-
公开(公告)号：CN105084329A
公开(公告)日：2015-11-25
申请号：CN201510413821.2
申请日：2010-01-04
Applicant: 赖卡有限公司
CPC classification number: C01B23/0094 , C01B2210/0006 , C01B2210/0014 , C01B2210/0034 , C01B2210/0045 , C01B2210/0062 , F25J3/0285 , F25J3/08 , F25J2200/02 , F25J2205/40 , F25J2205/60 , F25J2205/82 , F25J2245/58 , F25J2290/50
Abstract: 本发明涉及用于分离混合气体中的氩气的方法和装置。该方法含有以下几个步骤：将错就气体聚集在一聚集器中，将混合气体中的氧气通过催化和/或吸收的方法去处，干燥剩余的混合气体，剩余的混合气体在一分离柱中低温纯化，其中清洗获得的氩气以液体的形式从分离柱中被抽出。该装置包含有收集混合气体的收集装置，用于将混合气体中的氧气从混合气体中通过催化和/或吸附的方法去除的单元，对混合气体进行干燥的单元，对混合气体进行低温处理以及液体分离氩气的装置。
-
公开(公告)号：CN104080957A
公开(公告)日：2014-10-01
申请号：CN201280069224.7
申请日：2012-12-04
Applicant: 普莱克斯技术有限公司
CPC classification number: C01B23/0094 , C01B23/0021 , C01B2210/0004 , C01B2210/0034 , C01B2210/0045 , C01B2210/005 , C01B2210/0053 , C01B2210/007 , C01B2210/0098 , C30B15/00 , C30B15/20 , C30B29/06 , F25J3/08 , F25J2200/02 , F25J2205/40 , F25J2205/50 , F25J2205/82 , F25J2215/30 , F25J2215/58 , F25J2245/02 , F25J2245/58 , Y02C10/12
Abstract: 本发明涉及一种用于结合硅晶体拉制方法来持续地回收、纯化和再循环惰性气体的方法。通过用调节量的氧化源气体混合物就地氧化，将在晶体生长工艺期间产生的氧化硅杂质完全氧化以形成二氧化硅杂质，其可通过颗粒移除装置移除。无颗粒的流出物进入纯化单元以移除剩余杂质。从纯化单元中涌出的惰性气体可被给送回晶体拉晶机设备和/或与氧化源气体混合物混合。因此，可实现增加硅晶体通过量、品质和同时降低与再循环惰性气体相关成本的能力。
-
公开(公告)号：CN108017043A
公开(公告)日：2018-05-11
申请号：CN201711036677.0
申请日：2017-10-30
Applicant: 乔治洛德方法研究和开发液化空气有限公司
IPC: C01B23/00
CPC classification number: C01B23/0094 , C01B2210/0003 , C01B2210/0017 , C01B2210/0018
Abstract: 本发明的课题是提供一种杂质除去装置，其在将由准分子激光装置排出的含有第1稀有气体和氖气的排气送向后段的工序时，能够基于排气中的杂质浓度来控制除去处理的有无和是否向外界放气。为此，提高了一种杂质除去装置，其具有：杂质浓度检测部，其测定排气流经的排出管线的排气中的杂质浓度；转变部，其基于杂质浓度检测部的测定结果，将排气中的杂质通过等离子体分解而变为别的物质；以及除去部，其使通过转变部而变成的物质与规定的反应剂反应，将其从排气中除去。杂质除去装置还可以具有基于杂质浓度检测部的测定结果、将排气向外界释放的释放管线。
-
公开(公告)号：CN103764552A
公开(公告)日：2014-04-30
申请号：CN201280041688.7
申请日：2012-08-29
Applicant: 大阳日酸株式会社
CPC classification number: B01D53/04 , B01D2253/102 , B01D2253/104 , B01D2253/108 , B01D2256/18 , B01D2257/502 , B01D2257/80 , B01J21/18 , B01J23/44 , B01J29/043 , C01B21/0494 , C01B23/0094 , C01B2210/0004 , C01B2210/0014 , C01B2210/0017 , C01B2210/0018 , C01B2210/0031 , C01B2210/0032 , C01B2210/0034 , C01B2210/0037 , C01B2210/005 , C01B2210/0053 , C01B2210/0062 , Y02C10/08 , Y02P20/152
