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公开(公告)号：CN119053000A
公开(公告)日：2024-11-29
申请号：CN202411332595.0
申请日：2024-09-24
Applicant: 季华实验室
Abstract: 本申请属于等离子产成设备技术领域，公开了一种远程等离子体源腔体结构，在环形腔体的出气口处设置具有孔道和第一螺旋叶片的螺旋分离器以及副驱动线圈，利用副驱动线圈产生的磁场约束等离子体的运动范围，使等离子体从孔道穿过，输出气流中的污染颗粒物不受该磁场影响从而在螺旋流动过程中与第一螺旋叶片和出气口内壁摩擦降速并最终被吸附，有效减少从出气口输出的等离子体中包含的污染颗粒物的含量。
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公开(公告)号：CN117053987B
公开(公告)日：2024-01-02
申请号：CN202311324037.5
申请日：2023-10-13
Applicant: 季华实验室
IPC: G01L27/00
Abstract: 本公开涉及半导体测试技术领域，尤其涉及一种真空计校准方法、测试设备及测试系统。其中，真空计校准方法包括：获取真空计在不同压力下对应的电压量化值；基于电压量化值获取线性校准系数；采用线性校准系数对压力‑电压量化值曲线进行线性拟合，获取非线性误差；在非线性误差小于等于非线性误差阈值时，确定线性校准系数为目标校准系数。本公开的技术方案，有利于提高真空计的检测结果线性度，进而提高真空计的测量结果，以满足实际应用需求。
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公开(公告)号：CN113739989B
公开(公告)日：2022-02-08
申请号：CN202111284298.X
申请日：2021-11-01
Applicant: 季华实验室
Abstract: 本申请属于机械加工技术领域，公开了一种电容式薄膜真空计的感应膜片焊后张紧力控制方法，包括以下步骤：把感应膜片焊接在电容式薄膜真空计的圆筒状的腔体的下端；腔体的材料的屈服强度比感应膜片的材料的屈服强度低；在腔体的内壁施加压力后卸载压力，使施加压力时腔体的腔壁的内侧部分、腔体的腔壁的外侧部分和感应膜片分别处于塑性变形状态、弹性变形状态和弹性张紧状态，从而使卸载压力后的感应膜片上具有所需的张紧力；该电容式薄膜真空计的感应膜片焊后张紧力控制方法有利于实现对感应膜片焊接后的张紧力的精准控制。
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公开(公告)号：CN111940252A
公开(公告)日：2020-11-17
申请号：CN202010751469.4
申请日：2020-07-30
Applicant: 季华实验室
Abstract: 本发明公开了一种基于真空环境下回收粉末装置，包括可通过气体但粉末不能通过的粉末收集罐，所述粉末收集罐的气体入口与真空腔体连通，粉末收集罐的气体出口与抽真空装置连通：抽真空装置启动，使真空腔体内形成真空环境，对真空腔体内的芯片进行粉末喷涂，真空腔体内多余的粉末由于压力差被吸入到粉末收集罐内实现收集；本基于真空环境下回收粉末装置的结构简易，能在保持真空环境的同时对粉末尤其是荧光粉等纳米级粉末实现过滤回收；粉末收集罐内设置硫化过滤板，可以实现对纳米级粉末的有效过滤回收；本回收粉末装置无需其他外力，只需要真空泵抽真空时形成的压力差就可以把粉末带到粉末收集罐内，提高工作效率，节省能源。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN111221412A
公开(公告)日：2020-06-02
申请号：CN201911379933.5
申请日：2019-12-27
Applicant: 季华实验室
IPC: G06F3/01 , G06F3/0481 , G06K9/00
