公开(公告)号：CN118280879A

公开(公告)日：2024-07-02

申请号：CN202311819500.3

申请日：2023-12-27

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 安熙满 ,  宋京院 ,  赵旼熙 ,  李周美 ,  金炳辉 ,  朴天雨

IPC: H01L21/67

Abstract: 本发明构思提供了一种基板处理设备，其比传统的基板处理设备更快到底冷却具有加热器的支撑板。所述基板处理设备包括：壳体，在其中提供处理空间；以及支撑单元，其配置成在所述处理空间处支撑基板。所述支撑单元包括：加热器构件，其设置在所述支撑板处以加热所述基板；以及冷却单元，其配置成冷却所述加热器构件。所述冷却单元包括：第一气体供应喷嘴，其位于所述加热器构件的边缘下方，用于在所述加热器构件的底表面的中心方向上供应冷却气体；以及第二气体供应喷嘴，其位于所述加热器构件的中心下方，用于在所述加热器构件的所述底表面的边缘方向上供应所述冷却气体。

公开(公告)号：CN116365325A

公开(公告)日：2023-06-30

申请号：CN202211699135.2

申请日：2022-12-28

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 赵旼熙 ,  宋峻浩

IPC: H01R43/048 ,  H01L21/67 ,  H05B3/20 ,  H05B3/54

Abstract: 本发明涉及一种用于加热板的电源端子的结合设备，所述结合设备用于结合向基板的电热丝供电的电源端子。所述用于加热板的电源端子的结合设备包括：腔室；平台，所述平台设置在所述腔室的内部空间中，并且所述基板放置在所述平台上；上压制部分，所述上压制部分设置在所述腔室的所述内部空间中以朝向所述平台，被设置为可垂直移动，并且具有被配置为固定所述电源端子的端子固定部分；以及升降驱动器，所述升降驱动器被配置为上下移动所述上压制部分，其中所述端子固定部分还包括被配置为通过磁力保持所述电源端子的磁性保持器。

公开(公告)号：CN116364530A

公开(公告)日：2023-06-30

申请号：CN202211621042.8

申请日：2022-12-05

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 赵旼熙 ,  李炅珉 ,  姜元荣 ,  金康卨 ,  金兑根

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/67

Abstract: 本发明涉及基板处理装置和基板处理方法。本发明的示例性实施方案提供了一种基板处理方法，该基板处理方法包括通过连续地执行如下工艺去除在基板上形成的颗粒：将包括聚合物和溶剂的处理液供应到该基板上；通过使该处理液中的溶剂挥发，形成固化的液膜；通过将剥离液供应到该基板上，从该基板去除该固化的液膜；以及将冲洗液供应到该基板上。

公开(公告)号：CN108962785B

公开(公告)日：2022-07-05

申请号：CN201810472674.X

申请日：2018-05-17

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 金兑根 ,  刘在赫 ,  赵旼熙 ,  吴世勋 ,  吴海琳 ,  郑址洙

IPC: H01L21/67 ,  C11D17/06

Abstract: 公开了用于制造清洗液的设备和方法。所述方法包括在第一温度下将表面活性剂化学品和纯水混合，以及在第一温度下将表面活性剂化学品和纯水混合之后，将表面活性剂化学品和纯水混合的同时将表面活性剂化学品和纯水冷却到低于第一温度的第二温度。

公开(公告)号：CN108962785A

公开(公告)日：2018-12-07

申请号：CN201810472674.X

申请日：2018-05-17

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 金兑根 ,  刘在赫 ,  赵旼熙 ,  吴世勋 ,  吴海琳 ,  郑址洙

IPC: H01L21/67 ,  C11D17/06

CPC classification number: G02F1/133305 ,  B08B1/001 ,  B08B3/08 ,  C11D1/00 ,  C11D11/0094 ,  C11D17/041 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/67248 ,  C11D17/06

Abstract: 公开了用于制造清洗液的设备和方法。所述方法包括在第一温度下将表面活性剂化学品和纯水混合，以及在第一温度下将表面活性剂化学品和纯水混合之后，将表面活性剂化学品和纯水混合的同时将表面活性剂化学品和纯水冷却到低于第一温度的第二温度。

