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公开(公告)号：CN100514565C
公开(公告)日：2009-07-15
申请号：CN200510084836.5
申请日：2005-07-18
IPC: H01L21/28
CPC classification number: H01L21/76898 , H01L2224/0231 , H01L2224/02372 , H01L2224/05548
Abstract: 一种半导体装置的制造方法，其具有贯通电极，能够使工序简化，将制造成本抑制得极低，同时，谋求有效利用率的提高。在半导体衬底(10)的表面形成第一绝缘膜(11)，蚀刻其一部分，形成露出半导体衬底(10)的一部分的开口部(11a)。其次，形成从开口部(11a)内延伸到第一绝缘膜(11)上的焊盘电极(12)。在半导体衬底(10)的背面上形成第二绝缘膜(15)。然后，形成具有比开口部(11a)大的口径的通路孔(16)。形成从通路孔(16)内延伸到第二绝缘膜(15)上的第三绝缘膜(17)，蚀刻通路孔(16)底部的第三绝缘膜(17)，露出焊盘电极(12)。然后，在通路孔(16)内形成贯通电极(19)及配线层(20)。最后，将半导体衬底(10)切断分离成多个半导体芯片(10A)。
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公开(公告)号：CN100397601C
公开(公告)日：2008-06-25
申请号：CN200410011782.5
申请日：2004-09-29
CPC classification number: H01L24/03 , H01L24/05 , H01L24/11 , H01L24/13 , H01L2224/03912 , H01L2224/0401 , H01L2224/05017 , H01L2224/05022 , H01L2224/05027 , H01L2224/05572 , H01L2224/05624 , H01L2224/05644 , H01L2224/05647 , H01L2224/1147 , H01L2224/11902 , H01L2224/13006 , H01L2224/13007 , H01L2224/13099 , H01L2224/13144 , H01L2924/0001 , H01L2924/00013 , H01L2924/0002 , H01L2924/01004 , H01L2924/01005 , H01L2924/01006 , H01L2924/01007 , H01L2924/01013 , H01L2924/01015 , H01L2924/01028 , H01L2924/01029 , H01L2924/01033 , H01L2924/0105 , H01L2924/01056 , H01L2924/01074 , H01L2924/01078 , H01L2924/01079 , H01L2924/3025 , H01L2924/00014 , H01L2224/05099 , H01L2224/13599 , H01L2224/05599 , H01L2224/29099 , H01L2224/29599 , H01L2224/05552
Abstract: 一种半导体装置的制造方法及半导体装置，该制造方法包括：形成钝化膜的工序，上述钝化膜覆盖形成有电极的半导体基板的形成该电极的一面并形成有使规定的该电极露出的开口；在上述钝化膜的开口附近，形成由金属构成的扩散防止接头的工序；向上述半导体基板的形成上述扩散防止接头的一面供给金属材料而形成由该金属构成的晶种层的工序；形成抗蚀剂膜的工序，上述抗蚀剂膜覆盖上述晶种层并形成有使上述扩散防止接头上方的上述晶种层的规定区域露出的开口；向上述抗蚀剂膜的开口内供给金属材料而形成由该金属构成的突起电极的工序；在形成该突起电极的工序后，去除上述抗蚀剂膜的工序；在形成上述突起电极的工序后，去除上述晶种层的工序。
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公开(公告)号：CN1638076A
公开(公告)日：2005-07-13
申请号：CN200410098022.2
申请日：2004-12-03
CPC classification number: H01L23/481 , H01L21/76843 , H01L21/76898 , H01L24/03 , H01L24/05 , H01L24/11 , H01L24/13 , H01L24/16 , H01L24/48 , H01L25/0657 , H01L25/50 , H01L2224/02372 , H01L2224/0401 , H01L2224/04042 , H01L2224/05548 , H01L2224/05554 , H01L2224/05569 , H01L2224/0557 , H01L2224/13025 , H01L2224/16145 , H01L2224/16146 , H01L2224/48247 , H01L2224/48463 , H01L2224/73257 , H01L2225/0651 , H01L2225/06513 , H01L2225/06517 , H01L2225/06541 , H01L2225/06582 , H01L2225/06586 , H01L2924/00014 , H01L2924/0002 , H01L2924/01029 , H01L2924/01046 , H01L2924/01078 , H01L2924/01079 , H01L2924/01322 , H01L2924/01327 , H01L2924/04941 , H01L2924/12042 , H01L2924/12044 , H01L2924/15311 , H01L2924/181 , H01L2224/45099 , H01L2224/05552 , H01L2924/00 , H01L2924/00012
