公开(公告)号：CN110047779B

公开(公告)日：2023-09-19

申请号：CN201910031389.9

申请日：2019-01-14

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 徐钟锡

IPC: H01L21/67 ,  G03F7/16

Abstract: 提供了一种用于处理衬底的设备。该设备包括：腔室，该腔室中具有处理空间；衬底支撑单元，该衬底支撑单元用于在处理空间中支撑衬底；以及加热器单元，该加热器单元用于加热由衬底支撑单元支撑的衬底。衬底支撑单元包括：支撑板，该支撑板具有支持面；支撑突出部，该支撑突出部被设置为从支撑板突出并直接支撑衬底；以及传感器，该传感器设置于支撑突出部以测量衬底的温度。

公开(公告)号：CN114334715A

公开(公告)日：2022-04-12

申请号：CN202111152937.7

申请日：2021-09-29

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 金俊镐 ,  李相勋 ,  徐钟锡

IPC: H01L21/67

Abstract: 本发明构思提供一种冷却单元。在一个实施方式中，冷却单元包括：冷却板，其具有安置表面；销构件，其设置在冷却板处并支撑基板；减压孔，其形成在安置表面上；减压路径，其形成在冷却板内并与减压孔连接；减压构件，其用于对减压路径进行减压；和控制器，其用于控制减压构件，其中控制器控制减压构件以对基板与冷却板的安置表面之间的空间进行减压，从而调节基板与冷却板的安置表面之间的距离。

公开(公告)号：CN108022868A

公开(公告)日：2018-05-11

申请号：CN201711042198.X

申请日：2017-10-31

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 金载烈 ,  徐钟锡 ,  金性洙

IPC: H01L21/687 ,  H01L21/67 ,  G03F7/40 ,  G03F7/38

CPC classification number: H01L21/67103 ,  G03F1/68 ,  H01L21/02118 ,  H01L21/02282 ,  H01L21/02318 ,  H01L21/0273 ,  H01L21/68714

Abstract: 本发明构思的实施方式涉及一种用于支撑基板的装置和用于处理基板的方法。基板支撑装置包括：基板支撑构件，所述基板支撑构件包括具有支撑基板的上表面的支撑板；以及加热构件，所述加热构件设置在支撑板中以加热基板，其中，支撑板的区域具有缓冲区域，所述缓冲区域中形成有缓冲空间，用于限制从加热构件向上表面提供的热量的传热递率。缓冲空间使中心区域和周边区域绝缘，从而使中心区域和周边区域之间的温度差最大化。

公开(公告)号：CN108022868B

公开(公告)日：2021-12-14

申请号：CN201711042198.X

申请日：2017-10-31

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 金载烈 ,  徐钟锡 ,  金性洙

IPC: H01L21/687 ,  H01L21/67 ,  G03F7/40 ,  G03F7/38

Abstract: 本发明构思的实施方式涉及一种用于支撑基板的装置和用于处理基板的方法。基板支撑装置包括：基板支撑构件，所述基板支撑构件包括具有支撑基板的上表面的支撑板；以及加热构件，所述加热构件设置在支撑板中以加热基板，其中，支撑板的区域具有缓冲区域，所述缓冲区域中形成有缓冲空间，用于限制从加热构件向上表面提供的热量的传热递率。缓冲空间使中心区域和周边区域绝缘，从而使中心区域和周边区域之间的温度差最大化。

公开(公告)号：CN107546123A

公开(公告)日：2018-01-05

申请号：CN201710481475.0

申请日：2017-06-22

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 金性洙 ,  徐钟锡

IPC: H01L21/324 ,  H01L21/67

CPC classification number: H01L21/67103 ,  H01L21/67109

Abstract: 公开了一种加热基板的加热单元。该加热单元包括：壳体，其在其内部提供处理空间；加热板，其在处理空间中支撑基板；加热构件，其设置在加热板中并且被配置为对由加热板支撑的基板进行加热处理；排气构件，其被配置为将在壳体的内部空间中的气体排出；和外部气体供给部件，其安装在壳体中并且被配置为将外部气体供给到处理空间中，其中外部气体供给部件包括：多个入口，其设置在壳体中；和多个流速调节构件，其分别安装在入口中并且被配置为调节被引入到入口中的外部气体的流速。