Abstract: 一种对含有氢及一氧化碳的惰性气体进行精制的惰性气体精制方法，包括：第1工序，在惰性气体中添加氧，并且通过使用催化剂的反应来使氢成为水；和第2工序，在第1工序后，通过吸附剂来从惰性气体去除一氧化碳及水。
-
公开(公告)号：CN1237124A
公开(公告)日：1999-12-01
申请号：CN98801269.3
申请日：1998-09-04
Applicant: 液化空气日本有限公司
IPC: B25J3/02
CPC classification number: F25J3/08 , B01D53/04 , B01D53/0462 , B01D53/047 , B01D53/261 , B01D2253/104 , B01D2253/108 , B01D2256/18 , B01D2257/504 , B01D2257/80 , B01D2259/40001 , B01D2259/40052 , B01D2259/40056 , C01B23/0094 , C01B2210/0004 , C01B2210/0006 , C01B2210/0014 , F25J3/0285 , F25J2200/02 , F25J2200/74 , F25J2205/40 , F25J2205/82 , F25J2210/04 , F25J2215/58 , F25J2245/58 , F25J2270/12 , F25J2290/42 , Y02C10/08 , Y02P20/152
Abstract: 本发明提供用简便的工序、少量的能耗来精制氩的方法。向含有作为不纯物的氮、一氧化碳、氢及甲烷的氩气中添加氧,在一氧化碳氧化塔31中在催化剂的作用下氧化一氧化碳变成二氧化碳。向氢气中添加氢,在脱氧塔33中在催化剂作用下使氧和氢反应变成水。在除碳干燥单元50中用吸附剂从氩气中去除二氧化碳及水。该氩气在主热交换器60等设备中被冷却并液化之后,导入精馏塔70,用以氩为主成分的还流液进行精馏。从精馏塔顶部76使氮与浓缩的氩气分离,从底部77使甲烷与浓缩的液体氢分离,从中段的气相中回收高纯度的氩气。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN107614086A
公开(公告)日：2018-01-19
申请号：CN201680014196.7
申请日：2016-03-04
Applicant: 机械解析有限公司
Inventor： 伊夫斯·加马什
CPC classification number: B01D53/346 , B01D53/0407 , B01D53/0423 , B01D53/0454 , B01D53/30 , B01D53/32 , B01D53/323 , B01D53/8696 , B01D2251/102 , B01D2253/102 , B01D2253/108 , B01D2253/116 , B01D2255/20707 , B01D2255/20715 , B01D2255/20723 , B01D2255/20738 , B01D2256/10 , B01D2256/18 , B01D2257/102 , B01D2257/108 , B01D2257/502 , B01D2257/504 , B01D2257/702 , B01D2257/7025 , B01D2257/80 , B01D2259/818 , B01J20/02 , B01J20/18 , B01J20/20 , B01J20/3408 , B01J20/3416 , B01J20/3433 , B01J20/3441 , C01B23/0015 , C01B23/0073 , C01B23/0094 , C01B2210/0029 , C01B2210/0046 , C01B2210/005 , C01B2210/0051 , C01B2210/0053 , C01B2210/0062 , C01B2210/007 , Y02C10/08 , Y02C20/20 , Y02P20/152 , Y02P20/156
Abstract: 提供了一种用于延长吸附剂的使用寿命的方法，该吸附剂用于通过吸附杂质来纯化气体。该方法包括在气体内产生放电以获得代表杂质的浓度的光谱发射。该方法还包括根据光谱发射监测杂质的浓度。该方法还包括通过将杂质的至少一部分转化为与该杂质相比对吸附剂具有更大的亲和力的二次杂质来降低杂质的浓度。该方法还包括将杂质的浓度与污染浓度进行比较，并根据该比较来管理将气体吸附到吸附剂上。
-
公开(公告)号：CN106315527A
公开(公告)日：2017-01-11
申请号：CN201610657484.6
申请日：2016-08-11
Applicant: 四川空分设备(集团)有限责任公司
IPC: C01B23/00
CPC classification number: C01B23/0094 , C01B2210/0004 , C01B2210/0021 , C01B2210/0031 , C01B2210/0046 , C01B2210/0053 , C01B2210/0062
