公开(公告)号：CN117153716A

公开(公告)日：2023-12-01

申请号：CN202210575679.1

申请日：2022-05-24

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 丁宣旭 ,  严基象 ,  崔晋镐 ,  崔炳斗 ,  安熙满

IPC: H01L21/67

Abstract: 本发明构思提供了一种基板处理设备。所述基板处理设备包括：处理容器，所述处理容器具有内部空间；支撑单元，所述支撑单元被配置为在所述内部空间内支撑并旋转基板；排气管道，所述排气管道被配置为使所述内部空间排气；以及至少一个引导构件，所述至少一个引导构件与所述处理容器组合并且被配置为引导所述内部空间内的气流，并且其中所述至少一个引导构件被布置为使得当从上方观察时，所述内部空间内的所述气流相对于由所述支撑单元支撑的所述基板的旋转方向倾斜地流动。

公开(公告)号：CN109659265B

公开(公告)日：2023-08-04

申请号：CN201811191568.0

申请日：2018-10-12

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 严基象 ,  崔哲珉 ,  洪南基

IPC: H01L21/68 ,  H01L21/677 ,  G03F7/20

Abstract: 公开了一种基板对准装置、基板处理装置和使用基板对准装置的基板处理方法。基板对准装置和基板处理装置包括支承板和连接至支承板以对转基板的位置的多个引导单元。各引导单元包括用于将基板对准到适当位置的对准销和具有用于支承对准的基板的边缘区域支承表面的固定体，固定部固定地连接至支承板。对准销相对于固定部的支承表面绕对准销的中心轴线为可旋转的，从而快速地对准基板，并因此防止了通过传送机械手在多个处理腔室之间传送的基板脱离或对其他装置具有负面影响。

公开(公告)号：CN116364589A

公开(公告)日：2023-06-30

申请号：CN202211679601.0

申请日：2022-12-26

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 朴恩雨 ,  姜钟和 ,  李隅滥 ,  李晟圭 ,  朴崠云 ,  赵容大 ,  姜东勋 ,  严基象

IPC: H01L21/67 ,  F17D1/04 ,  F17D3/01

Abstract: 本发明提供一种用于基板处理的装置。基板处理装置包括：处理基板的处理单元；以及气体供应单元，所述气体供应单元将气体供应至所述处理单元，其中所述气体供应单元包括第一壳体、第二壳体以及气体供应管道，所述第一壳体具有与所述处理单元的处理空间流体连通的第一内部空间，所述第二壳体设置在所述第一内部空间中并具有与所述第一内部空间流体连通的第二内部空间，所述气体供应管道将气体供应至所述第二内部空间。

公开(公告)号：CN114530396A

公开(公告)日：2022-05-24

申请号：CN202111392170.5

申请日：2021-11-23

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 严基象 ,  宋京院 ,  柳杨烈 ,  徐庚进

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/687

Abstract: 本发明构思的实施方式提供了一种用于处理基板的装置。该装置包括：处理容器，其具有内部空间；支撑单元，其配置为在内部空间中支撑和旋转基板；液体供应单元，其配置为向由支撑单元支撑的基板供应处理液；以及排气单元，其配置为从内部空间排出气流，其中排气单元包括具有入口的气流引导管，所述入口设置为在与支撑在支撑单元上的基板的旋转方向的切线方向上将气流引入气流引导管。

公开(公告)号：CN120015674A

公开(公告)日：2025-05-16

申请号：CN202411626822.0

申请日：2024-11-14

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 严基象 ,  尹一善

IPC: H01L21/677 ,  H01L21/687 ,  H01L21/66

Abstract: 本发明公开了一种用于处理基板的装置，其包括：具有通过其装载基板的入口并具有内部空间的壳体；用于在内部空间中支承基板的支承单元；和用于使支承单元在第一位置与第二位置之间移动的驱动单元；用于将内部空间划分为处理空间和驱动空间、并且具有在从第一位置朝向第二位置延伸的情况下形成的开口的隔板；以及连接到驱动空间以排出驱动空间中的气氛并且设置为相较于第一位置更接近第二位置的排出端口，其中，该支承单元包括：定位在处理空间中并且基板放置在其上的支承板；对支承板进行支承并且通过开口从处理空间延伸到驱动空间的支承轴；和定位为当从上方观察时与开口重叠、并且相对于支承轴朝向第一位置设置的挡板。