Abstract: 一种半导体芯片的制造方法，包括：从具有表面及背面并在上述表面形成有功能元件的半导体基板的上述表面，形成向该半导体基板的厚度方向延伸的凹部的工序；向上述凹部的内壁面供给不活泼的第1金属材料而形成氧化防止膜的工序；在该形成氧化防止膜的工序后，向上述凹部内供给含有比上述第1金属材料易氧化的金属的第2金属材料的工序；电连接上述第2金属材料与上述功能元件的工序；在残留上述氧化防止膜的状态下，从其背面去除上述半导体基板，使之变得比上述凹部的深度薄，将上述凹部形成为贯通基板的贯通孔，将上述第2金属材料形成为电连接上述表面侧与上述背面侧的贯通电极，同时形成为从上述背面侧突出的背面侧突起电极的薄型化工序。
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公开(公告)号：CN100563005C
公开(公告)日：2009-11-25
申请号：CN200510059014.1
申请日：2005-03-24
CPC classification number: H01L25/0657 , H01L23/481 , H01L24/45 , H01L24/48 , H01L2224/0401 , H01L2224/05008 , H01L2224/05009 , H01L2224/05026 , H01L2224/05147 , H01L2224/1134 , H01L2224/13021 , H01L2224/13025 , H01L2224/13144 , H01L2224/16145 , H01L2224/45144 , H01L2224/48091 , H01L2224/48227 , H01L2224/73207 , H01L2225/0651 , H01L2225/06513 , H01L2225/06541 , H01L2225/06555 , H01L2225/06582 , H01L2924/00014 , H01L2924/01029 , H01L2924/01078 , H01L2924/01079 , H01L2924/01322 , H01L2924/04941 , H01L2924/12041 , H01L2924/15311 , H01L2924/181 , H01L2924/00 , H01L2924/00012 , H01L2224/45015 , H01L2924/207
Abstract: 一种半导体装置制造方法，包括：准备半导体芯片的工序，该半导体芯片具有表面和背面，并具有半导体基板、在该半导体基板的上述表面侧形成的功能元件、在厚度方向贯通上述半导体基板之贯通孔内配置的与上述功能元件电连接的贯通电极、与上述贯通电极电连接并且从上述表面突出的表面侧连接部件、与上述贯通电极电连接并且在上述背面上所形成的凹部分内具有接合面的背面侧连接部件；准备固体装置的工序，在该固体装置的一个表面上形成用于与上述表面侧连接部件连接的固体装置侧连接部件；接合工序，通过保持上述半导体芯片的背面而使上述半导体芯片的表面与上述固体装置的上述一个表面相面对，将上述表面侧连接部件与上述固体装置侧连接部件接合。
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公开(公告)号：CN100437951C
公开(公告)日：2008-11-26
申请号：CN200310116443.9
申请日：2003-11-21
CPC classification number: H01L24/13 , H01L24/11 , H01L2224/05001 , H01L2224/05022 , H01L2224/05023 , H01L2224/05027 , H01L2224/05184 , H01L2224/05568 , H01L2224/10126 , H01L2224/1147 , H01L2224/11474 , H01L2224/11901 , H01L2224/1308 , H01L2224/13082 , H01L2224/13109 , H01L2224/13111 , H01L2224/13144 , H01L2224/13147 , H01L2924/00013 , H01L2924/01004 , H01L2924/01005 , H01L2924/01006 , H01L2924/01013 , H01L2924/01015 , H01L2924/01022 , H01L2924/01024 , H01L2924/01029 , H01L2924/01033 , H01L2924/01039 , H01L2924/01047 , H01L2924/01049 , H01L2924/01052 , H01L2924/01074 , H01L2924/01078 , H01L2924/01079 , H01L2924/01082 , H01L2924/3025 , H01L2924/00014 , H01L2224/131 , H01L2224/13099 , H01L2224/29099 , H01L2224/05611 , H01L2224/05124 , H01L2224/05144 , H01L2224/05147 , H01L2224/05166
