公开(公告)号：CN111602277A

公开(公告)日：2020-08-28

申请号：CN201980008474.1

申请日：2019-01-07

Applicant: 国际商业机器公司

Inventor： 金暲祐 ,  罗英惠 ,  金昊彻

IPC: H01M4/66

Abstract: 一种电池，包括：阳极；电解液，所述电解液包含：氧化气体；用作活性阴极材料的金属卤化物；以及包括腈化合物的溶剂；以及接触所述阴极材料的集电器。

公开(公告)号：CN104145217A

公开(公告)日：2014-11-12

申请号：CN201380011075.3

申请日：2013-02-12

Applicant: 国际商业机器公司

Inventor： J·D·巴斯 ,  L·K·森德伯格 ,  G·M·沃尔拉夫 ,  R·D·米勒 ,  金昊彻 ,  宋庆

IPC: G03F7/00 ,  G03F7/004

CPC classification number: G03F7/0042

Abstract: 公开了一种具有式(3)结构的组合物：[C']k[Ta(O2)x(L')y](3)，其中，x为1至4的整数，y为1至4的整数，Ta(O2)x(L')y具有0至-3的电荷，C'为具有+1至+3的电荷的反离子，k为0至3的整数，L'为具有0至-4的电荷的氧化稳定有机配体，并且L'包含选自由羧化物、醇化物、胺、氧化胺、膦、氧化膦、氧化胂及其组合构成的组的供电子官能团。该组合物具有作为高分辨率光刻胶的用途。

公开(公告)号：CN111602277B

公开(公告)日：2023-08-11

申请号：CN201980008474.1

申请日：2019-01-07

Applicant: 国际商业机器公司

Inventor： 金暲祐 ,  罗英惠 ,  金昊彻

IPC: H01M4/66

Abstract: 一种电池，包括：阳极；电解质，所述电解质包含：氧化气体；用作活性阴极材料的金属卤化物；以及包括腈化合物的溶剂；以及接触所述阴极材料的集电器。

公开(公告)号：CN100568450C

公开(公告)日：2009-12-09

申请号：CN200710184805.6

申请日：2007-10-29

Applicant: 国际商业机器公司

Inventor： 金昊彻 ,  查尔斯·T.·雷特纳

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/02 ,  H01L23/00

CPC classification number: C08L53/00 ,  C08L2666/02

Abstract: 本发明提供一种用于对准衬底上的嵌段共聚物的层状微畴的方法和结构。提供衬底。该衬底具有能量中性的波纹状表面层。在该波纹状表面层上形成膜。该膜包括双嵌段共聚物和增刚化合物的合成物。该双嵌段共聚物包括第一聚合物嵌段的层状微畴和第二聚合物嵌段的层状微畴。至少一个层状微畴被从薄膜中去除以在该表面层上保留取向结构。

公开(公告)号：CN110492044B

公开(公告)日：2022-07-15

申请号：CN201910386535.X

申请日：2019-05-10

Applicant: 国际商业机器公司 ,  韩国化学研究院

Inventor： Y·安萨瑞 ,  罗英惠 ,  金昊彻 ,  S·特斯彻勒 ,  姜英求 ,  金度烨 ,  金东旭 ,  石正敦

IPC: H01M50/443 ,  H01M50/431 ,  H01M50/446 ,  H01M50/449 ,  H01M10/0525 ,  H01M10/058

Abstract: 本申请涉及用于能量存储设备的分隔件。一种能量存储设备包括：阳极；阴极；与阳极和阴极两者接触的电解质；以及在阳极和阴极之间的非导电的分隔件。所述分隔件包括具有多个空隙的膜，其中所述空隙中的至少一些空隙部分地用无机颗粒填充，并且其中无机颗粒表现出比膜的剪切模量大的剪切模量。

公开(公告)号：CN110492044A

公开(公告)日：2019-11-22

申请号：CN201910386535.X

申请日：2019-05-10

Applicant: 国际商业机器公司 ,  韩国化学研究院

Inventor： Y·安萨瑞 ,  罗英惠 ,  金昊彻 ,  S·特斯彻勒 ,  姜英求 ,  金度烨 ,  金东旭 ,  石正敦

IPC: H01M2/16 ,  H01M10/0525 ,  H01M10/058

Abstract: 本申请涉及用于能量存储设备的分隔件。一种能量存储设备包括：阳极；阴极；与阳极和阴极两者接触的电解质；以及在阳极和阴极之间的非导电的分隔件。所述分隔件包括具有多个空隙的膜，其中所述空隙中的至少一些空隙部分地用无机颗粒填充，并且其中无机颗粒表现出比膜的剪切模量大的剪切模量。

公开(公告)号：CN102597048B

公开(公告)日：2014-03-26

申请号：CN201080050099.6

申请日：2010-08-31

Applicant: 国际商业机器公司

Inventor： 伊藤洋 ,  张桃华 ,  郑雅如 ,  金昊彻

IPC: C08G63/00

CPC classification number: G03F7/091 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/095

Abstract: 双层体系，其包括由聚二甲基戊二酰亚胺、对酸敏感的溶解抑制剂和光致产酸剂形成的底层。该双层体系能够以单曝光和显影过程进行曝光和显影。

公开(公告)号：CN102597048A

公开(公告)日：2012-07-18

申请号：CN201080050099.6

申请日：2010-08-31

Applicant: 国际商业机器公司

Inventor： 伊藤洋 ,  张桃华 ,  郑雅如 ,  金昊彻

IPC: C08G63/00

CPC classification number: G03F7/091 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/095

Abstract: 双层体系，其包括由聚二甲基戊二酰亚胺、对酸敏感的溶解抑制剂和光致产酸剂形成的底层。该双层体系能够以单曝光和显影过程进行曝光和显影。

公开(公告)号：CN101202213A

公开(公告)日：2008-06-18

申请号：CN200710184805.6

申请日：2007-10-29

Applicant: 国际商业机器公司

Inventor： 金昊彻 ,  查尔斯·T.·雷特纳

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/02 ,  H01L23/00

CPC classification number: C08L53/00 ,  C08L2666/02

Abstract: 本发明提供一种用于对准衬底上的嵌段共聚物的层状微畴的方法和结构。提供衬底。该衬底具有能量中性的波纹状表面层。在该波纹状表面层上形成膜。该膜包括双嵌段共聚物和增刚化合物的合成物。该双嵌段共聚物包括第一聚合物嵌段的层状微畴和第二聚合物嵌段的层状微畴。至少一个层状微畴被从薄膜中去除以在该表面层上保留取向结构。