公开(公告)号：CN105321853A

公开(公告)日：2016-02-10

申请号：CN201510454490.7

申请日：2015-07-29

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 严基象 ,  徐钟锡

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/02

CPC classification number: H01L21/67109 ,  H01L21/67178 ,  H01L21/6719 ,  H01L21/67748 ,  H01L21/67103 ,  H01L21/02

Abstract: 本发明构思涉及烘烤单元、包括该单元的基板处理设备以及基板处理方法。烘烤单元包括：壳体；加热单元，加热单元位于壳体中并且包括加热基板的加热板；传送单元，其位于壳体中并且传送基板；以及冷却单元，其冷却加热板或已加热的基板。传送单元包括基板放置在其上的传送板，并且冷却单元被提供给传送板。

公开(公告)号：CN114171429A

公开(公告)日：2022-03-11

申请号：CN202111051488.7

申请日：2021-09-08

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 金俊镐 ,  李相勋 ,  徐钟锡 ,  张镐镇 ,  宋京院

IPC: H01L21/67

Abstract: 本发明构思提供了一种烘烤单元以及用于处理基板的装置。烘烤单元包括：壳体，该壳体具有上盖和下框架，该上盖和该下框架组合提供用于基板的热处理的处理空间；加热器，该加热器设置在处理空间中、以用于加热放置在该加热器上的基板；加热器杯状物，该加热器杯状物配置为围绕该加热器；以及第一吹扫气体供应单元，该第一吹扫气体供应单元用于提供第一吹扫气体流以阻止外部空气通过下框架与加热器杯状物之间的间隙流入。

公开(公告)号：CN112397419A

公开(公告)日：2021-02-23

申请号：CN202010836120.0

申请日：2020-08-19

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 李承汉 ,  崔从洙 ,  徐钟锡 ,  徐准浩 ,  郑煐宪 ,  徐庚进 ,  李政炫 ,  裵文炯 ,  裵相真

IPC: H01L21/67

Abstract: 本发明的实施例提供一种基板处理装置。该基板处理装置包括：腔室，在内部具备处理空间；气体流入单元，使气体流入上述处理空间；其中，上述气体流入单元包括：导入管，使气体导入；排出板，形成有排出通过上述导入管导入的气体的排出孔；其中，上述排出孔按上述排出板的不同区域以不同稠密度排列。

公开(公告)号：CN110047779A

公开(公告)日：2019-07-23

申请号：CN201910031389.9

申请日：2019-01-14

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 徐钟锡

IPC: H01L21/67 ,  G03F7/16

Abstract: 提供了一种用于处理衬底的设备。该设备包括：腔室，该腔室中具有处理空间；衬底支撑单元，该衬底支撑单元用于在处理空间中支撑衬底；以及加热器单元，该加热器单元用于加热由衬底支撑单元支撑的衬底。衬底支撑单元包括：支撑板，该支撑板具有支持面；支撑突出部，该支撑突出部被设置为从支撑板突出并直接支撑衬底；以及传感器，该传感器设置于支撑突出部以测量衬底的温度。

公开(公告)号：CN106971960A

公开(公告)日：2017-07-21

申请号：CN201610932597.2

申请日：2016-10-25

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 李银卓 ,  徐钟锡

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/02

CPC classification number: C23C16/4412 ,  C23C16/455 ,  H01L21/0274 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/67011 ,  H01L21/02 ,  H01L2221/67

Abstract: 本发明公开了用于处理基板的装置和方法。所述装置可以包括：处理腔室，所述处理腔室包括彼此联接以限定处理空间的上腔室和下腔室；支撑单元，所述支撑单元被设置在所述处理空间内以支撑基板；以及排气元件，所述排气元件被配置成从所述处理空间或所述处理空间的相邻区域排出空气。所述排气元件可以包括与外排气孔连接的外排气管线，以及所述外排气孔可以形成在所述上腔室或所述下腔室中或穿过所述上腔室或所述下腔室形成且可以与所述上腔室和所述下腔室彼此接触的位置处的接触表面连接。