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公开(公告)号：CN105340072B
公开(公告)日：2018-04-13
申请号：CN201480036122.4
申请日：2014-04-16
Applicant: 瓦里安半导体设备公司
IPC: H01L21/66 , H01L21/677
CPC classification number: B25J13/085 , H01L21/67288 , H01L21/68742 , Y10S901/02
Abstract: 本发明提供一种监测基板提升设备上的力的系统及方法。系统包括具有台及可动提升部分的台匣。可动提升部分包括耦合至多个提升梢的多个提升臂。多个力传感元件分别关联于这些提升臂及这些提升梢。控制器接收来自这些力传感元件的信号，将这些信号联系至分别施加于这些提升梢的力。被联系的力可指示错误状况的存在至控制器，例如被卡住的晶圆、损坏的晶圆、错置的晶圆或机械故障。
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公开(公告)号：CN107078058A
公开(公告)日：2017-08-18
申请号：CN201580062884.6
申请日：2015-11-23
Applicant: 瓦里安半导体设备公司
Inventor： 史蒂芬·M·恩尔拉 , 麦可·A·斯库拉么尔
IPC: H01L21/324 , H01L21/67 , H01L21/683 , H01L21/687 , H05B3/00 , H05B3/26
CPC classification number: H01L21/67103 , H01L21/324 , H01L21/67109 , H01L21/67248 , H01L21/683 , H01L21/68735 , H05B3/0047 , H05B3/265 , H05B2203/014
Abstract: 揭示一种用于在处理期间改善工件温度均匀性的设备和方法。设备包含沿着平台的外周安置的环形加热器组合件。环形加热器组合件包含安置于其中或其上的加热元件，其中这些加热元件产生用以加温工件的外边缘的热量。在一些实施例中，环形加热器组合件伸出工件的边缘并且可以暴露于离子束中。
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公开(公告)号：CN103229288A
公开(公告)日：2013-07-31
申请号：CN201180056752.4
申请日：2011-09-23
Applicant: 瓦里安半导体设备公司
IPC: H01L21/677 , H01J37/317 , H01L21/687
CPC classification number: H01L21/677 , H01J37/3171 , H01J2237/31711 , H01L21/68735 , H01L31/1804 , Y02E10/547 , Y02P70/521
Abstract: 本发明揭示了改良的、低成本的制作基板的方法以创造太阳能电池。此外，还揭示了改良的基板载具。一般用以运载基板的载具被改良，以便来当作图案化植入的遮蔽罩幕。在一些实施例中，各种图案能够利用载具产生而出，使得可藉由改变载具或载具的位置来执行在基板上不同的制程步骤。另外，因为基板对载具的对准是重要的，所以载具可包括对准特征来确保基板能够在载具上适当地定位好。在一些实施例中，重力会被用来支撑在载具上的基板，且因此离子被引导离子以便使离子束向上朝向载具的底侧行进。
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公开(公告)号：CN102113093A
公开(公告)日：2011-06-29
申请号：CN200980129797.2
申请日：2009-05-19
Applicant: 瓦里安半导体设备公司
IPC: H01L21/265
CPC classification number: H01L21/26513 , H01J37/20 , H01J37/3171 , H01J2237/2001 , H01L21/26593
Abstract: 揭示一种用于改变平台温度的技术。在一个特定示例实施例中，此技术可以被实现为用于改变平台温度的装置。此装置包括平台以及一个或者多个活动热垫，此一个或者多个活动热垫包括一个或者多个热流体通道，此热流体通道承载被配置为影响平台温度的热流体。
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公开(公告)号：CN112234000B
公开(公告)日：2024-06-11
申请号：CN202011109040.1
申请日：2016-03-01
Applicant: 瓦里安半导体设备公司
Inventor： 孙大伟 , D·杰弗里·里斯查尔 , 史蒂芬·M·恩尔拉 , 岱尔·K·史东 , 留德米拉·史东
IPC: H01L21/67
Abstract: 本申请揭露一种工件固持加热设备，其可用于在处理期间增进工件的温度均匀性。所述设备包含具有分开控制的边缘加热器的压板，边缘加热器能够独立地加热压板的外边缘。以此方式，可在压板的外边缘供应额外热量，从而帮助维持在全部压板上的恒定温度。此边缘加热器可安置于压板的外表面上，或在某些实施例中，可嵌入于压板中。在某些实施例中，将边缘加热器以及主要加热元件安置在两个不同平面中，其中边缘加热器比主要加热元件安置得更靠近压板的顶表面。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN112234000A
