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公开(公告)号：CN105609397B
公开(公告)日：2017-06-30
申请号：CN201510569675.2
申请日：2015-09-09
Applicant: 日新离子机器株式会社
IPC: H01J37/317
Abstract: 本发明提供离子束照射装置(100)等，能够在短时间内且稳定性良好地进行束电流的均匀化。在实现离子束的均匀化的均匀控制步骤中，所述控制装置执行：权重系数计算步骤，计算作为各灯丝电流(IF)的变化对各束电流(IB)的变化的影响程度的权重系数；以及灯丝理论电流计算步骤，根据在所述权重系数计算步骤中得到的权重系数，计算用于使各束电流(IB)的值尽可能接近规定的目标电流值的各灯丝的理论电流值。
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公开(公告)号：CN119340266A
公开(公告)日：2025-01-21
申请号：CN202410824473.7
申请日：2024-06-25
Applicant: 日新离子机器株式会社
IPC: H01L21/687 , H01L21/683
Abstract: 本发明提供晶片固定方法和半导体制造装置，能够减少晶片脱离时产生的应力释放导致的不利情况的发生。利用具备机械夹具(M)和静电吸盘(E)并且在半导体制造装置中使用的晶片固定工具(F)，在晶片(W)的处理温度为比室温高的第一基准温度(T1)以上时，仅使用机械夹具(M)固定晶片(W)。另外，半导体制造装置(IM)具备：晶片固定工具(F)，并用机械夹具(M)和静电吸盘(E)固定晶片(W)；以及控制装置(C)，控制晶片(W)的固定，控制装置(C)在晶片(W)的处理温度为比室温高的第一基准温度(T1)以上时仅使用机械夹具(M)固定晶片(W)。
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公开(公告)号：CN116705577A
公开(公告)日：2023-09-05
申请号：CN202211453722.3
申请日：2022-11-21
Applicant: 日新离子机器株式会社
Abstract: 本发明提供一种阴极支承件及离子源，改善进行灯丝与阴极之间的间隔调整时的作业性。阴极支承件具备：筒状或棒状的阴极支架(1)，在一端支承阴极(6)，在另一端具有凸缘部(2)；及夹持件(3、4、5)，支承阴极支架(1、61)，夹持件(3、4、5)在阴极支架(1、61)的轴向上具有第一调整面(31、41、51)和第二调整面(32、42、52)，通过使阴极支架(1、61)绕阴极支架(1、61)的轴旋转且在阴极支架(1、61)的轴向上移动，能够实现凸缘部(2)从第一调整面(31、41、51)向第二调整面(32、42、52)的配置。
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公开(公告)号：CN118571737A
公开(公告)日：2024-08-30
申请号：CN202311022677.0
申请日：2023-08-14
Applicant: 日新离子机器株式会社
Abstract: 本发明提供离子束引出用电极、离子源和引出电极系统，能够抑制堆积物向引出电极系统的堆积，并且能够消除伴随于此的各种问题。离子束引出用电极具备：第一构件，形成有供离子束通过的离子束通过孔(20h)；第二构件，与第一构件对置配置，并且形成有离子束通过孔(20h)；加热器(50)，至少一部分配置在第一构件与第二构件之间；以及气体阻断构件(60)，阻断气体从离子束通过孔(20h)流动到第一构件与第二构件之间。
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公开(公告)号：CN109559963A
公开(公告)日：2019-04-02
申请号：CN201810725722.1
申请日：2018-07-04
Applicant: 日新离子机器株式会社
CPC classification number: H01J37/08 , H01J37/32009
Abstract: 本发明涉及一种离子源和离子源的运转方法，不论灯丝的丝径为何都可谋求与灯丝更换相关的离子源的稼动损失的降低。该离子源具备有：多根灯丝；控制装置，其个别地设定供给于各灯丝的通电电流；以及电压计，其量测在各灯丝的电压；其中，控制装置从设定的电流值与量测的电压值算出各灯丝的目前的电阻值，且根据基准的电阻值与目前的电阻值的差，将供给于各灯丝的通电电流进行再设定，以使各灯丝的目前的电阻值成为基准的电阻值。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN111640639B
