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公开(公告)号：CN114334714A
公开(公告)日：2022-04-12
申请号：CN202111150835.1
申请日：2021-09-29
Applicant: 细美事有限公司
IPC: H01L21/67 , H01L21/687
Abstract: 本发明构思提供了一种基板处理装置。所述基板处理装置包括：处理容器，所述处理容器包括外杯和放置在所述外杯内侧的内杯，所述内杯和所述外杯组合限定用于回收液体的回收路径；放置在所述处理容器内的可旋转旋转头，在所述旋转头上放置清洗夹具；其中所述处理容器包括从所述外杯的内表面突出的第一突出部，以将从所述清洗夹具散落的清洗液引向所述内杯的表面。
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公开(公告)号：CN118116832A
公开(公告)日：2024-05-31
申请号：CN202311121163.0
申请日：2023-09-01
Applicant: 细美事有限公司
Inventor： 张镐镇
IPC: H01L21/67 , H01L21/3065 , G03F7/16
Abstract: 本发明旨在提供能够防止由于处理液的烟雾(Fume)而管道堵塞的现象的基板处理装置、其工作方法以及光学涂布设备。根据本发明的基板处理装置向基板供应处理液来执行工艺处理，所述基板处理装置包括：基板支承单元，支承所述基板；液供应单元，向所述基板供应液体；以及液回收单元，从所述基板回收所述液体。所述液回收单元包括：回收杯，形成为围绕所述基板支承单元的周边；以及空气喷射单元，向所述回收杯的内部空间喷射空气。
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公开(公告)号：CN118276419A
公开(公告)日：2024-07-02
申请号：CN202310789010.7
申请日：2023-06-29
Applicant: 细美事有限公司
Inventor： 张镐镇
IPC: G03F7/30 , H01L21/67 , H01L21/027 , G03F7/16 , G03F7/20
Abstract: 本发明构思提供了一种基板处理方法，在该基板处理方法中，在搅炼工序期间，在基板的前表面之中不产生未进行显影的部分。该基板处理方法包括：将基板定位在处理空间中；通过向旋转的基板供应处理液，在基板上形成处理液的液膜；和搅炼，该搅炼包括停止处理液的供应并使基板上的薄膜与基板上的液膜反应，并且其中在搅炼期间在处理空间中提供的排出压力低于在液膜的形成期间在处理空间中提供的排出压力。
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公开(公告)号：CN115598938A
公开(公告)日：2023-01-13
申请号：CN202210806773.3
申请日：2022-07-08
Applicant: 细美事有限公司(KR)
IPC: G03F7/30 , H01L21/67 , H01L21/687
Abstract: 本发明涉及用于处理基板的装置和用于处理基板的方法。用于处理基板的装置包括：第一工艺腔室，在该第一工艺腔室中具有第一处理空间；第二工艺腔室，在该第二工艺腔室中具有第二处理空间；以及排放单元，该排放单元被配置为将该第一处理空间和该第二处理空间的气氛排放，其中，该排放单元包括：集成式排放管线，减压单元安装在该集成式排放管线中；第一排放管线，该第一排放管线被配置为连接该第一工艺腔室和该集成式排放管线的第一点；第二排放管线，该第二排放管线被配置为连接该第一工艺腔室和该集成式排放管线的第二点；以及干扰减轻单元，该干扰减轻单元被配置为减轻该第一工艺腔室与该第二工艺腔室之间的排放干扰。
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公开(公告)号：CN119153357A
公开(公告)日：2024-12-17
申请号：CN202410778315.2
申请日：2024-06-17
Applicant: 细美事有限公司
Abstract: 公开了一种用于处理基板的设备，所述设备包括：外杯，具有顶部开放的处理空间；支撑单元，用于在所述处理空间中支撑基板；引导杯，设置在所述处理空间中并布置成围绕所述支撑单元；液体供应单元，用于向由所述支撑单元支撑的所述基板的顶表面供应处理液体；以及捕集环，设置在所述引导杯和所述外杯之间的间隙中，以捕获流过所述间隙的所述处理液体，其中所述捕集环形成有排气孔，流过所述间隙的气体从所述排气孔通过，并且所述捕集环在其顶表面上具有用于捕获所述处理液体的捕获空间。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN118197949A
