公开(公告)号：CN111640639B

公开(公告)日：2024-03-22

申请号：CN201911265284.6

申请日：2019-12-11

Applicant: 日新离子机器株式会社

Inventor： 足立昌和 ,  平井裕也 ,  谷口智哉

IPC: H01J37/08 ,  H01J37/32

Abstract: 本发明提供一种离子源及其清洁方法，该离子源在宽范围内向电极表面照射离子束来除去电极上的沉积物。一种离子源(1)，向配置在等离子体容器(2)下游的抑制电极(3)照射由清洁气体生成的离子束(IB)来清洁抑制电极(3)，其中，离子源(1)具有驱动机构(5)，该驱动机构(5)调整等离子体容器(2)与抑制电极(3)之间的距离，离子源(1)包括控制装置(C)，该控制装置(C)在进行清洁之前，控制驱动机构(5)而使抑制电极(3)或等离子体容器(2)向第一方向移动，扩大等离子体容器(2)与抑制电极(3)之间的距离。

公开(公告)号：CN111640639A

公开(公告)日：2020-09-08

申请号：CN201911265284.6

申请日：2019-12-11

Applicant: 日新离子机器株式会社

Inventor： 足立昌和 ,  平井裕也 ,  谷口智哉

IPC: H01J37/08 ,  H01J37/32

Abstract: 本发明提供一种离子源及其清洁方法，该离子源在宽范围内向电极表面照射离子束来除去电极上的沉积物。一种离子源(1)，向配置在等离子体容器(2)下游的抑制电极(3)照射由清洁气体生成的离子束(IB)来清洁抑制电极(3)，其中，离子源(1)具有驱动机构(5)，该驱动机构(5)调整等离子体容器(2)与抑制电极(3)之间的距离，离子源(1)包括控制装置(C)，该控制装置(C)在进行清洁之前，控制驱动机构(5)而使抑制电极(3)或等离子体容器(2)向第一方向移动，扩大等离子体容器(2)与抑制电极(3)之间的距离。

公开(公告)号：CN305523786S

公开(公告)日：2019-12-31

申请号：CN201930411808.2

申请日：2019-07-31

Applicant: 日新离子机器株式会社

Designer： 平井裕也 ,  赵维江 ,  谷口智哉 ,  足立昌和

Abstract: 1.本外观设计产品的名称：溅射靶。
2.本外观设计产品的用途：本外观设计产品用作溅射靶。
3.本外观设计产品的设计要点：在于形状。
4.最能表明设计要点的图片或照片：立体图。