离子源电极的清洁装置
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN103094028A

    公开(公告)日:2013-05-08

    申请号:CN201210236662.X

    申请日:2012-07-09

    Abstract: 本发明提供一种离子源电极的清洁装置,可以沿构成离子源的引出电极系统的电极的宽广区域高速去除沉积物。该清洁装置包括:清洁气体源(42)等构件,向引出电极系统(10)的相互面对的两个电极(11、12)之间提供清洁气体(48),使两个电极之间的气体压力保持在发生辉光放电的气体压力;辉光放电电源(60),向两个电极(11、12)之间施加直流电压,发生辉光放电(80)。该清洁装置还包括:异常放电测量器(84),测量在规定时间内电极(11、12)之间发生异常放电的次数(N);电源控制器(86),使用测量到的发生异常放电的次数(N)进行控制,使辉光放电电源(60)的输出电流(Ig)增减规定幅度。

    离子源及离子源的运转方法

    公开(公告)号:CN109559963A

    公开(公告)日:2019-04-02

    申请号:CN201810725722.1

    申请日:2018-07-04

    CPC classification number: H01J37/08 H01J37/32009

    Abstract: 本发明涉及一种离子源和离子源的运转方法,不论灯丝的丝径为何都可谋求与灯丝更换相关的离子源的稼动损失的降低。该离子源具备有:多根灯丝;控制装置,其个别地设定供给于各灯丝的通电电流;以及电压计,其量测在各灯丝的电压;其中,控制装置从设定的电流值与量测的电压值算出各灯丝的目前的电阻值,且根据基准的电阻值与目前的电阻值的差,将供给于各灯丝的通电电流进行再设定,以使各灯丝的目前的电阻值成为基准的电阻值。

    离子注入装置和离子注入装置的运转方法

    公开(公告)号:CN103928280B

    公开(公告)日:2016-04-20

    申请号:CN201310353859.6

    申请日:2013-08-14

    Inventor: 松本武

    Abstract: 本发明提供能够在清洗离子源内部后在短时间内重新启动离子束的离子注入装置和该离子注入装置的运转方法。所述离子注入装置在进行离子注入处理时,向离子源(IS)内部导入工艺气体,使用由多块电极构成的引出电极系统(2),从离子源(IS)引出带状的离子束(3),向配置在处理室(5)内的基板(4)照射离子束(3),并且在离子注入处理以外时,向离子源(IS)内部导入清洗气体,对该离子源(IS)内部进行清洗,在这样的离子注入装置(IM)中,在清洗结束后重新启动离子束(3)时,在引出电极系统(2)上施加规定电压后,将离子源(IS)的运转参数设定为与作为处理对象的基板(4)的注入配方对应的运转参数。

    离子源电极的清洗方法
    4.
    发明授权

    公开(公告)号:CN102376513B

    公开(公告)日:2015-06-10

    申请号:CN201110137140.X

    申请日:2011-05-24

    Inventor: 松本武

    Abstract: 本发明提供一种离子源电极的清洗方法,可以在构成离子源引出电极系统的电极的广阔区域上高速去除堆积物。代替向离子源(2)的等离子体生成部(4)中导入可电离气体并引出离子束,向构成引出电极系统(10)的第一电极(11)和第二电极(12)之间供给清洗用气体(48),在将第一电极(11)和第二电极(12)之间的气压保持在高于离子束引出时的气压的状态下,从辉光放电用电源(60)向第一电极(11)和第二电极(12)之间施加电压,在两电极(11)、(12)之间使清洗用气体(48)产生辉光放电(80)。

    离子束照射装置和离子束电流均匀化方法

    公开(公告)号:CN105609397B

    公开(公告)日:2017-06-30

    申请号:CN201510569675.2

    申请日:2015-09-09

    Abstract: 本发明提供离子束照射装置(100)等,能够在短时间内且稳定性良好地进行束电流的均匀化。在实现离子束的均匀化的均匀控制步骤中,所述控制装置执行:权重系数计算步骤,计算作为各灯丝电流(IF)的变化对各束电流(IB)的变化的影响程度的权重系数;以及灯丝理论电流计算步骤,根据在所述权重系数计算步骤中得到的权重系数,计算用于使各束电流(IB)的值尽可能接近规定的目标电流值的各灯丝的理论电流值。

