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公开(公告)号:CN103826741A
公开(公告)日:2014-05-28
申请号:CN201280042937.4
申请日:2012-09-04
Applicant: 株式会社可乐丽
CPC classification number: B01J20/26 , B01D53/02 , B01D53/0462 , B01D53/047 , B01D2253/112 , B01D2253/202 , B01D2253/204 , B01D2253/25 , B01D2257/504 , B01D2257/7025 , B01D2259/4525 , B01J20/223 , B01J20/261 , B01J20/262 , B01J20/264 , B01J2220/44 , C01B3/508 , C01B13/0281 , C01B17/167 , C01B17/60 , C01B21/0455 , C01B21/20 , C01B23/0057 , C01C1/006 , C07C7/12 , F17C1/00 , F17C11/00 , F17C11/005 , F17C11/007 , Y02C10/08 , Y02C20/20 , Y02P20/152 , Y02P20/156 , C07C9/04 , C07C9/06
Abstract: 本发明的目标是提供一种吸附材料,所述吸附材料具有出色的气体储藏性能和气体分离性能。该目的可以通过包含以下组合物的吸附材料实现:所述组合物包含金属配合物(A)和弹性体(B),所述金属配合物(A)含有阴离子配体和至少一种选自属于周期表的第1至13族的金属的离子的金属离子,所述金属配合物(A)在吸附时能够经历体积改变,并且所述金属配合物(A)和所述弹性体(B)的质量比在1∶99至99∶1的范围内。
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公开(公告)号:CN1988948A
公开(公告)日:2007-06-27
申请号:CN200580024531.3
申请日:2005-07-19
Applicant: 安格斯公司
Inventor: 小丹尼尔·阿尔瓦雷斯 , 特洛伊·B.·斯科金斯 , 湛·端·阮 , 大屋敷靖
CPC classification number: C01B21/0411 , B01D53/02 , B01D2253/10 , B01D2253/104 , B01D2253/106 , B01D2253/108 , B01D2257/60 , B01D2258/0216 , C01B3/56 , C01B6/34 , C01B7/0718 , C01B7/0743 , C01B7/093 , C01B7/096 , C01B7/197 , C01B7/20 , C01B13/00 , C01B13/0244 , C01B21/0427 , C01B23/0057 , C01B23/0068 , C01B2203/042 , C01B2203/0465 , C01B2210/0031 , C01B2210/0034 , C01B2210/0043
Abstract: 本发明是从超高纯度气体中除去金属化合物的方法和设备,其使用包含高表面积无机氧化物的净化材料从超高纯度气体中除去金属化合物,从而金属不沉积在敏感的器件上并且引起器件故障。
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公开(公告)号:CN1110344C
公开(公告)日:2003-06-04
申请号:CN96110219.5
申请日:1996-06-28
Applicant: 液体空气乔治洛德方法利用和研究的具有监督和管理委员会的有限公司
CPC classification number: F25J3/08 , B01D53/04 , B01D2253/112 , B01D2256/10 , B01D2256/18 , B01D2257/104 , B01D2257/502 , B01D2259/402 , B01D2259/416 , C01B23/0057 , C01B2210/0029 , C01B2210/0034 , C01B2210/0045 , C01B2210/005 , F25J3/04412 , F25J3/04678 , F25J3/04733 , F25J2205/60 , F25J2205/82 , F25J2215/30 , F25J2215/32 , F25J2215/34 , F25J2215/36 , F25J2215/58 , Y10S62/92 , Y10S62/924
Abstract: 至少清除掉杂质O2和CO之一的物流的制备方法,根据该方法:a)待处理的物流被冷却至温度低于-40℃,其中物流含有至少90mol%的选自氮、氦、氖、氩、氮、氙的一种化合物或者这些化合物的一种混合物,以及杂质O2和CO中的至少一种杂质,b)经冷却的物流流过用来对杂质O2和CO中的至少一种杂质进行吸附的吸附剂,该吸附剂含有至少一种多孔的金属氧化物,c)对至少清除掉杂质O2和CO之一的物流加以回收。实现这种方法的装置。
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公开(公告)号:CN1362607A
公开(公告)日:2002-08-07
申请号:CN01144033.3
申请日:2001-12-27
Applicant: 普莱克斯技术有限公司
IPC: F25J3/02
