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公开(公告)号：CN106030779A
公开(公告)日：2016-10-12
申请号：CN201580009010.4
申请日：2015-02-17
Applicant: 瓦里安半导体设备公司
Inventor： 罗杰·B·费许 , 史蒂芬·恩尔拉 , 陶德·路易斯·马克阿册恩
IPC: H01L21/683
CPC classification number: H01J37/20 , H01J37/3171 , H01J2237/20 , H01J2237/2001 , H01J2237/31701 , H01L21/6833
Abstract: 一种平台支撑结构，所述平台支撑结构被适配成使加热平台部分与冷底板绝热同时提供其间的基本上无泄漏的气体运输，且同时允许所述平台部分的热膨胀和收缩。所述支撑结构提供的各种实例提供：管状弯曲部，其具有内部气体导管；平台部分安装耳片，其连接到所述弯曲部并且具有与所述弯曲部的所述内部气体导管流体连通的内部气体输入狭槽，所述平台部分安装耳片适用于连接到平台的平台部分；以及底板安装耳片，其连接到所述弯曲部并且具有与所述弯曲部的所述内部气体导管流体连通的内部气体输出狭槽，所述底板安装耳片适用于连接到平台的底板。
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公开(公告)号：CN105340072A
公开(公告)日：2016-02-17
申请号：CN201480036122.4
申请日：2014-04-16
Applicant: 瓦里安半导体设备公司
IPC: H01L21/66 , H01L21/677
CPC classification number: B25J13/085 , H01L21/67288 , H01L21/68742 , Y10S901/02
Abstract: 一种监测基板提升设备上的力的系统及方法。系统包括具有台及可动提升部分的台匣。可动提升部分包括耦合至多个提升梢的多个提升臂。多个力传感元件分别关联于这些提升臂及这些提升梢。控制器接收来自这些力传感元件的信号，将这些信号联系至分别施加于这些提升梢的力。被联系的力可指示错误状况的存在至控制器，例如被卡住的晶圆、损坏的晶圆、错置的晶圆或机械故障。
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公开(公告)号：CN102105976A
公开(公告)日：2011-06-22
申请号：CN200980129366.6
申请日：2009-06-04
Applicant: 瓦里安半导体设备公司
Inventor： 罗杰·B·费许
IPC: H01L21/683 , H01L21/687 , H01L21/265
CPC classification number: H01L21/6831 , Y10T29/49117
Abstract: 一种分层式组件，采用两片结构，包括非导电层与导热层。其中导热层是用包含金属与热膨胀系数改良剂的复合材料来制成，而非使用金属来制成。这种复合材料可具有与非导电层接近或相同的热膨胀系数，从而排除了先前技术中的许多缺点。在一实施例中，此复合材料是铝与碳(或石墨)纤维的混合物。在另一实施例中，导热层被铸造成型之前要将一个或多个流体导管放入模具。这些导管是用作静电卡盘中的流体通道。在另一实施例中，此复合材料是诸如硅的半导体材料与铝的混合物，其中导管是透过机械加工与接合而形成的。
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公开(公告)号：CN105659371B
公开(公告)日：2020-02-14
申请号：CN201480055162.3
申请日：2014-09-08
Applicant: 瓦里安半导体设备公司
Inventor： 杰佛瑞·E·卡兰波特 , 罗杰·B·费许
IPC: H01L21/66
Abstract: 本发明描述了在半导体制造期间用于测量基板温度的温度探针与组合件和用于支撑基板的传感器压板。温度探针包括温度传感器。各项实施例描述了具有安置在压板的介电板内的开口的气室，其中密封件安置在气室中的开口周围，使得气室中的开口可以抵着基板密封。此外，温度传感器以及弹簧安置在气室中，所述弹簧经偏置以将温度传感器放置成与基板接触。另外，提供了经配置以利用低压气体对气室加压以便增加基板与温度传感器之间的热导率的气体源。
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公开(公告)号：CN105340072B
公开(公告)日：2018-04-13
申请号：CN201480036122.4
申请日：2014-04-16
Applicant: 瓦里安半导体设备公司
IPC: H01L21/66 , H01L21/677
CPC classification number: B25J13/085 , H01L21/67288 , H01L21/68742 , Y10S901/02
Abstract: 本发明提供一种监测基板提升设备上的力的系统及方法。系统包括具有台及可动提升部分的台匣。可动提升部分包括耦合至多个提升梢的多个提升臂。多个力传感元件分别关联于这些提升臂及这些提升梢。控制器接收来自这些力传感元件的信号，将这些信号联系至分别施加于这些提升梢的力。被联系的力可指示错误状况的存在至控制器，例如被卡住的晶圆、损坏的晶圆、错置的晶圆或机械故障。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102224572A