公开(公告)日：2021-01-15
申请号：CN202011109040.1
申请日：2016-03-01
Applicant: 瓦里安半导体设备公司
Inventor： 孙大伟 , D·杰弗里·里斯查尔 , 史蒂芬·M·恩尔拉 , 岱尔·K·史东 , 留德米拉·史东
IPC: H01L21/67
Abstract: 本申请揭露一种工件固持加热设备，其可用于在处理期间增进工件的温度均匀性。所述设备包含具有分开控制的边缘加热器的压板，边缘加热器能够独立地加热压板的外边缘。以此方式，可在压板的外边缘供应额外热量，从而帮助维持在全部压板上的恒定温度。此边缘加热器可安置于压板的外表面上，或在某些实施例中，可嵌入于压板中。在某些实施例中，将边缘加热器以及主要加热元件安置在两个不同平面中，其中边缘加热器比主要加热元件安置得更靠近压板的顶表面。
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公开(公告)号：CN102113093B
公开(公告)日：2013-05-08
申请号：CN200980129797.2
申请日：2009-05-19
Applicant: 瓦里安半导体设备公司
IPC: H01L21/265
CPC classification number: H01L21/26513 , H01J37/20 , H01J37/3171 , H01J2237/2001 , H01L21/26593
Abstract: 本发明揭示一种用于改变平台温度的装置及方法。在一个特定示例实施例中，揭示用于改变平台温度的装置。此装置包括平台以及一个或者多个活动热垫，此一个或者多个活动热垫包括一个或者多个热流体通道，此热流体通道承载被配置为影响平台温度的热流体。
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公开(公告)号：CN107533997B
公开(公告)日：2021-05-11
申请号：CN201680014843.4
申请日：2016-03-01
Applicant: 瓦里安半导体设备公司
Inventor： 孙大伟 , D·杰弗里·里斯查尔 , 史蒂芬·M·恩尔拉 , 岱尔·K·史东 , 留德米拉·史东
IPC: H01L21/67
Abstract: 本申请揭露一种工件固持加热设备，其可用于在处理期间增进工件的温度均匀性。所述设备包含具有分开控制的边缘加热器的压板，边缘加热器能够独立地加热压板的外边缘。以此方式，可在压板的外边缘供应额外热量，从而帮助维持在全部压板上的恒定温度。此边缘加热器可安置于压板的外表面上，或在某些实施例中，可嵌入于压板中。在某些实施例中，将边缘加热器以及主要加热元件安置在两个不同平面中，其中边缘加热器比主要加热元件安置得更靠近压板的顶表面。
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公开(公告)号：CN107533997A
公开(公告)日：2018-01-02
申请号：CN201680014843.4
申请日：2016-03-01
Applicant: 瓦里安半导体设备公司
Inventor： 孙大伟 , D·杰弗里·里斯查尔 , 史蒂芬·M·恩尔拉 , 岱尔·K·史东 , 留德米拉·史东
IPC: H01L21/67
CPC classification number: H01L21/67103
Abstract: 本申请揭露一种用于在处理期间增进工件的温度均匀性的设备。所述设备包含具有分开控制的边缘加热器的压板，边缘加热器能够独立地加热压板的外边缘。以此方式，可在压板的外边缘供应额外热量，从而帮助维持在全部压板上的恒定温度。此边缘加热器可安置于压板的外表面上，或在某些实施例中，可嵌入于压板中。在某些实施例中，将边缘加热器以及主要加热元件安置在两个不同平面中，其中边缘加热器比主要加热元件安置得更靠近压板的顶表面。
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公开(公告)号：CN105340072A
公开(公告)日：2016-02-17
申请号：CN201480036122.4
申请日：2014-04-16
Applicant: 瓦里安半导体设备公司
IPC: H01L21/66 , H01L21/677
CPC classification number: B25J13/085 , H01L21/67288 , H01L21/68742 , Y10S901/02
Abstract: 一种监测基板提升设备上的力的系统及方法。系统包括具有台及可动提升部分的台匣。可动提升部分包括耦合至多个提升梢的多个提升臂。多个力传感元件分别关联于这些提升臂及这些提升梢。控制器接收来自这些力传感元件的信号，将这些信号联系至分别施加于这些提升梢的力。被联系的力可指示错误状况的存在至控制器，例如被卡住的晶圆、损坏的晶圆、错置的晶圆或机械故障。
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