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公开(公告)号：CN1267000A
公开(公告)日：2000-09-20
申请号：CN00101840.X
申请日：2000-02-02
Applicant: 国际商业机器公司
Inventor： P·R·瓦拉纳希 , J·F·马尼斯卡尔科 , M·C·劳森 , A·M·麦惠特 , M·M·克霍扎斯特 , G·M·乔德哈莫 , R·D·阿兰 , J·奥彼兹 , 伊藤洋
IPC: G03F7/027
Abstract: 采用环烯烃聚合物、光敏生酸剂与对193nm辐射基本透明的大量疏水性添加剂的混合物制备了酸催化的正性光刻胶组合物,其可借助193nm的辐射成像并且可显影以形成高分辨率和高耐刻蚀性的光刻结构。环烯烃聚合物含有i)带有能促进在碱性水溶液中溶解的酸性极性官能团的环烯烃单元和ii)带有能抑制在碱性水溶液中溶解的酸不稳定性基团的环烯烃单元。