Abstract: 一种半导体装置的制造方法，包括：在半导体基板上形成由金属构成的、在给定位置上具有开口的阻挡掩模层的工艺；向上述阻挡掩模层的开口内供给金属材料并形成由该金属构成的凸出电极的金属材料供给工艺；在该金属材料供给工艺之后除去上述阻挡掩模层的工艺。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1738002A
公开(公告)日：2006-02-22
申请号：CN200510084836.5
申请日：2005-07-18
IPC: H01L21/28
CPC classification number: H01L21/76898 , H01L2224/0231 , H01L2224/02372 , H01L2224/05548
Abstract: 一种半导体装置的制造方法，其具有贯通电极，能够使工序简化，将制造成本抑制得极低，同时，谋求有效利用率的提高。在半导体衬底(10)的表面形成第一绝缘膜(11)，蚀刻其一部分，形成露出半导体衬底(10)的一部分的开口部(11a)。其次，形成从开口部(11a)内延伸到第一绝缘膜(11)上的焊盘电极(12)。在半导体衬底(10)的背面上形成第二绝缘膜(15)。然后，形成具有比开口部(11a)大的口径的通路孔(16)。形成从通路孔(16)内延伸到第二绝缘膜(15)上的第三绝缘膜(17)，蚀刻通路孔(16)底部的第三绝缘膜(17)，露出焊盘电极(12)。然后，在通路孔(16)内形成贯通电极(19)及配线层(20)。最后，将半导体衬底(10)切断分离成多个半导体芯片(10A)。
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公开(公告)号：CN1674282A
公开(公告)日：2005-09-28
申请号：CN200510059014.1
申请日：2005-03-24
CPC classification number: H01L25/0657 , H01L23/481 , H01L24/45 , H01L24/48 , H01L2224/0401 , H01L2224/05008 , H01L2224/05009 , H01L2224/05026 , H01L2224/05147 , H01L2224/1134 , H01L2224/13021 , H01L2224/13025 , H01L2224/13144 , H01L2224/16145 , H01L2224/45144 , H01L2224/48091 , H01L2224/48227 , H01L2224/73207 , H01L2225/0651 , H01L2225/06513 , H01L2225/06541 , H01L2225/06555 , H01L2225/06582 , H01L2924/00014 , H01L2924/01029 , H01L2924/01078 , H01L2924/01079 , H01L2924/01322 , H01L2924/04941 , H01L2924/12041 , H01L2924/15311 , H01L2924/181 , H01L2924/00 , H01L2924/00012 , H01L2224/45015 , H01L2924/207
Abstract: 一种半导体装置制造方法，包括：准备半导体芯片的工序，该半导体芯片具有表面和背面，并具有半导体基板、在该半导体基板的上述表面侧形成的功能元件、在厚度方向贯通上述半导体基板之贯通孔内配置的与上述功能元件电连接的贯通电极、与上述贯通电极电连接并且从上述表面突出的表面侧连接部件、与上述贯通电极电连接并且在上述背面上所形成的凹部分内具有接合面的背面侧连接部件；准备固体装置的工序，在该固体装置的一个表面上形成用于与上述表面侧连接部件连接的固体装置侧连接部件；接合工序，通过保持上述半导体芯片的背面而使上述半导体芯片的表面与上述固体装置的上述一个表面相面对，将上述表面侧连接部件与上述固体装置侧连接部件接合。
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公开(公告)号：CN1604293A
公开(公告)日：2005-04-06
申请号：CN200410011782.5
申请日：2004-09-29
CPC classification number: H01L24/03 , H01L24/05 , H01L24/11 , H01L24/13 , H01L2224/03912 , H01L2224/0401 , H01L2224/05017 , H01L2224/05022 , H01L2224/05027 , H01L2224/05572 , H01L2224/05624 , H01L2224/05644 , H01L2224/05647 , H01L2224/1147 , H01L2224/11902 , H01L2224/13006 , H01L2224/13007 , H01L2224/13099 , H01L2224/13144 , H01L2924/0001 , H01L2924/00013 , H01L2924/0002 , H01L2924/01004 , H01L2924/01005 , H01L2924/01006 , H01L2924/01007 , H01L2924/01013 , H01L2924/01015 , H01L2924/01028 , H01L2924/01029 , H01L2924/01033 , H01L2924/0105 , H01L2924/01056 , H01L2924/01074 , H01L2924/01078 , H01L2924/01079 , H01L2924/3025 , H01L2924/00014 , H01L2224/05099 , H01L2224/13599 , H01L2224/05599 , H01L2224/29099 , H01L2224/29599 , H01L2224/05552
