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公开(公告)号：CN118280879A
公开(公告)日：2024-07-02
申请号：CN202311819500.3
申请日：2023-12-27
Applicant: 细美事有限公司
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明构思提供了一种基板处理设备，其比传统的基板处理设备更快到底冷却具有加热器的支撑板。所述基板处理设备包括：壳体，在其中提供处理空间；以及支撑单元，其配置成在所述处理空间处支撑基板。所述支撑单元包括：加热器构件，其设置在所述支撑板处以加热所述基板；以及冷却单元，其配置成冷却所述加热器构件。所述冷却单元包括：第一气体供应喷嘴，其位于所述加热器构件的边缘下方，用于在所述加热器构件的底表面的中心方向上供应冷却气体；以及第二气体供应喷嘴，其位于所述加热器构件的中心下方，用于在所述加热器构件的所述底表面的边缘方向上供应所述冷却气体。
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公开(公告)号：CN114171429A
公开(公告)日：2022-03-11
申请号：CN202111051488.7
申请日：2021-09-08
Applicant: 细美事有限公司
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明构思提供了一种烘烤单元以及用于处理基板的装置。烘烤单元包括：壳体，该壳体具有上盖和下框架，该上盖和该下框架组合提供用于基板的热处理的处理空间；加热器，该加热器设置在处理空间中、以用于加热放置在该加热器上的基板；加热器杯状物，该加热器杯状物配置为围绕该加热器；以及第一吹扫气体供应单元，该第一吹扫气体供应单元用于提供第一吹扫气体流以阻止外部空气通过下框架与加热器杯状物之间的间隙流入。
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公开(公告)号：CN115763298A
公开(公告)日：2023-03-07
申请号：CN202211037140.7
申请日：2022-08-26
Applicant: 细美事有限公司
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明提供了一种热处理单元和基板加工装置，该热处理单元包括：设置有基板加工装置的腔室，该基板加工装置包括：工艺腔室，在该工艺腔室中，上腔室和下腔室相互接触、以形成由该上腔室和该下腔室限定的处理空间；定位在处理空间中以加热基板的加热板；升降销，该升降销用于将基板放置在该加热板上、或者用于移动放置在该加热板上的基板以与该加热板间隔开；驱动构件，该驱动构件连接至该上腔室或该下腔室、以竖直地驱动该上腔室或该下腔室；排放构件，该排放构件连接到该上腔室的中心区域、以对处理空间进行排放；以及气流阻挡构件，该气流阻挡构件设置在该加热板的上表面、且形成为围绕该基板的边缘，以便阻挡周围的气流接近基板的边缘。
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公开(公告)号：CN119008453A
公开(公告)日：2024-11-22
申请号：CN202410611229.2
申请日：2024-05-16
Applicant: 细美事有限公司
Abstract: 本申请公开了一种用于处理基板的装置和方法，更具体地公开了一种用于对基板进行热处理的装置和方法。该装置包括：加热单元，该加热单元设置在内部空间中并且设置有在其中执行基板的加热工艺的处理空间；传送板，该传送板定位在内部空间内，并且在内部位置与外部位置之间是移动性的，所述内部位置用于将基板装载到处理空间中或用于从处理空间中卸载基板，所述外部位置设置在加热单元的外侧；以及气体注入单元，该气体注入单元定位在内部空间内，并且用于在外部位置处向基板注入大气气体。
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公开(公告)号：CN118244592A
公开(公告)日：2024-06-25
申请号：CN202311591264.4
申请日：2023-11-27
Applicant: 细美事有限公司
IPC: G03F7/38 , H01L21/027
Abstract: 公开了基板处理装置和方法，其中在诸如烘烤工艺的热处理工艺中，可以基于施加在基板上的用于极紫外光(EUV)的光刻胶来精确地控制周围的湿度环境。基板处理装置包括：壳体，具有限定在其中的处理空间；支承单元，用于在其上支承容纳在处理空间中的基板；以及气体供应单元，配置成响应于施加到基板上的用于极紫外光(EUV)的光刻胶(PR)而交替地将第一气体和第二气体供应到处理空间中。
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Patent Agency Ranking
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公开(公告)号：CN119673810A
公开(公告)日：2025-03-21
申请号：CN202411309841.0
申请日：2024-09-19
Applicant: 细美事有限公司
IPC: H01L21/67
Abstract: 本申请公开了一种基板处理装置及基板处理方法。基板处理装置包括：提供内部空间的壳体；设置在内部空间中并提供在其中进行基板的加热工艺的处理空间的加热单元；设置在内部空间中并用于在处理空间中装载或卸载基板的传送板；用于向处理空间供应气体的气体供应单元；以及用于控制气体供应单元的控制器，其中，气体供应单元包括：供应含湿气的加湿气体的加湿气体供应管线，其安装有第一阀；向处理空间供应干燥气体的干燥气体供应管线，其安装有第二阀；与加湿气体供应管线和干燥气体供应管线相连的主供应管线；以及安装在主供应管线中的第一加热器，该主供应管线具有安装第一加热器的第一区域以及位于第一区域的下游并且没有安装第一加热器的第二区域，并且控制器控制气体供应单元以执行控制第一加热器以加热第一区域并打开第二阀以用干燥气体加热第二区域的加热操作以及在加热操作之后打开第一阀并通过将加湿气体供应到处理空间来处理基板的基板处理操作。
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公开(公告)号：CN119493346A
公开(公告)日：2025-02-21
申请号：CN202411129142.8
申请日：2024-08-16
Applicant: 细美事有限公司
IPC: G03F7/40 , H01L21/027 , H01L21/67
Abstract: 本申请公开了一种基板处理方法，包括基板装载操作，其将基板装载到由本体提供的处理空间中；加热操作，其将已装载到处理空间中的基板放置到加热盘上并加热基板；以及气氛改变操作，其改变处理空间的气氛，其中气氛改变操作包括：气体排放操作，其在基板位于比加热操作更靠近挡板的状态下注入气氛改变气体，其中，挡板被配置在加热盘的顶侧，以面向加热盘并注入气氛改变气体；以及基板下降操作，其在将基板下降并放置在加热盘上的同时维持气氛改变气体的注入。
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公开(公告)号：CN117238789A
公开(公告)日：2023-12-15
申请号：CN202310013326.7
申请日：2023-01-05
Applicant: 细美事有限公司
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明公开了一种用于处理衬底的设备和衬底烘烤设备的冷却模块。衬底处理设备包括：热板，用于加热衬底；以及冷却单元，用于冷却热板；其中，冷却单元包括支撑板，具有形成在支撑板与热板之间的空间，以及多个喷嘴，安装在支撑板上用于向热板的底表面供应冷却气体，其中在支撑板中提供呈贯通结构设置的室外空气入口通道，其中室外空气入口通道的一部分形成缆线穿过的第一区域，并且其余部分形成缆线没有穿过且引入室外空气的第二区域。
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公开(公告)号：CN114530396A
公开(公告)日：2022-05-24
申请号：CN202111392170.5
申请日：2021-11-23
Applicant: 细美事有限公司
IPC: H01L21/67 , H01L21/687
Abstract: 本发明构思的实施方式提供了一种用于处理基板的装置。该装置包括：处理容器，其具有内部空间；支撑单元，其配置为在内部空间中支撑和旋转基板；液体供应单元，其配置为向由支撑单元支撑的基板供应处理液；以及排气单元，其配置为从内部空间排出气流，其中排气单元包括具有入口的气流引导管，所述入口设置为在与支撑在支撑单元上的基板的旋转方向的切线方向上将气流引入气流引导管。
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