公开(公告)号：CN114682420A

公开(公告)日：2022-07-01

申请号：CN202111659759.7

申请日：2021-12-30

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 卢尚垠 ,  严基象 ,  吴昌石

IPC: B05B15/555 ,  B05B13/02 ,  B05B1/26 ,  B05B9/03 ,  H01L21/67

Abstract: 提供一种用于处理衬底的装置。在示例性实施例中，用于处理衬底的装置包括配置成具有上部敞开的处理空间的杯状体、配置成在处理空间中支撑衬底的支撑单元、配置成具有用于向由支撑单元支撑的衬底供应处理液的处理液供应喷嘴的液体供应单元、和位于处理空间的外部且具有供喷嘴在对处理空间中的衬底进行处理前后待机的待机空间且具有用于清洗位于待机空间中的喷嘴的清洗件的喷嘴待机埠，其中喷嘴待机埠包括设置成使得喷嘴的喷嘴尖端可插入的插入孔、和配置成向插入到插入孔中的喷嘴尖端喷洒清洗液的喷洒件，其中清洗液的撞击点与喷嘴尖端的中心间隔开预定距离。

公开(公告)号：CN114530395A

公开(公告)日：2022-05-24

申请号：CN202111391470.1

申请日：2021-11-23

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 严基象 ,  崔晋镐 ,  崔炳斗 ,  李承汉 ,  丁宣旭 ,  金是殷

IPC: H01L21/67

Abstract: 一种基板处理装置，该装置包括：处理容器，其具有内部空间；具有支撑板的支撑单元，其配置为在内部空间中支撑和旋转基板；液体供应单元，其配置为向由支撑单元支撑的基板供应处理液；以及排气单元，其配置为排出内部空间中的气流，其中处理容器包括底壁和从底壁的外端延伸的侧壁，处理容器包括设置在侧壁处的第一气液分离器。

公开(公告)号：CN111261570A

公开(公告)日：2020-06-09

申请号：CN201911145592.5

申请日：2019-11-21

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 严基象 ,  金炳沃 ,  郑载勳 ,  金珠恩 ,  徐准浩 ,  姜湾圭

IPC: H01L21/683 ,  H01L21/67

Abstract: 本发明提供一种基板处理装置。基板处理装置包括：基板支撑部，具有安装面而支撑基板；导环，沿着所述基板支撑部的边缘环形配置，以包裹所述基板；及集中部，设置在所述导环的内部，以与所述安装面平行的方向移动，对所述基板的边缘施加压力，而集中所述基板。

公开(公告)号：CN105321853A

公开(公告)日：2016-02-10

申请号：CN201510454490.7

申请日：2015-07-29

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 严基象 ,  徐钟锡

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/02

CPC classification number: H01L21/67109 ,  H01L21/67178 ,  H01L21/6719 ,  H01L21/67748 ,  H01L21/67103 ,  H01L21/02

Abstract: 本发明构思涉及烘烤单元、包括该单元的基板处理设备以及基板处理方法。烘烤单元包括：壳体；加热单元，加热单元位于壳体中并且包括加热基板的加热板；传送单元，其位于壳体中并且传送基板；以及冷却单元，其冷却加热板或已加热的基板。传送单元包括基板放置在其上的传送板，并且冷却单元被提供给传送板。

公开(公告)号：CN114682420B

公开(公告)日：2024-09-06

申请号：CN202111659759.7

申请日：2021-12-30

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 卢尚垠 ,  严基象 ,  吴昌石

IPC: B05B15/555 ,  B05B13/02 ,  B05B1/26 ,  B05B9/03 ,  H01L21/67

Abstract: 提供一种用于处理衬底的装置。在示例性实施例中，用于处理衬底的装置包括配置成具有上部敞开的处理空间的杯状体、配置成在处理空间中支撑衬底的支撑单元、配置成具有用于向由支撑单元支撑的衬底供应处理液的处理液供应喷嘴的液体供应单元、和位于处理空间的外部且具有供喷嘴在对处理空间中的衬底进行处理前后待机的待机空间且具有用于清洗位于待机空间中的喷嘴的清洗件的喷嘴待机埠，其中喷嘴待机埠包括设置成使得喷嘴的喷嘴尖端可插入的插入孔、和配置成向插入到插入孔中的喷嘴尖端喷洒清洗液的喷洒件，其中清洗液的撞击点与喷嘴尖端的中心间隔开预定距离。