公开(公告)号：CN1262884C

公开(公告)日：2006-07-05

申请号：CN00101839.6

申请日：2000-02-02

Applicant: 国际商业机器公司

Inventor： P·R·瓦拉纳希 ,  J·F·马尼斯卡尔科

IPC: G03F7/028

Abstract: 采用环烯烃聚合物、光敏生酸剂与疏水性非甾族脂环组份的混合物制备了酸催化的正性光刻胶组合物，其可借助193nm的辐射成像并且可显影以形成高分辨率和高耐刻蚀性的光刻结构。环烯烃聚合物优选含有i)带有极性官能团的环烯烃单元，ii)带有能抑制在碱性水溶液中溶解的酸不稳定性基团的环烯烃单元。

公开(公告)号：CN1267000A

公开(公告)日：2000-09-20

申请号：CN00101840.X

申请日：2000-02-02

Applicant: 国际商业机器公司

Inventor： P·R·瓦拉纳希 ,  J·F·马尼斯卡尔科 ,  M·C·劳森 ,  A·M·麦惠特 ,  M·M·克霍扎斯特 ,  G·M·乔德哈莫 ,  R·D·阿兰 ,  J·奥彼兹 ,  伊藤洋

IPC: G03F7/027

Abstract: 采用环烯烃聚合物、光敏生酸剂与对193nm辐射基本透明的大量疏水性添加剂的混合物制备了酸催化的正性光刻胶组合物,其可借助193nm的辐射成像并且可显影以形成高分辨率和高耐刻蚀性的光刻结构。环烯烃聚合物含有i)带有能促进在碱性水溶液中溶解的酸性极性官能团的环烯烃单元和ii)带有能抑制在碱性水溶液中溶解的酸不稳定性基团的环烯烃单元。

公开(公告)号：CN1272637A

公开(公告)日：2000-11-08

申请号：CN00101839.6

申请日：2000-02-02

Applicant: 国际商业机器公司

Inventor： P·R·瓦拉纳希 ,  J·F·马尼斯卡尔科

IPC: G03F7/028

Abstract: 采用环烯烃聚合物、光敏生酸剂与疏水性非甾族脂环组份的混合物制备了酸催化的正性光刻胶组合物,其可借助193nm的辐射成像并且可显影以形成高分辨率和高耐刻蚀性的光刻结构。环烯烃聚合物优选含有i)带有极性官能团的环烯烃单元,ii)带有能抑制在碱性水溶液中溶解的酸不稳定性基团的环烯烃单元。

公开(公告)号：CN102365268B

公开(公告)日：2015-10-14

申请号：CN201080013928.3

申请日：2010-03-24

Applicant: 国际商业机器公司

Inventor： 黄武松 ,  I·波波瓦 ,  P·R·瓦拉纳希 ,  L·维克利基

IPC: C07C409/22 ,  G03C1/00

CPC classification number: C08F212/34 ,  C08F212/32 ,  C08F220/22 ,  C08F220/26 ,  C08F220/28 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/091

Abstract: 本发明提供一种物质的组合物。该物质的组合物包括一种聚合物，该聚合物具有烯属主链且包含具有芳族基团的第一单体、具有碱溶性基团或酸不稳定性保护的碱溶性基团的第二单体和具有氟烷基基团的第三单体。本发明还提供一种包括该物质的组合物的光致抗蚀剂制剂以及一种使用包括该物质的组合物的该光致抗蚀剂制剂的成像方法。

公开(公告)号：CN102365268A

公开(公告)日：2012-02-29

申请号：CN201080013928.3

申请日：2010-03-24

Applicant: 国际商业机器公司

Inventor： 黄武松 ,  I·波波瓦 ,  P·R·瓦拉纳希 ,  L·维克利基

IPC: C07C409/22 ,  G03C1/00

CPC classification number: C08F212/34 ,  C08F212/32 ,  C08F220/22 ,  C08F220/26 ,  C08F220/28 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/091

Abstract: 本发明提供一种物质的组合物。该物质的组合物包括一种聚合物，该聚合物具有烯属主链且包含具有芳族基团的第一单体、具有碱溶性基团或酸不稳定性保护的碱溶性基团的第二单体和具有氟烷基基团的第三单体。本发明还提供一种包括该物质的组合物的光致抗蚀剂制剂以及一种使用包括该物质的组合物的该光致抗蚀剂制剂的成像方法。