    离子源电极的清洁装置
    6.
    发明授权

    公开(公告)号:CN103094028B

    公开(公告)日:2015-09-09

    申请号:CN201210236662.X

    申请日:2012-07-09

    Abstract: 本发明提供一种离子源电极的清洁装置,可以沿构成离子源的引出电极系统的电极的宽广区域高速去除沉积物。该清洁装置包括:清洁气体源(42)等构件,向引出电极系统(10)的相互面对的两个电极(11、12)之间提供清洁气体(48),使两个电极之间的气体压力保持在发生辉光放电的气体压力;辉光放电电源(60),向两个电极(11、12)之间施加直流电压,发生辉光放电(80)。该清洁装置还包括:异常放电测量器(84),测量在规定时间内电极(11、12)之间发生异常放电的次数(N);电源控制器(86),使用测量到的发生异常放电的次数(N)进行控制,使辉光放电电源(60)的输出电流(Ig)增减规定幅度。

    离子注入装置和离子注入装置的运转方法

    公开(公告)号:CN103928280A

    公开(公告)日:2014-07-16

    申请号:CN201310353859.6

    申请日:2013-08-14

    Inventor: 松本武

    Abstract: 本发明提供能够在清洗离子源内部后在短时间内重新启动离子束的离子注入装置和该离子注入装置的运转方法。所述离子注入装置在进行离子注入处理时,向离子源(IS)内部导入工艺气体,使用由多块电极构成的引出电极系统(2),从离子源(IS)引出带状的离子束(3),向配置在处理室(5)内的基板(4)照射离子束(3),并且在离子注入处理以外时,向离子源(IS)内部导入清洗气体,对该离子源(IS)内部进行清洗,在这样的离子注入装置(IM)中,在清洗结束后重新启动离子束(3)时,在引出电极系统(2)上施加规定电压后,将离子源(IS)的运转参数设定为与作为处理对象的基板(4)的注入配方对应的运转参数。

    离子源及离子源的运转方法

    公开(公告)号:CN109559963B

    公开(公告)日:2022-04-29

    申请号:CN201810725722.1

    申请日:2018-07-04

    Abstract: 本发明涉及一种离子源和离子源的运转方法,不论灯丝的丝径为何都可谋求与灯丝更换相关的离子源的稼动损失的降低。该离子源具备有:多根灯丝;控制装置,其个别地设定供给于各灯丝的通电电流;以及电压计,其量测在各灯丝的电压;其中,控制装置从设定的电流值与量测的电压值算出各灯丝的目前的电阻值,且根据基准的电阻值与目前的电阻值的差,将供给于各灯丝的通电电流进行再设定,以使各灯丝的目前的电阻值成为基准的电阻值。

    能量线照射系统和工件输送机构

    公开(公告)号:CN104103554B

    公开(公告)日:2018-06-15

    申请号:CN201310567012.8

    申请日:2013-11-14

    Abstract: 本发明提供能量线照射系统和工件输送机构,能大幅度改善生产率,并且有助于有效地利用能量线。能量线照射系统包括能量线射出机构、以及把照射所述能量线的工件(W)在规定的工件交接区域和能量线的照射区域(AR)之间输送的工件支架(21),把所述工件交接区域设置在隔着通过所述照射区域(AR)的虚拟直线(C)相对的两个部位,并且作为所述工件支架(21)设置有:第一工件支架(21(1)),在一方的工件交接区域和所述照射区域(AR)之间移动;以及第二工件支架(21(2)),在另一方的工件交接区域和所述照射区域(AR)之间移动。

    离子束照射装置和离子束照射装置的运转方法

    公开(公告)号:CN103515172B

    公开(公告)日:2016-07-20

    申请号:CN201310081172.1

    申请日:2013-03-14

    Inventor: 松本武

    Abstract: 本发明提供离子束照射装置和离子束照射装置的运转方法,能对离子束照射装置进行清洗,并且能显著提高装置的运转率。所述离子束照射装置包括:基板输送部(102),在盒(7)和处理室(5)之间对未处理的基板与离子束照射处理过的基板进行多次基板更换作业;以及离子束供给部(101),用于向处理室(5)供给离子束(3),与至少一次的基板更换作业并行地,对离子束供给部(101)的运转参数进行设定变更并对离子束供给部(101)内进行清洗。

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