公开(公告)日：2011-10-19
申请号：CN200980146889.1
申请日：2009-09-29
Applicant: 瓦里安半导体设备公司
IPC: H01L21/265
CPC classification number: H01L21/67213 , H01J37/20 , H01J37/3171 , H01J2237/006 , H01J2237/0216 , H01J2237/2001 , H01L21/67109 , Y10T279/23
Abstract: 本揭示案的液体输送机制提供一种供单一运动轴中使用的解决方案，其允许在较宽温度范围内将一或多个流体流动路径连接至真空环境中。所述机制不使用尤其在非常低的温度下容易疲劳的可挠性管道。在一实施例中，管在经密封活塞内轴向移动以允许液体输送。在第二实施例中，使用波纹管来提供所需功能性。在另一实施例中，有可能藉由利用两个或两个以上经适当组态的机制来达成两个或两个以上运动轴中的移动。
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公开(公告)号：CN106165079B
公开(公告)日：2020-04-28
申请号：CN201580016349.7
申请日：2015-03-11
Applicant: 瓦里安半导体设备公司
Inventor： 杰佛瑞·E·卡兰波特 , 罗杰·B·费许
IPC: H01L21/66
Abstract: 本发明提供一种处理系统及校准、验证工件工艺及在高温处理工件的方法。因为硅在红外线光谱带中具有非常低的放射率，所以会在工件的至少一部分上配置涂布层。涂布层可为石墨或任何其他可易于应用的材料，且涂布层在红外线光谱中在温度范围内具有相对恒定的放射率。在一实施例中，将石墨涂布层涂布至工件的一部分，使得工件的温度可通过观察涂布层的温度而被测量。此技术可用以校准处理室、验证处理室内的操作条件或发展制造工艺。
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公开(公告)号：CN105981134B
公开(公告)日：2019-03-01
申请号：CN201580008264.4
申请日：2015-02-11
Applicant: 瓦里安半导体设备公司
IPC: H01L21/265 , H01J37/317
Abstract: 本发明提供一种具有改良温度均匀性的加热平台。各种实例提供平台部分，其具有与其热耦合的金属化层。电接触件可连接到金属化层并被配置成传导用于加热金属化层以及平台部分的电流。电接触件可包含电导体以及电阻加热元件，电阻加热元件被配置成当电流流过其时将加热，从而产生减少从平台部分吸收到电接触件中的热量的热块。本发明提供的加热平台具有改良温度均匀性。
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公开(公告)号：CN106030779B
公开(公告)日：2018-12-21
申请号：CN201580009010.4
申请日：2015-02-17
Applicant: 瓦里安半导体设备公司
Inventor： 罗杰·B·费许 , 史蒂芬·恩尔拉 , 陶德·路易斯·马克阿册恩
IPC: H01L21/683
Abstract: 本发明提供一种平台支撑结构以及平台，所述平台支撑结构被适配成使加热平台部分与冷底板绝热同时提供其间的基本上无泄漏的气体运输，且同时允许所述平台部分的热膨胀和收缩。所述支撑结构提供的各种实例提供：管状弯曲部，其具有内部气体导管；平台部分安装耳片，其连接到所述弯曲部并且具有与所述弯曲部的所述内部气体导管流体连通的内部气体输入狭槽，所述平台部分安装耳片适用于连接到平台的平台部分；以及底板安装耳片，其连接到所述弯曲部并且具有与所述弯曲部的所述内部气体导管流体连通的内部气体输出狭槽，所述底板安装耳片适用于连接到平台的底板。平台支撑结构提供加热平台部分与冷底板的强机械耦接、良好的热绝缘以及无泄漏气体运输。
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公开(公告)号：CN102714124A
公开(公告)日：2012-10-03
申请号：CN201080053059.7
申请日：2010-09-29
Applicant: 瓦里安半导体设备公司
Inventor： 罗杰·B·费许 , 杰佛瑞·E·卡兰波特
IPC: H01J37/20 , H01J37/02 , H01J37/317
CPC classification number: H01J37/3171 , H01J37/20 , H01J2237/022 , H01J2237/2001
Abstract: 在离子植入器中，一个或多个光学加热器安置于一对支撑臂上方。支撑臂具有啮合位置和可缩回位置，啮合位置安置于平台下方，可缩回位置垂直地被移开以远离平台且在平行于平台的平坦表面的方向上被旋转以远离平台。当支撑臂在缩回位置时，一个或多个光学加热器经组态以提供光能量，所述光能量入射于安置于支撑臂上的冷却垫的表面，用以移除其上不想要的材料。以此方式，在离子植入器中于低温表面的再生周期期间使用光学加热器。
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