MOS管和右下MOS管,其具有居中点,其两端分别与电源节点和地节点耦合;变压器,所述变压器的原边的两端分别耦合于所述左侧半桥的居中点和右侧半桥的居中点。该电路使得从电源节点与地节点之间引入的电能被转换为方波电压波形后经变压器的副边输出,其中,所述方波电压波形具有预先设定的射频频率。该全桥D类放大电路的反向电压低,效率高,可靠性高。
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公开(公告)号:CN118070564A
公开(公告)日:2024-05-24
申请号:CN202410464333.3
申请日:2024-04-17
Applicant: 季华实验室
IPC: G06F30/20 , G06F113/08 , G06F119/08
Abstract: 本申请属于激光烧蚀的技术领域,公开了一种水平集法激光烧蚀模拟方法、装置、电子设备及存储介质,该方法包括:获取表面设置有镀层模型的相变材料模型,设置镀层模型的第一材料参数和相变材料模型的第二材料参数,根据激光烧蚀过程的传热特征、物质蒸发特征和相变特征,设置固体传热物理场和基于两相体积分数的水平集物理场,基于第一材料参数、第二材料参数、固体传热物理场和基于两相体积分数的水平集物理场,对表面设置有镀层模型的相变材料模型进行激光烧蚀模拟,得到激光烧蚀模拟分析结果,通过固体传热物理场和基于两相体积分数的水平集物理场,对激光烧蚀过程进行模拟,提高了相变材料的激光烧蚀过程的分析效率。
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公开(公告)号:CN117665382A
公开(公告)日:2024-03-08
申请号:CN202410136451.1
申请日:2024-01-31
Applicant: 季华实验室
Abstract: 本申请提供了一种功率检测电路及功率检测PCB板,涉及功率检测技术领域。本申请通过寄生电容和第一电容进行电容分压得到采样电压信号,根据电流互感器二次侧的感应电流及采样电阻电路得到采样电流信号,从而可以实现采样电压信号和采样电流信号几乎无畸变,且采样电压信号和采样电流信号之间的干扰小,具有很好的独立性,随着功率的变化,采样电流信号和采样电压信号均具有良好的线性度,从而提高功率检测的精准度和可靠性。
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公开(公告)号:CN117459012A
公开(公告)日:2024-01-26
申请号:CN202311776504.8
申请日:2023-12-22
Applicant: 季华实验室
Abstract: 本申请涉及微电子技术领域,具体而言,涉及一种阻抗匹配控制方法及相关设备,通过实时获取射频电源在当前时刻的输出电压信号和输出电流信号,即可计算倒L型匹配器在当前时刻的输入等效阻抗,并根据离化腔室的阻抗和所述射频电源的内阻进行计算,以获取最佳的射频电源的目标输出频率,并得到该目标输出频率对应的第一可调电容的目标电容值和第二可调电容的目标电容值,使得第一可调电容和第二可调电容的调节量最小,对第一可调电容和第二可调电容进行调节的同时对射频电源的输出频率进行调节,以使倒L型匹配器在调节后的输入等效阻抗与射频电源的输出阻抗相匹配,从而减少电机转动的角度,有效节约电机调节的时间,达到快速匹配的目的。
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公开(公告)号:CN117423785A
公开(公告)日:2024-01-19
申请号:CN202311441200.6
申请日:2023-11-01
Applicant: 季华实验室
IPC: H01L33/00 , H01L21/683 , B08B1/12 , B08B15/04
Abstract: 本申请公开了一种Micro‑LED晶圆修复装置,属于半导体技术领域,该晶圆修复装置通过在载盘座的第二内腔中设置滤网和清洁组件,在抽气过程中,清洁组件在气流推动下对滤网进行清洁以刮落滤网上的杂质,并由下方的收集框收集被刮落的杂质,从而实现在抽气的过程中清除杂质,当晶圆的修复工作完成后,气泵进行充气,使晶圆稍微悬浮便于取走,此时,由于滤网上的杂质已经被清除,充气气流不会携带杂质从吸附槽喷出,有效避免杂质对晶圆底面的损害,从而有利于晶圆的修复工作。
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公开(公告)号:CN111190486B
公开(公告)日:2023-07-25
申请号:CN201911379932.0
申请日:2019-12-27
Applicant: 季华实验室
Abstract: 本发明提供了一种基于眼睛控制的分区显示方法及装置。其中方法包括步骤:A.通过识别用户瞳孔位置以对用户视线落在屏幕上的位置进行定位;B.以上述定位的位置为中心,按照预设的规则对屏幕划定高清区域;C.显示图像时,其它区域的图像分辨率低于所述高清区域的图像分辨率。装置包括定位模块、分区模块、输出模块。该方法及装置可实现在人眼关注的地方清晰显示,在人眼不关注的地方模糊显示,从而提高图像处理速度。
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