CPC classification number: B01D53/0476 , B01D53/0423 , B01D53/053 , B01D2256/18 , B01D2259/40073 , B01D2259/40081 , B01D2259/402 , B01D2259/416 , C01B23/0057 , C01B2210/0034 , C01B2210/0045 , C01B2210/0046
Abstract: 一种从含第一气体和第二气体的粗进料气中纯化第一气体,优选氩气,的压力振动方法和系统,其使用双吸附床,并在工艺过程中连续加入粗进料气进入床中,并且每个床在冲洗后,在顶与顶和底与底端均衡化中,使两床同时进行压力均衡化。
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公开(公告)号:CN107434243A
公开(公告)日:2017-12-05
申请号:CN201710609233.5
申请日:2017-07-25
Applicant: 大连中鼎化学有限公司
CPC classification number: C01B3/56 , C01B23/0057 , C01B23/0084 , C01B2203/043 , C01B2210/0015 , C01B2210/0023
Abstract: 本发明涉及半导体、LED、光伏太阳能生产等领域,具体的涉及一种超高纯氢气、氩气、氦气纯化方法。主要技术方案如下:包括干燥脱氧工序、吸气工序、再生工序;三个工序通过控制系统实现,所述的控制系统包括中央控制单元、以及分别与中央控制单元的流量计、程控阀门组、交流接触器、压力传感器、加温元件。本发明的对原料气中O2、H2O、CO、CO2、N2、CH4、TCH等杂质深度脱出,解决了气体杂质影响电子行业生产器件,造成电子元件质量下降的问题。且采用两塔纯化流程,其中一个吸附干燥器工作,另一个吸附干燥器则进行再生,这样两个吸附干燥器交替工作和再生,从而可实现对原料气的连续净化。
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公开(公告)号:CN105008272B
公开(公告)日:2016-11-23
申请号:CN201480011819.6
申请日:2014-02-28
Applicant: 普莱克斯技术有限公司
CPC classification number: F25J3/04733 , B01D53/04 , B01D2253/108 , B01D2256/18 , B01D2257/104 , C01B23/0052 , C01B23/0057 , C01B2210/0014 , C01B2210/0034 , C01B2210/0045 , F25J3/0409 , F25J3/04303 , F25J3/04412 , F25J3/04678 , F25J2205/02 , F25J2205/60 , F25J2205/66 , F25J2215/58 , F25J2220/04 , F25J2245/42
Abstract: 用于生产纯化的液氩产品的方法和装置,其中通过在氩塔内将氩与氧分离来在低温空气分离设备中生产具有氧杂质的液氩。在吸附床中通过以吸附剂吸附氧杂质来纯化由一部分液氩组成的不纯的液氩流,以产生构成纯化的液氩产品的纯化的液氩流。在吸附期间,用冷却剂将吸附床维持在低温下,以防止液氩的蒸发。随后通过以下方式使所述床再生:从吸附床中排出残留的液氩,将所述残留的液氩引回入空气分离设备中,且随后用再生气体脱附氧杂质。再生之后,在使吸附床返回在线之前用纯化的液氩进行重新填充。
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公开(公告)号:CN105939961A
公开(公告)日:2016-09-14
申请号:CN201580006723.5
申请日:2015-01-14
Applicant: 信越半导体株式会社
CPC classification number: C01B23/0094 , B01D53/0462 , B01D53/047 , B01D53/261 , B01D53/62 , B01D53/75 , B01D53/864 , B01D53/8671 , B01D2253/104 , B01D2253/106 , B01D2253/108 , B01D2255/1021 , B01D2256/18 , B01D2257/102 , B01D2257/104 , B01D2257/502 , B01D2257/504 , B01D2257/80 , B01D2258/0216 , C01B23/001 , C01B23/0015 , C01B23/0021 , C01B23/0057 , C01B23/0068 , C01B23/0078 , C01B2210/0034 , C01B2210/0045 , C01B2210/0046 , C01B2210/005 , C01B2210/0098 , Y02A50/2341 , Y02C10/04 , Y02C10/08 , Y02P20/152
Abstract: 本发明是一种氩气回收精制方法及氩气回收精制装置,该方法具有从单晶硅制造装置向废氩气贮槽导入含有氮气、氧气及一氧化碳的废氩气的工序、用去除所述废氩气中的固形物的预处理设备来去除所述固形物的工序、通过催化反应分别将所述氧气转化为水、将所述一氧化碳转化为二氧化碳的工序、及去除所述水、所述二氧化碳及所述氮气得到回收气体的工序,在通过将催化剂配置于双级压缩机内,仅用压缩热进行所述催化反应来得到所述回收气体的工序中,在预先用干燥机去除所述水后,用常温吸附塔吸附去除所述氮气、所述二氧化碳。由此提供一种使用简单且低成本的设备,就能够稳定去除从单晶硅制造装置排出的大风量氩气中所含的杂质气体的氩气回收精制方法。