Abstract: 本发明提供了一种基于眼睛控制的光标定位方法及装置。其中方法包括步骤：A.采集用户看向屏幕四个角时，其中一个眼睛的图像，并识别其瞳孔位置；B.建立瞳孔位置与屏幕上位置的映射关系；C.采集所述眼睛的当前图像，并识别其瞳孔位置；D.根据所述映射关系计算用户视线落在屏幕上的位置；E.把计算结果发送至被控主机，以便被控主机控制屏幕在相应的位置显示光标。装置包括瞳孔位置采集模块、映射模块、计算模块和通信模块。该方法及装置可实现通过眼睛来控制光标的位置，方便手部无法正常工作的人控制计算机。
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公开(公告)号：CN111190486A
公开(公告)日：2020-05-22
申请号：CN201911379932.0
申请日：2019-12-27
Applicant: 季华实验室
Abstract: 本发明提供了一种基于眼睛控制的分区显示方法及装置。其中方法包括步骤：A.通过识别用户瞳孔位置以对用户视线落在屏幕上的位置进行定位；B.以上述定位的位置为中心，按照预设的规则对屏幕划定高清区域；C.显示图像时，其它区域的图像分辨率低于所述高清区域的图像分辨率。装置包括定位模块、分区模块、输出模块。该方法及装置可实现在人眼关注的地方清晰显示，在人眼不关注的地方模糊显示，从而提高图像处理速度。
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公开(公告)号：CN111153599A
公开(公告)日：2020-05-15
申请号：CN201911379942.4
申请日：2019-12-27
Applicant: 季华实验室
Abstract: 本发明公开了一种纳米结构DLC薄膜、增硬玻璃、制备装备及制备方法，DLC薄膜包括第一氮化硅层、第二材料层和第一DLC薄膜层，第二材料层包括由下到上依次设置第二DLC薄膜层和第二氮化硅层（并可复制出结构相同、厚度不一定相等多层第二材料层）；通过在玻璃基体上设置第一氮化硅层，既保证玻璃基体与DLC薄膜层之间的过渡，又增加DLC薄膜层与玻璃基体的结合力，隔绝玻璃基体中氧含量对DLC薄膜层的影响；采用多材料层设计，单层材料层可达到纳米级别尺寸，不但增加DLC薄膜层之间界面，还促进DLC薄膜层内应力释放，能在保证DLC薄膜层高硬度、低摩擦性的情况下，降低DLC薄膜层内应力，强韧DLC薄膜结构。
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公开(公告)号：CN114871941B
公开(公告)日：2024-04-05
申请号：CN202210443467.8
申请日：2022-04-25
Applicant: 季华实验室
Abstract: 本申请属于化学机械抛光技术领域，公开一种抛光头及抛光机，抛光头包括用于安装待抛光工件的安装盘、用于安装安装盘的环形安装板、用于安装环形安装板的底板、用于驱动所述底板向下移动的移动驱动件、用于驱动底板转动的第一转动驱动件及用于驱动安装盘向下变形的电缸，环形安装板的两端分别连接安装盘及底板，移动驱动件的输出端连接底板的上表面，第一转动驱动件的输出端连接底板或移动驱动件，安装盘、环形安装板及底板形成安装空间，电缸设置在安装空间内，电缸的输出端连接有移动板，移动板抵接安装盘上表面的中心区域。本申请的抛光头及抛光机能够使得安装盘在电缸的驱动作用下产生向下的变形，从而改善待抛光工件的平坦度，提高抛光质量。
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公开(公告)号：CN117053987A
公开(公告)日：2023-11-14
申请号：CN202311324037.5
申请日：2023-10-13
Applicant: 季华实验室
IPC: G01L27/00
Abstract: 本公开涉及半导体测试技术领域，尤其涉及一种真空计校准方法、测试设备及测试系统。其中，真空计校准方法包括：获取真空计在不同压力下对应的电压量化值；基于电压量化值获取线性校准系数；采用线性校准系数对压力‑电压量化值曲线进行线性拟合，获取非线性误差；在非线性误差小于等于非线性误差阈值时，确定线性校准系数为目标校准系数。本公开的技术方案，有利于提高真空计的检测结果线性度，进而提高真空计的测量结果，以满足实际应用需求。
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