Abstract: 本发明提供了一种高含氢粗氦提取高纯氦精制工艺，包括：粗氦原料脱氢：除去粗氦原料中的氢；脱水处理：将经过脱氢的粗氦进行脱水；脱氮处理：将经过脱水处理的粗氦进行脱氮。本发明实施例提供的高含氢粗氦提取高纯氦精制工艺大大提高了氦气提取的效率，能够实现更高的经济效益。
-
公开(公告)号：CN105939961A
公开(公告)日：2016-09-14
申请号：CN201580006723.5
申请日：2015-01-14
Applicant: 信越半导体株式会社
CPC classification number: C01B23/0094 , B01D53/0462 , B01D53/047 , B01D53/261 , B01D53/62 , B01D53/75 , B01D53/864 , B01D53/8671 , B01D2253/104 , B01D2253/106 , B01D2253/108 , B01D2255/1021 , B01D2256/18 , B01D2257/102 , B01D2257/104 , B01D2257/502 , B01D2257/504 , B01D2257/80 , B01D2258/0216 , C01B23/001 , C01B23/0015 , C01B23/0021 , C01B23/0057 , C01B23/0068 , C01B23/0078 , C01B2210/0034 , C01B2210/0045 , C01B2210/0046 , C01B2210/005 , C01B2210/0098 , Y02A50/2341 , Y02C10/04 , Y02C10/08 , Y02P20/152
Abstract: 本发明是一种氩气回收精制方法及氩气回收精制装置，该方法具有从单晶硅制造装置向废氩气贮槽导入含有氮气、氧气及一氧化碳的废氩气的工序、用去除所述废氩气中的固形物的预处理设备来去除所述固形物的工序、通过催化反应分别将所述氧气转化为水、将所述一氧化碳转化为二氧化碳的工序、及去除所述水、所述二氧化碳及所述氮气得到回收气体的工序，在通过将催化剂配置于双级压缩机内，仅用压缩热进行所述催化反应来得到所述回收气体的工序中，在预先用干燥机去除所述水后，用常温吸附塔吸附去除所述氮气、所述二氧化碳。由此提供一种使用简单且低成本的设备，就能够稳定去除从单晶硅制造装置排出的大风量氩气中所含的杂质气体的氩气回收精制方法。
-
公开(公告)号：CN107298434A
公开(公告)日：2017-10-27
申请号：CN201710374714.2
申请日：2017-05-24
Applicant: 杭州杭氧股份有限公司
CPC classification number: C01B23/0094 , B01D53/04 , B01D53/864 , B01D53/8671 , B01D53/869 , B01D2256/22 , B01D2257/104 , B01D2259/4009 , B01D2259/404 , C01B2210/0004 , C01B2210/0014
Abstract: 一种氩气回收装置中的两级催化-吸附系统及氩气回收方法，所述系统包括：第一级催化系统、第一级吸附系统、第二级催化系统和第二级吸附系统，所述的第一级催化系统、第一级吸附系统、第二级催化系统和第二级吸附系统形成串联结构，其中：第一级催化系统包括空气管道、第一回热器、第一加热器、第一催化炉，第一催化炉R1内装填有能催化一氧化碳和烃类同氧气反应的催化剂。
-
公开(公告)号：CN104080957B
公开(公告)日：2017-05-17
申请号：CN201280069224.7
申请日：2012-12-04
Applicant: 普莱克斯技术有限公司
CPC classification number: C01B23/0094 , C01B23/0021 , C01B2210/0004 , C01B2210/0034 , C01B2210/0045 , C01B2210/005 , C01B2210/0053 , C01B2210/007 , C01B2210/0098 , C30B15/00 , C30B15/20 , C30B29/06 , F25J3/08 , F25J2200/02 , F25J2205/40 , F25J2205/50 , F25J2205/82 , F25J2215/30 , F25J2215/58 , F25J2245/02 , F25J2245/58 , Y02C10/12
Abstract: 本发明涉及一种用于结合硅晶体拉制方法来持续地回收、纯化和再循环惰性气体的方法。通过用调节量的氧化源气体混合物就地氧化，将在晶体生长工艺期间产生的氧化硅杂质完全氧化以形成二氧化硅杂质，其可通过颗粒移除装置移除。无颗粒的流出物进入纯化单元以移除剩余杂质。从纯化单元中涌出的惰性气体可被给送回晶体拉晶机设备和/或与氧化源气体混合物混合。因此，可实现增加硅晶体通过量、品质和同时降低与再循环惰性气体相关成本的能力。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
15
records
(took 0.009 seconds)
