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公开(公告)号：CN101215421A
公开(公告)日：2008-07-09
申请号：CN200810002129.0
申请日：2001-06-15
IPC: C08L101/06 , C08K5/16 , G03F7/004 , C08F232/08 , C08F222/06 , C08F220/12 , C08G61/08
Abstract: 公开了含有含酸不稳定基的树脂和光致酸产生剂的辐射敏感树脂组合物。该树脂具有通式(1)的结构，其中R1表示氢原子、一价酸不稳定基、不带有酸不稳定基的1－6碳烷基，或不带有酸不稳定基的2－7碳烷羰基，X1表示带有1－4个碳原子的直链的或支化氟化烷基，R2表示氢原子、带有1－10个碳原子的直链的或支化烷基，或带有1－10个碳原子的直链的或支化氟化烷基。该树脂组合物表现出高辐照穿透率、高敏感度、分辨率和图案形状，可用作高产率半导体制造中的化学增强型抗蚀剂。
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公开(公告)号：CN102656111A
公开(公告)日：2012-09-05
申请号：CN201080057273.X
申请日：2010-11-26
Applicant: 国际商业机器公司
CPC classification number: B82Y40/00 , B81C1/00031 , B81C2201/0149 , G03F7/0392 , G03F7/09 , G03F7/091 , G03F7/165 , G03F7/325 , G03F7/327 , G03F7/40
Abstract: 一种用于形成包括自组装材料的畴图案的分层结构的方法，包括：在衬底上布置包括非交联光刻胶的光刻胶层；可选地烘焙光刻胶层；将光刻胶层图案式曝光于第一辐射；可选地烘焙已曝光光刻胶层；以及采用非碱性显影剂来显影已曝光光刻胶层以形成包括未交联已显影光刻胶的负性图案化光刻胶层；其中，已显影光刻胶不可溶于适用于浇铸能够自组装的给定材料的给定有机溶剂，并且已显影光刻胶可溶于含水碱性显影剂和/或第二有机溶剂。在图案化光刻胶层上浇铸包括溶解在给定有机溶剂中的能够自组装的给定材料的溶液，并且去除给定有机溶剂。当可选地加热和/或退火已浇铸的给定材料时，允许已浇铸的给定材料自组装，由此形成包括自组装给定材料的畴图案的分层结构。
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公开(公告)号：CN1764873A
公开(公告)日：2006-04-26
申请号：CN200480007786.4
申请日：2004-02-23
Applicant: 普罗米鲁斯有限责任公司 , 国际商业机器公司
Abstract: 提供一种光刻胶组合物，其包括一种聚合物，该聚合物包括至少一种具有所需外型异构体摩尔百分数的多环烯烃重复单元，其中该重复单元来自具有所需外型异构体摩尔百分数的多环烯烃单体。具有这类有所需外型异构体摩尔百分数的重复单元的聚合物能够控制溶解速率差，从而提高成像性能。还提供具有所需外型异构体摩尔百分数的例示性单体。
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公开(公告)号：CN102656111B
公开(公告)日：2015-03-04
申请号：CN201080057273.X
申请日：2010-11-26
Applicant: 国际商业机器公司
CPC classification number: B82Y40/00 , B81C1/00031 , B81C2201/0149 , G03F7/0392 , G03F7/09 , G03F7/091 , G03F7/165 , G03F7/325 , G03F7/327 , G03F7/40
Abstract: 一种用于形成包括自组装材料的畴图案的分层结构的方法，包括：在衬底上布置包括非交联光刻胶的光刻胶层；可选地烘焙光刻胶层；将光刻胶层图案式曝光于第一辐射；可选地烘焙已曝光光刻胶层；以及采用非碱性显影剂来显影已曝光光刻胶层以形成包括未交联已显影光刻胶的负性图案化光刻胶层；其中，已显影光刻胶不可溶于适用于浇铸能够自组装的给定材料的给定有机溶剂，并且已显影光刻胶可溶于含水碱性显影剂和/或第二有机溶剂。在图案化光刻胶层上浇铸包括溶解在给定有机溶剂中的能够自组装的给定材料的溶液，并且去除给定有机溶剂。当可选地加热和/或退火已浇铸的给定材料时，允许已浇铸的给定材料自组装，由此形成包括自组装给定材料的畴图案的分层结构。
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Patent Agency Ranking
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公开(公告)号：CN1189792C
公开(公告)日：2005-02-16
申请号：CN01117158.8
申请日：2001-04-27
Applicant: 国际商业机器公司
Inventor： 托马斯·I·沃洛 , 罗伯特·D·阿伦 , 菲利普·J·布洛克 , 理查德·A·迪彼特罗 , 伊藤洋 , 霍·D·翁 , 普什卡拉·R·瓦雷那斯
CPC classification number: G03F7/0045 , G03F7/039
Abstract: 可使用193nm射线(且可能使用其它射线)成象与显影以形成具有改进的显影特性与改进的抗蚀力的光致抗蚀剂结构的酸催化正性光致抗蚀剂组合物可通过使用包括环烯聚合物的抗蚀剂组合物而实现，此聚合物包括含有内酯部分的环烯单体，此单体在插入在内酯部分与环烯的一环之间没有氧原子。优选的内酯部分是同环烯的一环直接结合的螺甾内酯(有一个5或6节的环)。
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公开(公告)号：CN1322967A
公开(公告)日：2001-11-21
申请号：CN01117158.8
申请日：2001-04-27
Applicant: 国际商业机器公司
Inventor： 托马斯·I·沃洛 , 罗伯特·D·阿伦 , 菲利普·J·布洛克 , 理查德·A·迪彼特罗 , 伊藤洋 , 霍·D·翁 , 普什卡拉·R·瓦雷那斯
IPC: G03F7/027
CPC classification number: G03F7/0045 , G03F7/039
Abstract: 可使用193nm射线(且可能使用其它射线)成象与显影以形成具有改进的显影特性与改进的抗蚀力的光致抗蚀剂结构的酸催化正性光致抗蚀剂组合物可通过使用包括环烯聚合物的抗蚀剂组合物而实现,此聚合物包括含有内酯部分的环烯单体,此单体在插入在内酯部分与环烯的一环之间没有氧原子。优选的内酯部分是同环烯的一环直接结合的螺甾内酯(有一个5或6节的环)。
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公开(公告)号：CN1332205A
公开(公告)日：2002-01-23
申请号：CN01124927.7
申请日：2001-06-15
Applicant: JSR株式会社
IPC: C08L101/08 , C08K5/10
CPC classification number: G03F7/0046 , G03F7/0233 , G03F7/0395 , G03F7/0397 , Y10S430/106 , Y10S430/108 , Y10S430/111
Abstract: 公开了含有含酸不稳定基的树脂和光致酸产生剂的辐射敏感树脂组合物。该树脂具有通式(1)的结构,其中R1表示氢原子、一价酸不稳定基、不带有酸不稳定基的1－6碳烷基,或不带有酸不稳定基的2－7碳烷羰基,X1表示带有1－4个碳原子的直链的或支化氟化烷基,R2表示氢原子、带有1－10个碳原子的直链的或支化烷基,或带有1－10个碳原子的直链的或支化氟化烷基、该树脂组合物表现出高辐照穿透率、高敏感度、分辨率和图案形状,可用作高产率半导体制造中的化学增强型抗蚀剂。
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