公开(公告)号：CN110783222A

公开(公告)日：2020-02-11

申请号：CN201910531242.6

申请日：2019-06-19

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 刘钒镇 ,  金旼亨 ,  南象基 ,  张原赫 ,  韩奎熙 ,  金永焘 ,  方政民

IPC: H01L21/67

Abstract: 一种清洗溶液制作系统用于清洗半导体基板。该系统包括：压力罐；等离子体反应罐，被配置为在悬浮在从压力罐获得的减压液体中的气泡中形成等离子体，从而在减压液体中产生自由基物种；存储罐，被配置为存储含有在等离子体反应罐中产生的自由基物种的清洗溶液；以及喷嘴，被配置为将清洗溶液从存储罐供应到半导体基板。

公开(公告)号：CN110867361B

公开(公告)日：2024-08-20

申请号：CN201910534236.6

申请日：2019-06-19

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 金永焘 ,  林成龙 ,  姜璨秀 ,  权度勋 ,  金敏周 ,  南象基 ,  梁正模 ,  皮宗勋 ,  韩奎熙

IPC: H01J37/244 ,  H01J37/32

Abstract: 一种被配置用于等离子体处理室的RF感测装置包括穿透单元，沿向上/向下方向开口；主返回路径单元，围绕穿透单元的全部或一部分；以及辅返回路径单元，位于穿透单元与主返回路径单元之间，与主返回路径单元间隔开，并围绕穿透单元的全部或一部分。主返回路径单元和辅返回路径单元包括电流沿向上/向下方向中的一个方向流过的路径。

公开(公告)号：CN116266526A

公开(公告)日：2023-06-20

申请号：CN202211347576.6

申请日：2022-10-31

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 林成龙 ,  姜璨秀 ,  金永焘 ,  金南均 ,  金成烈 ,  南象基 ,  沈承辅 ,  李庆旼

IPC: H01J37/32

Abstract: 公开自由基诊断系统、诊断装置和诊断装置的操作方法。所述诊断装置可包括光谱仪和同步器，光谱仪通过连接到等离子体处理腔室的至少一个光通道来接收光信号，并且响应于与施加到等离子体处理腔室的多电平脉冲的每个状态对应的同步信号而对所述光信号执行光谱分析，同步器生成与所述多电平脉冲的每个状态对应的同步信号。

公开(公告)号：CN115954253A

公开(公告)日：2023-04-11

申请号：CN202211207798.8

申请日：2022-09-30

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 任昶淳 ,  金永焘 ,  姜大元 ,  姜璨秀 ,  金炅显 ,  南象基 ,  李均进 ,  张圣虎 ,  皮宗勋

IPC: H01J37/32 ,  G01R31/00

Abstract: 一种用于电弧诊断的设备包括第一VI传感器和第二VI传感器、光学传感器和电弧检测器。第一VI传感器设置在电力过滤器中或者设置在连接至设置在工艺室的下电极中的加热器的电源线上，在工艺室中执行等离子体工艺。第一VI传感器感测从向下电极供电的第一电源生成的谐波并且输出第一信号。光学传感器感测从工艺室生成的光的强度并且输出第二信号。第二VI传感器设置在连接至上电极的电源线上并且感测从向上电极供电的第二电源生成的谐波并且输出第三信号。电弧检测器基于第一信号、第二信号和第三信号中的一个或多个确定是否出现电弧。

公开(公告)号：CN110867361A

公开(公告)日：2020-03-06

申请号：CN201910534236.6

申请日：2019-06-19

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 金永焘 ,  林成龙 ,  姜璨秀 ,  权度勋 ,  金敏周 ,  南象基 ,  梁正模 ,  皮宗勋 ,  韩奎熙

IPC: H01J37/244 ,  H01J37/32

Abstract: 一种被配置用于等离子体处理室的RF感测装置包括穿透单元，沿向上/向下方向开口；主返回路径单元，围绕穿透单元的全部或一部分；以及辅返回路径单元，位于穿透单元与主返回路径单元之间，与主返回路径单元间隔开，并围绕穿透单元的全部或一部分。主返回路径单元和辅返回路径单元包括电流沿向上/向下方向中的一个方向流过的路径。

公开(公告)号：CN110783222B

公开(公告)日：2024-11-08

申请号：CN201910531242.6

申请日：2019-06-19

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 刘钒镇 ,  金旼亨 ,  南象基 ,  张原赫 ,  韩奎熙 ,  金永焘 ,  方政民

IPC: H01L21/67

Abstract: 一种清洗溶液制作系统用于清洗半导体基板。该系统包括：压力罐；等离子体反应罐，被配置为在悬浮在从压力罐获得的减压液体中的气泡中形成等离子体，从而在减压液体中产生自由基物种；存储罐，被配置为存储含有在等离子体反应罐中产生的自由基物种的清洗溶液；以及喷嘴，被配置为将清洗溶液从存储罐供应到半导体基板。

公开(公告)号：CN117063622A

公开(公告)日：2023-11-14

申请号：CN202280023673.1

申请日：2022-02-25

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 金永焘 ,  朴天命

IPC: H05K7/20

Abstract: 根据实施例的散热片可以具有：多个氧化石墨烯颗粒层，通过具有第一尺寸的平均直径的第一氧化石墨烯颗粒和具有第二尺寸的平均直径的第二氧化石墨烯颗粒形成；以及精细折痕结构，在多个氧化石墨烯颗粒层之间并包括厚度小于2μm的孔。另外还公开了一种散热片的制造方法以及包括该散热片的移动通信装置。

公开(公告)号：CN115565911A

公开(公告)日：2023-01-03

申请号：CN202210777663.9

申请日：2022-07-04

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 林成龙 ,  金永焘 ,  姜大元 ,  金成烈 ,  南象基 ,  宋明根 ,  曹秉局 ,  陈铉喆 ,  皮宗勋

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/683

Abstract: 提供了一种半导体处理系统及其控制方法。该半导体处理系统包括：半导体处理室，其包括设置在室外壳中的静电卡盘和用于将第一射频(RF)电力供应至设置在静电卡盘中的内部电极的第一电力供应器；电压测量装置，其测量对应于第一RF电力的电压，以输出数字信号；以及控制装置，当基于数字信号确定电压增大至预定参考范围内时,其将互锁控制信号输出至半导体处理室。静电卡盘被配置为使得晶圆能够安装于静电卡盘的表面上。