公开(公告)号：CN119890076A

公开(公告)日：2025-04-25

申请号：CN202411502934.5

申请日：2024-10-25

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 金袗圭 ,  朴炯洙 ,  宣救援

IPC: H01L21/67

Abstract: 公开用于处理基板的装置及方法。装置包括：旋转卡盘；喷嘴单元；和控制喷嘴单元的控制器，该喷嘴单元包括：头部；设在头部上并排放清洁溶液的清洁喷嘴；设在头部上并排放干燥气体的干燥喷嘴；以及将头部从第一位置移动到第二位置的驱动器；在头部处于第二位置时，从多个清洁喷嘴排放到基板的清洁溶液的撞击点位于、比当头部处于第一位置时清洁溶液的撞击点距基板的中心更远的位置处；从多个清洁喷嘴同时排放清洁溶液，清洁溶液的撞击点位于距基板的中心不同的距离处；当从多个干燥喷嘴同时排放干燥气体时，干燥气体的撞击点位于距基板的中心不同的距离处；当同时排放清洁溶液和干燥气体时，清洁溶液的撞击点比干燥气体的撞击点距基板的中心更远。

公开(公告)号：CN119673810A

公开(公告)日：2025-03-21

申请号：CN202411309841.0

申请日：2024-09-19

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 刘宰承 ,  严成勋 ,  安熙满 ,  宋京院 ,  宣救援 ,  安率

IPC: H01L21/67

Abstract: 本申请公开了一种基板处理装置及基板处理方法。基板处理装置包括：提供内部空间的壳体；设置在内部空间中并提供在其中进行基板的加热工艺的处理空间的加热单元；设置在内部空间中并用于在处理空间中装载或卸载基板的传送板；用于向处理空间供应气体的气体供应单元；以及用于控制气体供应单元的控制器，其中，气体供应单元包括：供应含湿气的加湿气体的加湿气体供应管线，其安装有第一阀；向处理空间供应干燥气体的干燥气体供应管线，其安装有第二阀；与加湿气体供应管线和干燥气体供应管线相连的主供应管线；以及安装在主供应管线中的第一加热器，该主供应管线具有安装第一加热器的第一区域以及位于第一区域的下游并且没有安装第一加热器的第二区域，并且控制器控制气体供应单元以执行控制第一加热器以加热第一区域并打开第二阀以用干燥气体加热第二区域的加热操作以及在加热操作之后打开第一阀并通过将加湿气体供应到处理空间来处理基板的基板处理操作。

公开(公告)号：CN119493346A

公开(公告)日：2025-02-21

申请号：CN202411129142.8

申请日：2024-08-16

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 宋京院 ,  安熙满 ,  严成勋 ,  刘宰承 ,  宣救援

IPC: G03F7/40 ,  H01L21/027 ,  H01L21/67

Abstract: 本申请公开了一种基板处理方法，包括基板装载操作，其将基板装载到由本体提供的处理空间中；加热操作，其将已装载到处理空间中的基板放置到加热盘上并加热基板；以及气氛改变操作，其改变处理空间的气氛，其中气氛改变操作包括：气体排放操作，其在基板位于比加热操作更靠近挡板的状态下注入气氛改变气体，其中，挡板被配置在加热盘的顶侧，以面向加热盘并注入气氛改变气体；以及基板下降操作，其在将基板下降并放置在加热盘上的同时维持气氛改变气体的注入。