Abstract: 一种半导体装置的制造方法及半导体装置，该制造方法包括：形成钝化膜的工序，上述钝化膜覆盖形成有电极的半导体基板的形成该电极的一面并形成有使规定的该电极露出的开口；在上述钝化膜的开口附近，形成由金属构成的扩散防止接头的工序；向上述半导体基板的形成上述扩散防止接头的一面供给金属材料而形成由该金属构成的晶种层的工序；形成抗蚀剂膜的工序，上述抗蚀剂膜覆盖上述晶种层并形成有使上述扩散防止接头上方的上述晶种层的规定区域露出的开口；向上述抗蚀剂膜的开口内供给金属材料而形成由该金属构成的突起电极的工序；在形成该突起电极的工序后，去除上述抗蚀剂膜的工序；在形成上述突起电极的工序后，去除上述晶种层的工序。
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公开(公告)号：CN100440467C
公开(公告)日：2008-12-03
申请号：CN200410098022.2
申请日：2004-12-03
CPC classification number: H01L23/481 , H01L21/76843 , H01L21/76898 , H01L24/03 , H01L24/05 , H01L24/11 , H01L24/13 , H01L24/16 , H01L24/48 , H01L25/0657 , H01L25/50 , H01L2224/02372 , H01L2224/0401 , H01L2224/04042 , H01L2224/05548 , H01L2224/05554 , H01L2224/05569 , H01L2224/0557 , H01L2224/13025 , H01L2224/16145 , H01L2224/16146 , H01L2224/48247 , H01L2224/48463 , H01L2224/73257 , H01L2225/0651 , H01L2225/06513 , H01L2225/06517 , H01L2225/06541 , H01L2225/06582 , H01L2225/06586 , H01L2924/00014 , H01L2924/0002 , H01L2924/01029 , H01L2924/01046 , H01L2924/01078 , H01L2924/01079 , H01L2924/01322 , H01L2924/01327 , H01L2924/04941 , H01L2924/12042 , H01L2924/12044 , H01L2924/15311 , H01L2924/181 , H01L2224/45099 , H01L2224/05552 , H01L2924/00 , H01L2924/00012
Abstract: 一种半导体芯片的制造方法，包括：从具有表面及背面并在上述表面形成有功能元件的半导体基板的上述表面，形成向该半导体基板的厚度方向延伸的凹部的工序；向上述凹部的内壁面供给不活泼的第1金属材料而形成氧化防止膜的工序；在该形成氧化防止膜的工序后，向上述凹部内供给含有比上述第1金属材料易氧化的金属的第2金属材料的工序；电连接上述第2金属材料与上述功能元件的工序；在残留上述氧化防止膜的状态下，从其背面去除上述半导体基板，使之变得比上述凹部的深度薄，将上述凹部形成为贯通基板的贯通孔，将上述第2金属材料形成为电连接上述表面侧与上述背面侧的贯通电极，同时形成为从上述背面侧突出的背面侧突起电极的薄型化工序。
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公开(公告)号：CN1538511A
公开(公告)日：2004-10-20
申请号：CN200410034639.8
申请日：2004-04-19
CPC classification number: H01L21/563 , H01L24/29 , H01L2224/05568 , H01L2224/05573 , H01L2224/05647 , H01L2224/16225 , H01L2224/73203 , H01L2224/73204 , H01L2224/83192 , H01L2924/01004 , H01L2924/01005 , H01L2924/01006 , H01L2924/01029 , H01L2924/01033 , H01L2924/01079 , H01L2924/01082 , H01L2924/10253 , H01L2924/3511 , H01L2924/00 , H01L2924/00014
Abstract: 一种半导体装置的制造方法，可实现高可靠性的半导体芯片的电极和衬底的电连接。在衬底2上未形成第一电极3的区域涂敷密封树脂4。准备端部形成有第二电极7的半导体芯片6，使该半导体芯片6的表面与衬底2的表面相对配置，自其背面使第一可动板8a向下动，按压半导体芯片6的端部，从而将第二电极7与第一电极3压接。然后，自其背面使第二可动板8b向下动，按压半导体芯片6的中央部，将密封树脂4填充在衬底2和半导体芯片6之间的空间中。
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