公开(公告)号：CN117238789A

公开(公告)日：2023-12-15

申请号：CN202310013326.7

申请日：2023-01-05

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 李周美 ,  宋京院 ,  赵旼熙 ,  金炳辉 ,  朴天雨 ,  安熙满

IPC: H01L21/67

Abstract: 本发明公开了一种用于处理衬底的设备和衬底烘烤设备的冷却模块。衬底处理设备包括：热板，用于加热衬底；以及冷却单元，用于冷却热板；其中，冷却单元包括支撑板，具有形成在支撑板与热板之间的空间，以及多个喷嘴，安装在支撑板上用于向热板的底表面供应冷却气体，其中在支撑板中提供呈贯通结构设置的室外空气入口通道，其中室外空气入口通道的一部分形成缆线穿过的第一区域，并且其余部分形成缆线没有穿过且引入室外空气的第二区域。

公开(公告)号：CN117096053A

公开(公告)日：2023-11-21

申请号：CN202210520384.4

申请日：2022-05-12

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 金兑根 ,  李炅珉 ,  赵旼熙 ,  姜元荣

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/687

Abstract: 本发明构思提供一种基板处理装置。该基板处理装置包括将包含聚合物和溶剂的处理液排放到基板上；和通过从基板上的处理液中挥发溶剂来将处理液的液膜固化，其中固化液膜包括停止旋转基板或以第一速度旋转基板持续第一时间段的第一时段。

公开(公告)号：CN116417374A

公开(公告)日：2023-07-11

申请号：CN202211537807.X

申请日：2022-12-01

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 宋峻浩 ,  赵旼熙 ,  姜元荣

IPC: H01L21/67

Abstract: 提供了一种用于处理基板的装置，该装置包括：腔室，其具有处理空间；支撑单元，其用于在处理空间中支撑和旋转基板；喷嘴，其用于向由支撑单元支撑的基板供应高温处理液；和液体供应单元，其用于向喷嘴供应高温处理液，其中该液体供应单元包括：储罐，其用于储存处理液；主循环管线，其用于从储罐的内部空间向喷嘴供应处理液或将处理液回收至储罐的内部空间；和连接管线，其连接至主循环管线以向喷嘴供应处理液，并且在主循环管线中安装用于将处理液加热至预定温度的加热器模块，并且该加热器模块包括：供处理液在其中流动的管，并且管由石英材料制成；和加热元件，其设置在管的表面上。

公开(公告)号：CN116206972A

公开(公告)日：2023-06-02

申请号：CN202210944623.9

申请日：2022-08-08

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 李炅珉 ,  金兑根 ,  金康卨 ,  赵旼熙 ,  姜元荣

IPC: H01L21/311 ,  H01L21/67

Abstract: 本发明提供了将用于剥离基板上的涂膜的剥离液同时提供到基板的整个表面以处理基板的基板处理装置及方法。所述基板处理方法包括以下步骤：利用第一喷嘴向基板上喷出第一液体，并且利用第一液体形成捕集有微粒的涂膜；利用第二喷嘴向基板上喷射第二液体，并且利用第二液体从基板剥离涂膜；以及利用第三喷嘴向基板上喷出第三液体，并且利用第三液体从基板上去除涂膜，其中，在剥离的步骤中，向基板的整个表面同时喷射第二液体。

公开(公告)号：CN109411389A

公开(公告)日：2019-03-01

申请号：CN201810934866.8

申请日：2018-08-16

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 赵旼熙 ,  刘在赫 ,  吴世勋 ,  金兑根 ,  延蕊林 ,  吴海琳 ,  郑址洙

IPC: H01L21/67

Abstract: 公开涉及一种用于将清洁液供应到基板的装置。清洁液供应单元包括：混合容器，在其内部具有液体混合空间；第一供应构件，其被构造成将第一液体供应到液体混合空间中；第二供应构件，其被构造成将不同于第一液体的第二液体供应到液体混合空间中；以及混合构件，其被构造成将供应到液体混合空间中的第一液体和第二液体进行混合，并且混合构件可包括：循环管线，供在液体混合空间中的液体循环；和压力调节构件，其被构造成向液体提供压力，使得液体混合空间中的液体流入循环管线中，并且被构造成调节压力。