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公开(公告)号：CN1501166A
公开(公告)日：2004-06-02
申请号：CN03125520.5
申请日：2003-08-29
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/004
CPC classification number: G03F7/0397 , Y10S430/122
Abstract: 一种辐射线敏感树脂组合物，包含：(A)含有至少两种式(1)－(6)的重复单元的树脂，总量5－70mol％，但每一种的量为1－49mol％，该树脂不溶于或几乎不溶于碱。但在酸的作用下易溶于碱。和(B)光酸发生剂。其中，R1表示氢原子或甲基，R2表示具有1－4个碳原子的取代或未取代烷基。该树脂组合物用作化学放大保护层，该保护层对辐射线具有高透射率，感光度，分辨率，抗干蚀刻性以及保护层图案。
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公开(公告)号：CN100374506C
公开(公告)日：2008-03-12
申请号：CN01124927.7
申请日：2001-06-15
Applicant: JSR株式会社
IPC: C08L101/08 , C08K5/10
CPC classification number: G03F7/0046 , G03F7/0233 , G03F7/0395 , G03F7/0397 , Y10S430/106 , Y10S430/108 , Y10S430/111
Abstract: 公开了含有含酸不稳定基的树脂和光致酸产生剂的辐射敏感树脂组合物。该树脂具有通式(1)的结构，其中R1表示氢原子、一价酸不稳定基、不带有酸不稳定基的1-6碳烷基，或不带有酸不稳定基的2-7碳烷羰基，X1表示带有1-4个碳原子的直链的或支化氟化烷基，R2表示氢原子、带有1-10个碳原子的直链的或支化烷基，或带有1-10个碳原子的直链的或支化氟化烷基。该树脂组合物表现出高辐照穿透率、高敏感度、分辨率和图案形状，可用作高产率半导体制造中的化学增强型抗蚀剂。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1249126C
公开(公告)日：2006-04-05
申请号：CN02809212.0
申请日：2002-04-30
Applicant: JSR株式会社
CPC classification number: G03F7/0397 , C08G77/08 , C08G77/24 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0757
Abstract: 一种甚至在193nm(特别是157nm)或更短波长下也表现出高透光度和极佳抗干蚀性的聚硅氧烷树脂，其包含通式(I)和/或通式(II)所示单元而且有酸解离基团：(I)(II)(其中R1为氟化或氟烷基化的一价芳基或氟化或氟烷基化的一价脂环基；R2为上述一价芳基、上述一价脂环基、氢、卤素、一价烃基、卤烷基、或氨基)。一种灵敏度和分辨率极佳的辐射敏感树脂组合物，包括(A)上述树脂和(B)光致产酸剂。
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公开(公告)号：CN101215421A
公开(公告)日：2008-07-09
申请号：CN200810002129.0
申请日：2001-06-15
IPC: C08L101/06 , C08K5/16 , G03F7/004 , C08F232/08 , C08F222/06 , C08F220/12 , C08G61/08
Abstract: 公开了含有含酸不稳定基的树脂和光致酸产生剂的辐射敏感树脂组合物。该树脂具有通式(1)的结构，其中R1表示氢原子、一价酸不稳定基、不带有酸不稳定基的1－6碳烷基，或不带有酸不稳定基的2－7碳烷羰基，X1表示带有1－4个碳原子的直链的或支化氟化烷基，R2表示氢原子、带有1－10个碳原子的直链的或支化烷基，或带有1－10个碳原子的直链的或支化氟化烷基。该树脂组合物表现出高辐照穿透率、高敏感度、分辨率和图案形状，可用作高产率半导体制造中的化学增强型抗蚀剂。
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公开(公告)号：CN1505651A
公开(公告)日：2004-06-16
申请号：CN02809212.0
申请日：2002-04-30
Applicant: JSR株式会社
CPC classification number: G03F7/0397 , C08G77/08 , C08G77/24 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0757
Abstract: 一种甚至在193nm(特别是157nm)或更短波长下也表现出高透光度和极佳抗干蚀性的聚硅氧烷树脂，其包含通式(I)和/或通式(II)所示单元而且有酸解离基团：(I)(II)(其中R1为氟化或氟烷基化的一价芳基或氟化或氟烷基化的一价脂环基；R2为上述一价芳基、上述一价脂环基、氢、卤素、一价烃基、卤烷基、或氨基)。一种灵敏度和分辨率极佳的辐射敏感树脂组合物，包括(A)上述树脂和(B)光致产酸剂。
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公开(公告)号：CN1288499C
公开(公告)日：2006-12-06
申请号：CN03125520.5
申请日：2003-08-29
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/004
CPC classification number: G03F7/0397 , Y10S430/122
Abstract: 一种辐射线敏感树脂组合物，包含：(A)含有至少两种式(1)-(6)的重复单元的树脂，总量5-70mol%，但每一种的量为1-49mol%，该树脂不溶于或几乎不溶于碱，但在酸的作用下易溶于碱，和(B)光酸发生剂。其中，R1表示氢原子或甲基R2表示具有1-4个碳原子的取代或未取代烷基。该树脂组合物用作化学放大保护层，该保护层对辐射线具有高透射率，感光度，分辨率，抗干蚀刻性以及保护层图案。
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公开(公告)号：CN1332205A
公开(公告)日：2002-01-23
申请号：CN01124927.7
申请日：2001-06-15
Applicant: JSR株式会社
IPC: C08L101/08 , C08K5/10
CPC classification number: G03F7/0046 , G03F7/0233 , G03F7/0395 , G03F7/0397 , Y10S430/106 , Y10S430/108 , Y10S430/111
Abstract: 公开了含有含酸不稳定基的树脂和光致酸产生剂的辐射敏感树脂组合物。该树脂具有通式(1)的结构,其中R1表示氢原子、一价酸不稳定基、不带有酸不稳定基的1－6碳烷基,或不带有酸不稳定基的2－7碳烷羰基,X1表示带有1－4个碳原子的直链的或支化氟化烷基,R2表示氢原子、带有1－10个碳原子的直链的或支化烷基,或带有1－10个碳原子的直链的或支化氟化烷基、该树脂组合物表现出高辐照穿透率、高敏感度、分辨率和图案形状,可用作高产率半导体制造中的化学增强型抗蚀剂。
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