多锚固件高频加速度计
    2.
    发明授权

    公开(公告)号:CN114026437B

    公开(公告)日:2024-12-31

    申请号:CN202080047393.5

    申请日:2020-06-26

    Abstract: 公开具有多个锚固件的单轴摆动式加速度计。多个锚固件可围绕摆动式检测质量块的旋转轴布置。多个锚固件中的每个可以通过均沿着旋转轴延伸的两个扭转弹簧耦合到检测质量块。多个锚固件允许耦合到检测质量块的扭转弹簧的数量增加,并因此可实现检测质量块的更大的扭转刚度。由于较高的扭转刚度,公开的单轴摆动式加速度计可部署在需要增加扭转刚度的高频环境中,例如约20kHz及以上。

    用于平面内加速度计的锚跟踪设备和相关方法

    公开(公告)号:CN109477856B

    公开(公告)日:2022-05-06

    申请号:CN201780044705.5

    申请日:2017-07-31

    Abstract: 描述微机电系统(MEMS)加速度计。MEMS加速度计可以包括检查质量块,其被配置为感测平行于检查质量块的平面的方向上的加速度,以及多个补偿结构。检验质量块可以通过弹簧连接到一个或多个锚。补偿结构可以通过与各个锚的刚性地连接耦合到MEMS加速度计的基板。补偿结构可包括形成一个或多个横向补偿电容器的至少一个补偿电极。补偿电容器可以被配置为感测补偿结构连接的锚的位移。

    用于平面内加速度计的锚跟踪设备和相关方法

    公开(公告)号:CN109477856A

    公开(公告)日:2019-03-15

    申请号:CN201780044705.5

    申请日:2017-07-31

    Abstract: 描述微机电系统(MEMS)加速度计。MEMS加速度计可以包括检查质量块,其被配置为感测平行于检查质量块的平面的方向上的加速度,以及多个补偿结构。检验质量块可以通过弹簧连接到一个或多个锚。补偿结构可以通过与各个锚的刚性地连接耦合到MEMS加速度计的基板。补偿结构可包括形成一个或多个横向补偿电容器的至少一个补偿电极。补偿电容器可以被配置为感测补偿结构连接的锚的位移。

    具有质量平移运动的加速度计
    7.
    发明公开

    公开(公告)号:CN116601500A

    公开(公告)日:2023-08-15

    申请号:CN202180085137.X

    申请日:2021-12-17

    Abstract: 提供了一种微机电系统(MEMS)加速度计,包括:设置在由第一轴和垂直于第一轴的第二轴限定的平面中的基板;第一检验质量块和第二检验质量块,耦合到所述基板并且被配置为沿着垂直于所述第一轴和所述第二轴的第三轴在彼此相反的方向上平移;以及至少一个杆,将所述第一检验质量块耦合到所述第二检验质量块,其中所述MEMS加速度计被配置为经由检测所述第一和第二检验质量块沿着所述第三轴的平移来检测沿着所述第一轴和所述第二轴的加速度;并且所述MEMS加速度计表现出围绕所述第一轴和所述第二轴的对称性。

    多锚固件高频加速度计
    8.
    发明公开

    公开(公告)号:CN114026437A

    公开(公告)日:2022-02-08

    申请号:CN202080047393.5

    申请日:2020-06-26

    Abstract: 公开具有多个锚固件的单轴摆动式加速度计。多个锚固件可围绕摆动式检测质量块的旋转轴布置。多个锚固件中的每个可以通过均沿着旋转轴延伸的两个扭转弹簧耦合到检测质量块。多个锚固件允许耦合到检测质量块的扭转弹簧的数量增加,并因此可实现检测质量块的更大的扭转刚度。由于较高的扭转刚度,公开的单轴摆动式加速度计可部署在需要增加扭转刚度的高频环境中,例如约20kHz及以上。

    微机电系统(MEMS)及相关封装
    9.
    发明公开

    公开(公告)号:CN118591880A

    公开(公告)日:2024-09-03

    申请号:CN202380017673.5

    申请日:2023-01-24

    Abstract: 描述了包括微机电系统(MEMS)器件和多个专用集成电路(ASIC)的紧凑封装。这些封装足够小,适用于空间要求特别严格的环境,例如消费电子产品。这些封装涉及垂直管芯堆叠。第一ASIC可以被定位在管芯堆叠的一侧上,而另一ASIC可以被安置在管芯堆叠的另一侧上。包括MEMS器件(例如,加速度计、陀螺仪、开关、谐振器、光学器件)的管芯定位在ASIC之间。可选地,用作MEMS器件的盖基板的中介层也定位在ASIC之间。在一个示例中,本文所述类型的封装在平面轴上具有2mm×2mm的延伸,并且高度小于500‑800μm。

Patent Agency Ranking