公开(公告)日：2024-06-14
申请号：CN202310694471.6
申请日：2023-06-12
Applicant: 细美事有限公司
Inventor： 张镐镇
IPC: H01L21/67 , H01L21/687
Abstract: 本发明构思提供了一种在处理空间进行的基板处理方法。基板处理方法包括：通过向基板供应第一液体来用第一液体涂覆基板；和通过供应第二液体来清洁基板，以去除残留在基板的特定区域上的一部分第一液体，第二液体不同于第一液体，并且其中在执行涂覆基板和清洁基板的同时，排出处理空间的气氛，并且在涂覆基板期间处理空间的排出压力与在清洁基板期间处理空间的排出压力不同。
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公开(公告)号：CN114171429A
公开(公告)日：2022-03-11
申请号：CN202111051488.7
申请日：2021-09-08
Applicant: 细美事有限公司
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明构思提供了一种烘烤单元以及用于处理基板的装置。烘烤单元包括：壳体，该壳体具有上盖和下框架，该上盖和该下框架组合提供用于基板的热处理的处理空间；加热器，该加热器设置在处理空间中、以用于加热放置在该加热器上的基板；加热器杯状物，该加热器杯状物配置为围绕该加热器；以及第一吹扫气体供应单元，该第一吹扫气体供应单元用于提供第一吹扫气体流以阻止外部空气通过下框架与加热器杯状物之间的间隙流入。
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公开(公告)号：CN117410200A
公开(公告)日：2024-01-16
申请号：CN202310535261.2
申请日：2023-05-12
Applicant: 细美事有限公司
Abstract: 本申请涉及用于处理衬底的装置。用于处理衬底的装置包括：处理容器，设置在处理室中并且包括处理空间，衬底容纳在处理空间中；液体提供管线，配置成通过将处理液提供到处理空间中的衬底来处理衬底；排放管线，连接到处理容器并且配置成排放处理空间中的气体；喷射部分，设置在排放管线上并且配置成喷射清洁液以去除积聚在排放管线中的污染物；以及清洗液排出管线，从排放管线分支并且在其中包括抽吸部分，以抽吸包括通过清洁液从排放管线去除的污染物的清洁液废物并且将清洁液废物排出到外部。
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公开(公告)号：CN116889746A
公开(公告)日：2023-10-17
申请号：CN202310043502.1
申请日：2023-01-29
Applicant: 细美事有限公司
IPC: B01D19/00
Abstract: 本发明涉及一种液体捕集罐和用于捕集液体的方法，所述液体捕集罐可以包括：罐体，配置为具有形成在所述罐体中的能够容纳液体的容纳空间，具有形成在所述罐体的一部分中的流入单元并且具有形成在所述罐体的另一部分中的排出单元；第一容纳部分，形成在所述罐体内部并且配置为初次且暂时地容纳所述液体使得气泡从通过所述流入单元引入的所述液体中被分离；以及第二容纳部分，形成在所述罐体内部并且配置为第二次且暂时地容纳从所述第一容纳部分移动的所述液体或者通过所述排出单元将移动的所述液体排出到外部。
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公开(公告)号：CN115513091A
公开(公告)日：2022-12-23
申请号：CN202210641356.8
申请日：2022-06-07
Applicant: 细美事有限公司
Inventor： 张镐镇
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置。该基板处理装置包括：第一工艺腔室，在该第一工艺腔室中具有第一处理空间；第二工艺腔室，在该第二工艺腔室中具有第二处理空间；和排出单元，该排出单元用于排出第一处理空间和第二处理空间的气氛，其中排出单元包括：集成排出管线；第一排出管线，该第一排出管线连接第一工艺腔室和集成排出管线；第二排出管线，该第二排出管线连接第二工艺腔室和集成排出管线；以及分隔壁，该分隔壁将集成排出管线内的流动路径的部分部段分隔为第一流动路径和第二流动路径，通过第一排出管线排出的流体流过第一流动路径，通过第二排出管线排放的流体流过第二流动路径。
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