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公开(公告)号:CN1309453C
公开(公告)日:2007-04-11
申请号:CN02819288.5
申请日:2002-07-31
Applicant: 普莱克斯技术有限公司
IPC: B01D53/04
CPC classification number: C01B23/0057 , B01D53/04 , B01D53/047 , B01D53/229 , B01D2253/102 , B01D2253/104 , B01D2253/108 , B01D2256/18 , B01D2257/102 , B01D2257/104 , B01D2257/502 , B01D2257/504 , B01D2257/7022 , B01D2257/80 , B01D2259/40001 , B01D2259/40018 , B01D2259/40024 , B01D2259/40037 , B01D2259/40075 , B01D2259/40083 , B01D2259/401 , B01D2259/404 , B01D2259/4146 , C01B2210/0031 , C01B2210/0045 , C01B2210/0046 , C01B2210/005 , C01B2210/0051 , C01B2210/0062 , C01B2210/007 , Y02C10/08 , Y02C10/10 , Y02P20/152
Abstract: 一种气体回收系统,其包括具有预选浓度希望组分的气源(9),至少一个向所述气体中加入杂质的应用装置(1),和至少一个纯化所述气体以产生再用于应用装置(1)的净化气的吸附系统(6),其中所述至少一个吸附系统包括至少一个具有至少三个吸附剂层的吸附床(A)。还公开了一种回收工艺。
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公开(公告)号:CN1681583A
公开(公告)日:2005-10-12
申请号:CN03821254.4
申请日:2003-09-03
Applicant: 巴斯福股份公司
CPC classification number: B01J20/0244 , B01D53/02 , B01D2253/10 , B01D2257/502 , B01D2259/40086 , B01D2259/40088 , B01D2259/4009 , B01J20/0211 , B01J20/0237 , B01J20/06 , B01J20/3433 , B01J20/3458 , B01J20/3483 , B01J21/066 , B01J23/80 , B01J2220/42 , C01B3/58 , C01B21/0455 , C01B23/0057 , C01B2210/0034 , C01B2210/005
Abstract: 通过吸附到含有铜、锌和锆的吸附物质中而从物料流中除去一氧化碳。
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公开(公告)号:CN105939961B
公开(公告)日:2018-03-13
申请号:CN201580006723.5
申请日:2015-01-14
Applicant: 信越半导体株式会社
CPC classification number: C01B23/0094 , B01D53/0462 , B01D53/047 , B01D53/261 , B01D53/62 , B01D53/75 , B01D53/864 , B01D53/8671 , B01D2253/104 , B01D2253/106 , B01D2253/108 , B01D2255/1021 , B01D2256/18 , B01D2257/102 , B01D2257/104 , B01D2257/502 , B01D2257/504 , B01D2257/80 , B01D2258/0216 , C01B23/001 , C01B23/0015 , C01B23/0021 , C01B23/0057 , C01B23/0068 , C01B23/0078 , C01B2210/0034 , C01B2210/0045 , C01B2210/0046 , C01B2210/005 , C01B2210/0098 , Y02A50/2341 , Y02C10/04 , Y02C10/08 , Y02P20/152
Abstract: 本发明是一种氩气回收精制方法及氩气回收精制装置,该方法具有从单晶硅制造装置向废氩气贮槽导入含有氮气、氧气及一氧化碳的废氩气的工序、用去除所述废氩气中的固形物的预处理设备来去除所述固形物的工序、通过催化反应分别将所述氧气转化为水、将所述一氧化碳转化为二氧化碳的工序、及去除所述水、所述二氧化碳及所述氮气得到回收气体的工序,在通过将催化剂配置于双级压缩机内,仅用压缩热进行所述催化反应来得到所述回收气体的工序中,在预先用干燥机去除所述水后,用常温吸附塔吸附去除所述氮气、所述二氧化碳。由此提供一种使用简单且低成本的设备,就能够稳定去除从单晶硅制造装置排出的大风量氩气中所含的杂质气体的氩气回收精制方法。
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