公开(公告)日：2024-03-22
申请号：CN201911265284.6
申请日：2019-12-11
Applicant: 日新离子机器株式会社
Abstract: 本发明提供一种离子源及其清洁方法，该离子源在宽范围内向电极表面照射离子束来除去电极上的沉积物。一种离子源(1)，向配置在等离子体容器(2)下游的抑制电极(3)照射由清洁气体生成的离子束(IB)来清洁抑制电极(3)，其中，离子源(1)具有驱动机构(5)，该驱动机构(5)调整等离子体容器(2)与抑制电极(3)之间的距离，离子源(1)包括控制装置(C)，该控制装置(C)在进行清洁之前，控制驱动机构(5)而使抑制电极(3)或等离子体容器(2)向第一方向移动，扩大等离子体容器(2)与抑制电极(3)之间的距离。
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公开(公告)号：CN109559963B
公开(公告)日：2022-04-29
申请号：CN201810725722.1
申请日：2018-07-04
Applicant: 日新离子机器株式会社
Abstract: 本发明涉及一种离子源和离子源的运转方法，不论灯丝的丝径为何都可谋求与灯丝更换相关的离子源的稼动损失的降低。该离子源具备有：多根灯丝；控制装置，其个别地设定供给于各灯丝的通电电流；以及电压计，其量测在各灯丝的电压；其中，控制装置从设定的电流值与量测的电压值算出各灯丝的目前的电阻值，且根据基准的电阻值与目前的电阻值的差，将供给于各灯丝的通电电流进行再设定，以使各灯丝的目前的电阻值成为基准的电阻值。
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公开(公告)号：CN111640639A
公开(公告)日：2020-09-08
申请号：CN201911265284.6
申请日：2019-12-11
Applicant: 日新离子机器株式会社
Abstract: 本发明提供一种离子源及其清洁方法，该离子源在宽范围内向电极表面照射离子束来除去电极上的沉积物。一种离子源(1)，向配置在等离子体容器(2)下游的抑制电极(3)照射由清洁气体生成的离子束(IB)来清洁抑制电极(3)，其中，离子源(1)具有驱动机构(5)，该驱动机构(5)调整等离子体容器(2)与抑制电极(3)之间的距离，离子源(1)包括控制装置(C)，该控制装置(C)在进行清洁之前，控制驱动机构(5)而使抑制电极(3)或等离子体容器(2)向第一方向移动，扩大等离子体容器(2)与抑制电极(3)之间的距离。
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公开(公告)号：CN105609397A
公开(公告)日：2016-05-25
申请号：CN201510569675.2
申请日：2015-09-09
Applicant: 日新离子机器株式会社
IPC: H01J37/317
Abstract: 本发明提供离子束照射装置(100)等，能够在短时间内且稳定性良好地进行束电流的均匀化。在实现离子束的均匀化的均匀控制步骤中，所述控制装置执行：权重系数计算步骤，计算作为各灯丝电流(IF)的变化对各束电流(IB)的变化的影响程度的权重系数；以及灯丝理论电流计算步骤，根据在所述权重系数计算步骤中得到的权重系数，计算用于使各束电流(IB)的值尽可能接近规定的目标电流值的各灯丝的理论电流值。
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公开(公告)号：CN119069327A
公开(公告)日：2024-12-03
申请号：CN202410296076.7
申请日：2024-03-15
Applicant: 日新离子机器株式会社
Abstract: 本发明提供离子注入装置以及离子注入方法，对装置各部分的控制进行优化，对晶片以所希望的角度高精度地实现离子注入处理。离子注入装置(IM)具备：角度测量器(11、12、60、70、80)，在与离子束(IB)的行进方向相互正交的第一方向和第二方向上测量离子束(IB)的角度；角度修正器(7)，配置在射束线上，根据角度测量器的测量结果，修正第一方向上的离子束的角度；晶片保持装置(9)，在处理室(8)保持晶片(W)；倾斜机构(L)，与晶片保持装置(9)连结，使晶片(W)绕与第一方向平行的旋转轴旋转；控制装置(C2)，根据第二方向上的离子束的角度信息(V)、晶片(W)的晶轴信息(M)和注入配方信息(R)，控制倾斜机构(L)。
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