公开(公告)号：CN102597048A

公开(公告)日：2012-07-18

申请号：CN201080050099.6

申请日：2010-08-31

Applicant: 国际商业机器公司

Inventor： 伊藤洋 ,  张桃华 ,  郑雅如 ,  金昊彻

IPC: C08G63/00

CPC classification number: G03F7/091 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/095

Abstract: 双层体系，其包括由聚二甲基戊二酰亚胺、对酸敏感的溶解抑制剂和光致产酸剂形成的底层。该双层体系能够以单曝光和显影过程进行曝光和显影。

公开(公告)号：CN102597048B

公开(公告)日：2014-03-26

申请号：CN201080050099.6

申请日：2010-08-31

Applicant: 国际商业机器公司

Inventor： 伊藤洋 ,  张桃华 ,  郑雅如 ,  金昊彻

IPC: C08G63/00

CPC classification number: G03F7/091 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/095

Abstract: 双层体系，其包括由聚二甲基戊二酰亚胺、对酸敏感的溶解抑制剂和光致产酸剂形成的底层。该双层体系能够以单曝光和显影过程进行曝光和显影。