公开(公告)号：CN1529834A

公开(公告)日：2004-09-15

申请号：CN02809987.7

申请日：2002-04-22

Applicant: 国际商业机器公司

Inventor： R·V·普什卡拉 ,  M·C·劳森 ,  W·李

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/32 ,  G03F7/38 ,  G03F7/40

CPC classification number: G03F7/0395 ,  G03F7/0392 ,  Y10S430/106

Abstract: 通过使用含有成像聚合物的光刻胶组合物得到的酸催化的正性光刻胶组合物，其可用193nm辐射和/或其它辐射成像并可显影形成具有改进的显影特性和改进的耐蚀刻性的光刻胶结构，该成像聚合物含有具有侧基的单体，该侧基含有多个酸不稳定部分。优选的包含多个酸不稳定部分的侧基的特征在于具有大体积端基。

公开(公告)号：CN101427181B

公开(公告)日：2012-03-21

申请号：CN200780014095.0

申请日：2007-04-18

Applicant: 国际商业机器公司

Inventor： 陈光荣 ,  M·霍伊贾斯坦 ,  邝惠玲 ,  M·C·劳森 ,  李文杰 ,  K·S·帕特尔 ,  P·R·瓦拉纳西

IPC: G03C1/00

CPC classification number: G03F7/091 ,  C08F220/28 ,  C08F222/40 ,  C08F232/08 ,  Y10S430/151

Abstract: 本发明公开了一种用于在衬底表面和正性光刻胶组合物之间施用的抗反射涂料组合物。该抗反射涂料组合物可在含水碱性显影液中显影。该抗反射涂料组合物包含聚合物，该聚合物包含至少一种含选自内酯、马来酰亚胺和N-烷基马来酰亚胺的一个或多个结构部分的单体单元和至少一种含一个或多个吸收性结构部分的单体单元。该聚合物不包含酸不稳定基团。本发明还公开了一种通过在光刻中使用本发明抗反射涂料组合物形成并转印浮雕图像的方法。

公开(公告)号：CN1267000A

公开(公告)日：2000-09-20

申请号：CN00101840.X

申请日：2000-02-02

Applicant: 国际商业机器公司

Inventor： P·R·瓦拉纳希 ,  J·F·马尼斯卡尔科 ,  M·C·劳森 ,  A·M·麦惠特 ,  M·M·克霍扎斯特 ,  G·M·乔德哈莫 ,  R·D·阿兰 ,  J·奥彼兹 ,  伊藤洋

IPC: G03F7/027

Abstract: 采用环烯烃聚合物、光敏生酸剂与对193nm辐射基本透明的大量疏水性添加剂的混合物制备了酸催化的正性光刻胶组合物,其可借助193nm的辐射成像并且可显影以形成高分辨率和高耐刻蚀性的光刻结构。环烯烃聚合物含有i)带有能促进在碱性水溶液中溶解的酸性极性官能团的环烯烃单元和ii)带有能抑制在碱性水溶液中溶解的酸不稳定性基团的环烯烃单元。

公开(公告)号：CN101427181A

公开(公告)日：2009-05-06

申请号：CN200780014095.0

申请日：2007-04-18

Applicant: 国际商业机器公司

Inventor： 陈光荣 ,  M·霍伊贾斯坦 ,  邝惠玲 ,  M·C·劳森 ,  李文杰 ,  K·S·帕特尔 ,  P·R·瓦拉纳西

IPC: G03C1/00

CPC classification number: G03F7/091 ,  C08F220/28 ,  C08F222/40 ,  C08F232/08 ,  Y10S430/151

Abstract: 本发明公开了一种用于在衬底表面和正性光刻胶组合物之间施用的抗反射涂料组合物。该抗反射涂料组合物可在含水碱性显影液中显影。该抗反射涂料组合物包含聚合物，该聚合物包含至少一种含选自内酯、马来酰亚胺和N－烷基马来酰亚胺的一个或多个结构部分的单体单元和至少一种含一个或多个吸收性结构部分的单体单元。该聚合物不包含酸不稳定基团。本发明还公开了一种通过在光刻中使用本发明抗反射涂料组合物形成并转印浮雕图像的方法。

公开(公告)号：CN1272668C

公开(公告)日：2006-08-30

申请号：CN02809987.7

申请日：2002-04-22

Applicant: 国际商业机器公司

Inventor： R·V·普什卡拉 ,  M·C·劳森 ,  W·李

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/32 ,  G03F7/38 ,  G03F7/40

CPC classification number: G03F7/0395 ,  G03F7/0392 ,  Y10S430/106

Abstract: 通过使用含有成像聚合物的光刻胶组合物得到的酸催化的正性光刻胶组合物，其可用193nm辐射和/或其它辐射成像并可显影形成具有改进的显影特性和改进的耐蚀刻性的光刻胶结构，该成像聚合物含有具有侧基的单体，该侧基含有多个酸不稳定部分。优选的包含多个酸不稳定部分的侧基的特征在于具有大体积端基。